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株式会社サクラクレパス
株式会社日立ハイテク
住友精密工業株式会社
神港精機株式会社
サムコ株式会社
株式会社片桐エンジニアリング
オーキット材料システム株式会社

プラズマエッチング装置
メーカー8社・33製品 【2024年】

プラズマエッチング装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、プラズマエッチング装置のメーカー8社一覧企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。プラズマエッチング装置関連企業の2024年11月注目ランキングは1位:株式会社サクラクレパス、2位:サムコ株式会社、3位:株式会社日立ハイテクとなっています。

目次

プラズマエッチング装置の関連キーワード

プラズマエッチング装置のカタログ16件をまとめてダウンロードできます!

株式会社サクラクレパスのプラズマエッチング装置のカタログ
株式会社魁半導体のプラズマエッチング装置のカタログ
新明和工業株式会社のプラズマエッチング装置のカタログ
株式会社イー・スクエアのプラズマエッチング装置のカタログ
株式会社イー・スクエアのプラズマエッチング装置のカタログ
株式会社イー・スクエアのプラズマエッチング装置のカタログ
テルモセラ・ジャパン株式会社のプラズマエッチング装置のカタログ
テルモセラ・ジャパン株式会社のプラズマエッチング装置のカタログ
テルモセラ・ジャパン株式会社のプラズマエッチング装置のカタログ
テルモセラ・ジャパン株式会社のプラズマエッチング装置のカタログ
テルモセラ・ジャパン株式会社のプラズマエッチング装置のカタログ
テルモセラ・ジャパン株式会社のプラズマエッチング装置のカタログ


プラズマエッチング装置メーカー 8社

*一部商社などの取扱い企業なども含みます。

株式会社サクラクレパスのプラズマエッチング装置
プラズマ中の活性種により変色する機能性色材を用いた評価ツール。「セラミックタイプ」は 無機色材をウエハ上に形成し、耐熱性を400℃まで高めました。「メタルフリータイプ」は有機色材のみ使用、より清浄性をたかめ、前工程にもお使いいただけます。


プラズマエッチング装置 2024年11月のメーカーランキング

*一部商社などの取扱い企業なども含みます

注目ランキング導出方法について

注目ランキングは、2024年11月のプラズマエッチング装置ページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。

社員数の規模

  1. 日立ハイテク: 11,903人
  2. サクラクレパス: 1,600人
  3. 住友精密工業: 1,096人

設立年の新しい会社

  1. オーキット材料システム: 2003年
  2. 片桐エンジニアリング: 1991年
  3. サムコ: 1979年

歴史のある会社

  1. サクラクレパス: 1921年
  2. 日立ハイテク: 1947年
  3. 神港精機: 1949年

33 点の製品がみつかりました

33 点の製品

ジャパンクリエイト株式会社

2周波独立印加方式 ドライエッチング装置

化学業界用 電子・電気機器業界用

280人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

100.0% 返答率

185.3時間 返答時間

■概要 最大φ12インチ基板を全自動で連続処理することが可能な量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング及びイオン...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易い大気装入方式で実現 PlasmaPro 80 RIE

190人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

■概要 PlasmaPro 80 リアクティブイオンエッチング (RIE) は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD

200人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

PlasmaPro 800は、プラズマ励起化学気相堆積 (PECVD) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチと300mmウェハにおいて、コンパクトな専有面積か...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

RIEプロセスの柔軟なソリューションをコンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現 PlasmaPro 800 RIE

150人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

■概要 PlasmaPro 800 RIE は、リアクティブイオンエッチング (RIE) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチや300mmウェハにおいて、コンパク...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

低ダメージで平滑な表面が実現 PlasmaPro 100 ALE 原子層エッチングシステム

200人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

■概要 PlasmaPro 100 ALE原子層エッチングシステムにより、次世代半導体デバイスのエッチングを正確にコントロールすることが可能になります。GaN HEMTアプリ...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

高速なエッチングレートを実現 PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE エッチングシステム

330人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

■概要 PlasmaPro 100 Cobra ICP RIEシステムでは、高密度誘導結合プラズマを使用して、高速なエッチングレートを実現します。このプロセスモジュールは、GaAs...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

