プラズマエッチング装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、プラズマエッチング装置のメーカー7社一覧や企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。プラズマエッチング装置関連企業の2024年3月注目ランキングは1位:株式会社アルバック、2位:神港精機株式会社、3位:株式会社日立ハイテクとなっています。
プラズマエッチング装置とは、半導体のLSI製造などの微細加工分野において、プラズマ化したガスを用いたエッチング装置です。
LSI (大規模集積回路) やその原版となるフォトマスク、スマートフォンのディスプレイなどは、基板上に非常に微細なパターンの形成を経て出来上がります。この工程で、現像工程に続くのがエッチング工程です。エッチングでは、現像されたレジストパターンに沿ってその下にあるシリコンやシリコンの酸化膜、金属膜等を削っていきます。
LSIの高集積化やディスプレイの高精細化が進むにつれて、パターンの微細化が進行しました。プラズマエッチング装置は、微細なパターンの形成に必要不可欠な装置です。
プラズマエッチング装置は、半導体デバイスの中でもメモリーやCPUなどの微細化と高集積化が進んだデバイス、フラットパネルディスプレイの中でもスマートフォンのような高詳細化が進んだディスプレイの製造工程で使用されます。これらのデバイスの製造においては、露光、現像、エッチング、レジスト剥離の工程を何回も繰り返します。フォトマスク上のパターンを光 (レーザー光) を使ってレジスト上に転写するのが露光工程です。
それに続く現像工程では、レジストの露光された部分 (あるいは露光されていない部分) を薬液によって除去します。その後に、レジストが除去された部分に露出したシリコンや金属膜を削るのがエッチング工程です。最後に、剥離工程においてレジストを除去することで、目的のパターンが基板上に形成されます。
エッチングには、薬液を使ってシリコンや金属膜を溶解するウエットエッチングと、プラズマ化した気体中のイオン粒子を使って削り取るドライエッチングがあります。ウエットエッチングでは、薬液がレジストの下部まで回り込み、エッチングが垂直方向以外にも進行するのが欠点です。
これに対してドライエッチングでは、エッチングがレジストパターンに沿って綺麗に垂直方向に進みます。プラズマ化したガスを使用することから、その装置をプラズマエッチング装置と言います。
プラズマエッチング装置は、真空チャンバーの中に、現像工程が終了したウエハーなどの被加工材料を置きます (以降、加工材料をウエハーで代表します) 。真空チャンバー内では、ウエハーを挟むように電極板が配置されています。すなわち、ウエハーを水平に置いた場合には、その上部と下部にあるのが電極板です。
チャンバーの中を真空にした後に、チャンバー内に加工用のガスを注入します。シリコンやシリコン酸化膜のエッチングには、フルオロカーボン系ガス(CF4, CHF3, C4F8など)やSF6ガスが使われます。金属膜のエッチングに使われるガスは、ハロゲン系ガス (Cl2, BCl3, HBrなど) です。有機系材料のエッチングには、酸素ガスや水素ガスが使われます。
チャンバーに高周波の電界をかけたり、磁界をかけたりすると、エッチングガスは電子とイオンが分離したプラズマ状態となります。そこに電極間に電圧をかけると電界が生じ、イオンがウエハーに叩きつけられる仕組みです。ウエハーにイオンが叩きつけられると、上部をレジストで守られていない、下地が露出した部分では、その部分の原子が弾き飛ばされて徐々に削られていきます。
プラズマエッチング装置はプラズマの発生方法によって、容量結合プラズマ (英: CCP, Capacitively Coupled Plasma) 方式、誘導結合プラズマ (英: ICP, Inductively Coupled Plasma) 方式、マイクロ波ECRプラズマ (英: ECR, Electron Cyclotron Resonance) 方式などがあります。容量結合プラズマ方式は、上下に配置された2枚の円盤状の電極板の間で、高周波の電界をかけてプラズマを発生させると同時に、下側の電極板の上に置いた加工物に電解で加速したイオンをぶつけることでエッチングが進行します。
他の2種類はプラズマの生成方法は複雑になりますが、加速したイオンでエッチングを行う原理は3種類とも同じです。
参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jjspe/77/2/77_2_162/_pdf
http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2007_04/jspf2007_04-319.pdf
https://www.semijapanwfd.org/manufacturing_process.html
*一部商社などの取扱い企業なども含みます。
2024年3月の注目ランキングベスト7
注目ランキング導出方法順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | 株式会社アルバック |
20.6%
|
2 | 神港精機株式会社 |
19.1%
|
3 | 株式会社日立ハイテク |
17.6%
|
4 | 住友精密工業株式会社 |
13.2%
|
