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株式会社イー・スクエア

  • 京都府
  • 1999年
  • メーカー
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会社概要

1999年8月設立、IC製造前工程に使用されるドライエッチングガス(PFC`s)用プラズマ式排気ガス処理装置開発製造販売。
2000年、大気圧プラズマでの同PFCガス分解及びポリマー化で同性能を確立。
2001年、大気圧プラズマの応用技術として、表示デバイス市場等への洗浄、親水処理、表面改質技術を確立、液晶市場を中心に種々の アプリケーションを開発後、国内外液晶市場・タッチパネル市場、光学フィルム市場に販売累計1200台以上(2021年現在実績)の販売実績を誇る。現在は大気圧プラズマシステム専業メーカーとして、種々の実験装置や同プラズマのアプリケーションの開発を行っている。

事業内容

大気圧プラズマ表面処理装置開発製造・販売。及びアプリケーション開発

①ダウンストリーム型(Preciseシリーズ)
 半導体素子、液晶基板等へのダメージレス処理・ 
 particle free化を実現
(処理幅200mm幅~G10.5(2950mm)への均一処理)

②プラナー型(PrecisePシリーズ)
 処理幅100mm幅~1500mm R to R対応

③スポット型 (Precise Sシリーズ) 照射幅5mm~25mm(ヘッド固定・回転式) 低価格280万円~
 使用ガスはN2またはDry Air・Ar

④各種ラボ用実験機設計製造・立ち合い実験可能

会社沿革

1999/08 IC製造前工程で排出される温室効果ガスPFC(パ ーフロロカーボン等の除害装置の開発製造を目的に設立
1999/09 常圧・大気圧プラズマ装置の開発
2000/10 PFCプラズマ分解装置GreenStar1号機の出荷
2002/09 大気圧プラズマ表面改質装置の製造販売
2004/04 創造法認定
2004/11 奈良先端科学技術大学院大学とプラズマ技術に
関する共同研究の締結
2005/04 産学連携顕彰制度LIAISON特別賞受賞
2006/10 台湾事務所設置
2007/05 Exsurfシリーズ販売
2008/03 京都学園大学と大気圧プラズマを用いた滅菌殺    
    菌に関する共同開発
2008/07 経営革新計画の承認を得る
2010/01 Preciseシリーズの販売
   /02 京都中小企業優秀技術賞受賞
2013/08 H24年度ものづくり中小企業小規模事業者試作 
    開発支援補助援助金交付決定
2014/04 台湾政府研究機関ITRIと大気圧プラズマによる透
    明導電膜(ZnOx)の成膜装置の開発
2015/04 中国上海事務所開設
2016/09 H26年度補正ものづくり商業サービス革新補助   
    金交付採択される
2019/03 日本表面真空学会第159定例研究会に於いて、 
    (大気圧プラズマの最前線)の講演
2019/07 コンバーティングテクノロジーセミナー2019に  
    於いて、異種材接合技術にて講演
2020/07 大気圧プラズマ装置出荷台数1200台を超える

主要取引先

国内:ソニー・三菱電機・セイコーエプソン・東レ・コニカミノルタ・JDI・JOLED・シャープ・
SDP・京セラ・日本電気硝子・凸版・東レエンジニアリング・スタンレー・キャノン・アルプスアルパイン・ HOYA・NISSHA・日本板硝子・帝人・住友化学・パナソニック・芝浦機械・DNS・東京大学・早稲田大学・名古屋大学・名古屋産業振興公社・国立産業総合研究所・その他公共機関・その他

台湾:INNOLUX・AUO・HANSTER・財団法人工業技術研究院(ITRI)・鴻海精密工業・その他

中国:BOE・CSOT・CHOT・PANDA・SOI・SDP ・TPK・BOEN・TOKEN・天馬微電子・B.Y.D・華佳彩 その他



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株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置 ダウンストリーム型(Preciseシリーズ)

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製品はPreciseシリーズです。完全に処理ダメージを排除し、幅広表面への均一な処理が可能です。 装置価格は装置のプラズマ幅 (200mmから...

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2022年7月12日


会社基本情報

郵便番号 〒613-0032
本社住所 京都府久世郡久御山町栄二丁目1番地210
創業年 1999年
資本金 81,500,000円
法人番号 1130001033299
会社区分 メーカー
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