DRIEアプリケーション用プラットフォーム PlasmaPro 100 Estrelas DRIE

210人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

PlasmaPro 100 Estrelas プラットフォームは、ディープ リアクティブイオン エッチング (DRIE) アプリケーション用に、総合的なフレキシビリティが実現するよ...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

枚葉式ICP RIEエッチング装置 PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE

170人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

PlasmaPro 100 Polaris は、高い競争力を維持するために必要なエッチング性能により、スマートなソリューションを提供する枚葉式エッチングシステムです。GaN...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

広範なプロセスに対応した等方性・異方性ドライエッチング PlasmaPro 100 RIE

160人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

PlasmaPro 100 RIE モジュールにより、広範なプロセスに対応した等方性・異方性ドライエッチングが実現します。研究および製造のお客様に適しており、ロード...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

便利なオープンローディングで多目的なICPエッチングソリューションを提供 PlasmaPro 80 ICP RIE

180人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

■概要 ・PlasmaPro 80 ICP RIEは、コンパクトで設置面積が小さく、便利なオープンローディングで多目的なICPエッチングソリューションを提供するシステムです...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

コンパクトな多様なエッチングとデポジションのソリューション PlasmaPro 80 PECVD

200人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

PlasmaPro 80は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易いオープンロード方式で実現します。...


神港精機株式会社

プラズマ エッチング装置 EXAM

310人以上が見ています

最新の閲覧: 20時間前

EXAMは半導体量産用装置のノウハウを生かした複数の目的にも対応可能な多目的プラズマエッチング装置です。 ガス系やプラズマモードの切り替えによりエッチン...


神港精機株式会社

高密度 プラズマ装置 SWP

270人以上が見ています

最新の閲覧: 15時間前

大面積に均一な高密度プラズマが生成可能な表面波プラズマ (SWP) を採用し、アッシング・表面処理等多くの用途で活躍中です。 H2ラジカルによるダメージレス...


神港精機株式会社

ICPプラズマ エッチング装置 SERIO

230人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

SERIO は高密度ICPプラズマソースを搭載した高密度プラズマエッチング装置です。独自開発プロセスにより、高い垂直性とエッチング表面の平滑性を実現しました...


神港精機株式会社

プラズマ処理装置 マルチチャンバ ICP エッチング装置

330人以上が見ています

エッチング室を複数装備できる新型マルチチャンバタイプエッチング装置です。 新開発ICPエッチングチャンバを2室装備可能 ・同装置は従来のMEMSプロセスSi深...


株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャー加熱機構付 CPE-200AHM

220人以上が見ています

最新の閲覧: 26分前

100.0% 返答率

120.0時間 返答時間

SiO2やSiのエッチングや有機物のアッシングを、加熱することで高速・高効率に。 ■製品概要 ・プラズマエッチャーCPEシリーズに、ステージ加熱付きが新登場 ...


株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャーセミオートシリーズ CPE-Sシリーズ

230人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

100.0% 返答率

120.0時間 返答時間

PTFE (テフロン) の親水化。各種素材の撥水処理。ガラス膜の形成。など ■製品概要 ・プラズマ装置CPEシリーズにお手頃価格のセミオートシリーズが新登場...


株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャー CPEシリーズ

230人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 返答時間

SiO2やSiのエッチングなど。半導体集積回路などの微細回路を作製。 ■製品概要 ・コンパクト ・簡単な操作性 ・タッチパネル操作 (オート、マニュアル)


株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャー CPE-Bシリーズ

220人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

120.0時間 返答時間

テフロン表面の親水化や不織布の撥水化など。 ■用途 ・PTFE (テフロン) の親水化 (要NH3) ・各種素材の撥水処理 (要CF4) ・シリコン膜 (基板) ...

2種類の品番

CPE-100B-真空 プラズマエッチャー CPE-Bシリーズ
CPE-1000B-真空 プラズマエッチャー CPE-Bシリーズ

アルバック販売株式会社

研究開発向け 高密度プラズマエッチング装置 NE-550EX

80人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

125.8時間 返答時間

■概要 研究開発向け高密度プラズマエッチング装置NE-550EXは、有磁場ICP (ISM=Inductively Super Magnetron) 方式の高密度プラズマエッチング装置、枚葉式でL...