5 | ヌヴォトンテクノロジージャパン株式会社 |
13.2%
|
6 | 株式会社サクラクレパス |
8.8%
|
7 | サムコ株式会社 |
7.4%
|
注目ランキング導出方法について
注目ランキングは、2024年3月のプラズマエッチング装置ページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。社員数の規模
設立年の新しい会社
歴史のある会社
製品の閲覧数をもとに算出したランキング
電話番号不要
何社からも電話がかかってくる心配はありません
まとめて見積もり
複数社に何度も同じ内容を記入する必要はありません
返答率96%以上
96%以上の方がメーカーから返答を受け取っています
平均返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話がかかってくる心配はありません
まとめて見積もり
複数社に何度も同じ内容を記入する必要はありません
返答率96%以上
96%以上の方がメーカーから返答を受け取っています
18 点の製品がみつかりました
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
160人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の早い企業
100.0% 返答率
8.0時間 平均返答時間
■概要 PlasmaPro 100 Cobra ICP RIEシステムでは、高密度誘導結合プラズマを使用して、高速なエッチングレートを実現します。このプロセ...
神港精機株式会社
150人以上が見ています
最新の閲覧: 42分前
EXAMは半導体量産用装置のノウハウを生かした複数の目的にも対応可能な多目的プラズマエッチング装置です。 ガス系やプラズマモードの切...
神港精機株式会社
140人以上が見ています
最新の閲覧: 42分前
大面積に均一な高密度プラズマが生成可能な表面波プラズマ (SWP) を採用し、アッシング・表面処理等多くの用途で活躍中です。 H2ラジカ...
神港精機株式会社
130人以上が見ています
最新の閲覧: 41分前
SERIO は高密度ICPプラズマソースを搭載した高密度プラズマエッチング装置です。独自開発プロセスにより、高い垂直性とエッチング表面の...
株式会社魁半導体
130人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
100.0% 返答率
SiO2やSiのエッチングなど。半導体集積回路などの微細回路を作製。 ■製品概要 ・コンパクト ・簡単な操作性 ・タッチパネル操作 (オー...
株式会社魁半導体
130人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
100.0% 返答率
PTFE (テフロン) の親水化。各種素材の撥水処理。ガラス膜の形成。など ■製品概要 ・プラズマ装置CPEシリーズにお手頃価格のセミオ...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
110人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の早い企業
100.0% 返答率
8.0時間 平均返答時間
■概要 PlasmaPro 100 ALE原子層エッチングシステムにより、次世代半導体デバイスのエッチングを正確にコントロールすることが可能になり...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
100人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の早い企業
100.0% 返答率
8.0時間 平均返答時間
PlasmaPro 800は、プラズマ励起化学気相堆積 (PECVD) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチと300mmウェハにおいて、コ...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
100人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の早い企業
100.0% 返答率
8.0時間 平均返答時間
PlasmaPro 100 Estrelas プラットフォームは、ディープ リアクティブイオン エッチング (DRIE) アプリケーション用に、総合的なフレキシ...
株式会社魁半導体
100人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
100.0% 返答率
SiO2やSiのエッチングや有機物のアッシングを、加熱することで高速・高効率に。 ■製品概要 ・プラズマエッチャーCPEシリーズに、ステー...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
100人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の早い企業
100.0% 返答率
8.0時間 平均返答時間
PlasmaPro 80は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易いオープンロー...
株式会社魁半導体
100人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
100.0% 返答率
テフロン表面の親水化や不織布の撥水化など。 ■用途 ・PTFE (テフロン) の親水化 (要NH3) ・各種素材の撥水処理 (要CF4) ・...
2種類の品番
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
80人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の早い企業
100.0% 返答率
8.0時間 平均返答時間
■概要 ・PlasmaPro 80 ICP RIEは、コンパクトで設置面積が小さく、便利なオープンローディングで多目的なICPエッチングソリューションを...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
80人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の早い企業
100.0% 返答率
8.0時間 平均返答時間
■概要 PlasmaPro 80 リアクティブイオンエッチング (RIE) は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジショ...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
80人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の早い企業
100.0% 返答率
8.0時間 平均返答時間
■概要 PlasmaPro 800 RIE は、リアクティブイオンエッチング (RIE) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチや300mmウェ...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
60人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の早い企業
100.0% 返答率
8.0時間 平均返答時間
PlasmaPro 100 RIE モジュールにより、広範なプロセスに対応した等方性・異方性ドライエッチングが実現します。研究および製造のお客様...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
60人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の早い企業
100.0% 返答率
8.0時間 平均返答時間
PlasmaPro 100 Polaris は、高い競争力を維持するために必要なエッチング性能により、スマートなソリューションを提供する枚葉式エッチ...
Metoreeに登録されているプラズマエッチング装置が含まれるカタログ一覧です。無料で各社カタログを一括でダウンロードできるので、製品比較時に各社サイトで毎回情報を登録する手間を短縮することができます。
カタログを企業ごとに探す
カタログを種類ごとに探す
「プラズマ見える化」ツール プラズマインジケータの製品カタログです。
2024年1月11日
◆取扱装置・真空プラズマ装置・大気圧プラズマ装置・粉体処理も可能ーーーーー魁半導体はこれらすべての技術に対応でき、豊富なラインナップを持つ唯一のメー...
2023年7月3日
大気圧プラズマを用いたダイレクト接着の一例を紹介しています。接着界面にダメージを与えない分子結合を主体にした結果の一例です。光学レンズ・光学フィル...
2023年3月29日
過去、講演会等に用いた資料で、弊社が製造する大気圧プラズマ装置の基本的概念や装置性能、設計思想、使用実績アプリケーション等、性能検証方法等を紹介さ...
2022年7月12日
フッ素樹脂への塗布性能向上や銅箔や異種材フィルム等への接着をお考えの場合、弊社の分子結合接着技術を是非ご検討ください。接着界面にダメージを与えず、...
2023年3月17日
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。 MiniLab R&D用実験装置シ...
2022年8月5日
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"...
2022年8月5日
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置下記蒸着源から組合せが可能・抵抗加熱蒸着源 x 最大4・有機蒸着源 x 最大4・電子ビーム蒸着・2inchマグネ...
2022年8月5日
蒸着装置『MiniLab-080フレキシブル薄膜実験装置』蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一...
2022年8月5日
蒸着装置『MiniLab-090フレキシブル薄膜実験装置』80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブ...
2022年8月5日
【nanoETCH(ナノエッチ)】Model. ETCH5A<30W、制御精度10mA 安定性の高い低出力RFエッチングコントロールにより、精細でダメージレスなエッチング処理を...
2023年9月15日
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ - 蒸着、など)をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシ...
2023年9月16日
不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。 【特徴】・高真空対応・Φ2inch...
2023年9月15日
半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。【Nano Benchtopシリーズ】コンパクトサイズ・ハイパフォ...
2023年9月15日
プラズマエッチング装置のカタログ15件分をまとめてダウンロードできます!お迷いの方は便利な無料の一括ダウンロード機能をご利用ください。
企業
株式会社サクラクレパス 株式会社魁半導体 株式会社イー・スクエア テルモセラ・ジャパン株式会社 ナノテック株式会社