アルバック販売株式会社

高密度プラズマドライエッチング装置 ULHITETM NE-7800H

50人以上が見ています

100.0% 返答率

125.8時間 返答時間

■概要 高密度プラズマドライエッチング装置ULHITETM NE-7800HはFeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAMなどに用いられる難エッチング材料 (強誘電体、貴金属、磁性膜等) ...


アルバック販売株式会社

量産用ドライエッチング装置 NE-5700/NE-7800

60人以上が見ています

100.0% 返答率

125.8時間 返答時間

■概要 量産用ドライエッチング装置NE-5700/NE-7800は、1チャンバーからマルチチャンバーに対応し、コストパフォーマンスを重視した拡張性あるエッチング装置...


アルバック販売株式会社

オプトデバイス、MEMS向け ドライエッチング装置 NLD-5700

60人以上が見ています

100.0% 返答率

125.8時間 返答時間

■概要 オプトデバイス、MEMS向けドライエッチング装置NLD-5700は、磁気中性線プラズマ (NLD) 源を搭載した量産用ドライエッチング装置です。 (アルバックが独...


アルバック販売株式会社

研究開発向けNLDドライエッチング装置 NLD-570

60人以上が見ています

最新の閲覧: 9時間前

100.0% 返答率

125.8時間 返答時間

■概要 研究開発向けNLDドライエッチングNLD-570は、アルバックが独自に開発した磁気中性線プラズマ (NLD) による低圧・低電子温度・高密度プラズマを搭載した...


アルバック販売株式会社

バッチ式自然酸化膜除去装置 RISETM-300

60人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

100.0% 返答率

125.8時間 返答時間

■概要 バッチ式自然酸化膜除去装置RISETM-300は、LSIのDeep-contact底部など困難な自然酸化膜除去に対応するバッチ式プリクリーン装置です。対象ウェーハ200m...


新着

キヤノンアネルバ株式会社

クラスター MRAM用ドライエッチング装置 NC8000

10人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

大口径イオンビーム、クランプレスのIBEモジュールで高い加工性能を実現するMTJ素子加工向けのエッチング装置です。 従来の反応性エッチングでは加工が困難...


新着

キヤノンアネルバ株式会社

クラスター MRAM用ドライエッチング装置 EC8000

最新の閲覧: 10時間前

メタノールガスによる低ダメージプロセス、保護膜形成までを一括処理するMTJ素子加工向けのエッチング装置です。 MRAM磁性積層膜のマスク・MTJの加工 (ドラ...


新明和工業株式会社

薄膜・表面改質技術&装置 イオンエッチング装置 IEシリーズ

50人以上が見ています

最新の閲覧: 22時間前

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■イオンエッチング装置とは イオンエッチングとはイオン化された原子を対象物に衝突させ、物理的に削る技術の一つです。当社では独自のイオンエッチング技術...


新明和工業株式会社

薄膜・表面改質技術&装置 イオンエッチング装置 cIEシリーズ

30人以上が見ています

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■イオンエッチング装置とは イオンエッチングとはイオン化された原子を対象物に衝突させ、物理的に削る技術の一つです。当社では独自のイオンエッチング技術...


新明和工業株式会社

薄膜・表面改質技術&装置 プラズマイオン処理装置

30人以上が見ています

最新の閲覧: 18時間前

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■プラズマイオン処理装置とは プラズマイオン処理はプラズマにより生成されたイオンを用いて表面改質を行う技術です。応用事例としては、窒化処理や金属加工...


プラズマエッチング装置のカタログ 16件


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株式会社サクラクレパスのプラズマエッチング装置のカタログ
株式会社魁半導体のプラズマエッチング装置のカタログ
新明和工業株式会社のプラズマエッチング装置のカタログ
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株式会社イー・スクエアのプラズマエッチング装置のカタログ
テルモセラ・ジャパン株式会社のプラズマエッチング装置のカタログ
テルモセラ・ジャパン株式会社のプラズマエッチング装置のカタログ
テルモセラ・ジャパン株式会社のプラズマエッチング装置のカタログ
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