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プラズマエッチング装置 メーカー8社

プラズマエッチング装置のメーカー8社一覧企業ランキングを掲載中!プラズマエッチング装置関連企業の2025年6月注目ランキングは1位:株式会社サクラクレパス、2位:サムコ株式会社、3位:住友精密工業株式会社となっています。 プラズマエッチング装置の概要、用途、原理もチェック!

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8プラズマエッチング装置メーカー


プラズマエッチング装置 2025年6月のメーカーランキング


34 点の製品がみつかりました

34 点の製品

株式会社新興精機

真空プラズマエッチング装置 VITAシリーズ VITA8

20人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

34.1時間 返答時間

VITAシリーズは、研究や試作目的の使用に開発されました。簡単な操作で使用でき、エッチングやアッシングに最適です。


パナソニックインダストリー株式会社

FA 半導体関連システム ドライエッチャー APX300

120人以上が見ています

最新の閲覧: 13時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

APX300は、6インチ以下のウエハーに対して多数枚同時処理が可能な全自動のバッチ処理ドライエッチング装置で、ø4“×7、ø6”×3枚のウエハの...


株式会社新興精機

真空プラズマエッチング装置 VITAシリーズ VITA12

20人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

34.1時間 返答時間

VITAシリーズは、研究や試作目的の使用に開発されました。簡単な操作で使用でき、エッチングやアッシングに最適です。


新明和工業株式会社

薄膜・表面改質技術&装置 イオンエッチング装置 IEシリーズ

160人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■イオンエッチング装置とは イオンエッチングとはイオン化された原子を対象物に衝突させ、物理的に削る技術の一つです。当社では独自の...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

低ダメージで平滑な表面が実現 PlasmaPro 100 ALE 原子層エッチングシステム

390人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

25.1時間 返答時間

■概要 PlasmaPro 100 ALE原子層エッチングシステムにより、次世代半導体デバイスのエッチングを正確にコントロールすることが可能になり...


アルバック販売株式会社

研究開発向け 高密度プラズマエッチング装置 NE-550EX

360人以上が見ています

最新の閲覧: 20時間前

100.0% 返答率

254.6時間 返答時間

■概要 研究開発向け高密度プラズマエッチング装置NE-550EXは、有磁場ICP (ISM=Inductively Super Magnetron) 方式の高密度プラズマエッ...


神港精機株式会社

プラズマ処理装置 マルチチャンバ ICP エッチング装置

620人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

エッチング室を複数装備できる新型マルチチャンバタイプエッチング装置です。 新開発ICPエッチングチャンバを2室装備可能 ・同装置は従...


株式会社LDF

レーザエッチングシステム CTET-LD

230人以上が見ています

最新の閲覧: 15時間前

■特長 ・ITO膜の除去性能を重視した光学パーツの選択と光学設計を施しています。 ・レーザ光線をガルバノメータで振っても、標準装備の...


アルバック販売株式会社

量産用ドライエッチング装置 NE-5700/NE-7800

310人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

254.6時間 返答時間

■概要 量産用ドライエッチング装置NE-5700/NE-7800は、1チャンバーからマルチチャンバーに対応し、コストパフォーマンスを重視した拡張...


ジャパンクリエイト株式会社

2周波独立印加方式 ドライエッチング装置

化学業界用 電子・電気機器業界用

550人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

129.3時間 返答時間

■概要 最大φ12インチ基板を全自動で連続処理することが可能な量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、...


新明和工業株式会社

薄膜・表面改質技術&装置 イオンエッチング装置 cIEシリーズ

110人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■イオンエッチング装置とは イオンエッチングとはイオン化された原子を対象物に衝突させ、物理的に削る技術の一つです。当社では独自の...


テルモセラ・ジャパン株式会社

nanoETCH ソフトエッチング装置 Model. ETCH5A

120人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

29.2時間 返答時間

■概要 <30W (制御精度10mW) 低出力 RFエッチングによるダメージレスエッチング欧州アカデミックパートナーとの共同開発技術「Soft-Etchi...


株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャー加熱機構付 CPE-200AHM

450人以上が見ています

100.0% 返答率

48.8時間 返答時間

SiO2やSiのエッチングや有機物のアッシングを、加熱することで高速・高効率に。 ■製品概要 ・プラズマエッチャーCPEシリーズに、ステー...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

高速なエッチングレートを実現 PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE エッチングシステム

580人以上が見ています

最新の閲覧: 18時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

25.1時間 返答時間

■概要 PlasmaPro 100 Cobra ICP RIEシステムでは、高密度誘導結合プラズマを使用して、高速なエッチングレートを実現します。このプロセ...


神港精機株式会社

プラズマ エッチング装置 EXAM

570人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

EXAMは半導体量産用装置のノウハウを生かした複数の目的にも対応可能な多目的プラズマエッチング装置です。 ガス系やプラズマモードの切...


アルバック販売株式会社

オプトデバイス、MEMS向け ドライエッチング装置 NLD-5700

280人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

254.6時間 返答時間

■概要 オプトデバイス、MEMS向けドライエッチング装置NLD-5700は、磁気中性線プラズマ (NLD) 源を搭載した量産用ドライエッチング装置で...


新明和工業株式会社

薄膜・表面改質技術&装置 プラズマイオン処理装置

110人以上が見ています

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■プラズマイオン処理装置とは プラズマイオン処理はプラズマにより生成されたイオンを用いて表面改質を行う技術です。応用事例としては...


神港精機株式会社

高密度 プラズマ装置 SWP

540人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

大面積に均一な高密度プラズマが生成可能な表面波プラズマ (SWP) を採用し、アッシング・表面処理等多くの用途で活躍中です。 H2ラジカ...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

DRIEアプリケーション用プラットフォーム PlasmaPro 100 Estrelas DRIE

410人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

25.1時間 返答時間

PlasmaPro 100 Estrelas プラットフォームは、ディープ リアクティブイオン エッチング (DRIE) アプリケーション用に、総合的なフレキシ...


株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャーセミオートシリーズ CPE-Sシリーズ

410人以上が見ています

最新の閲覧: 18時間前

100.0% 返答率

48.8時間 返答時間

PTFE (テフロン) の親水化。各種素材の撥水処理。ガラス膜の形成。など ■製品概要 ・プラズマ装置CPEシリーズにお手頃価格のセミオ...


アルバック販売株式会社

研究開発向けNLDドライエッチング装置 NLD-570

300人以上が見ています

最新の閲覧: 20時間前

100.0% 返答率

254.6時間 返答時間

■概要 研究開発向けNLDドライエッチングNLD-570は、アルバックが独自に開発した磁気中性線プラズマ (NLD) による低圧・低電子温度・高密...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

枚葉式ICP RIEエッチング装置 PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE

380人以上が見ています

最新の閲覧: 17時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

25.1時間 返答時間

PlasmaPro 100 Polaris は、高い競争力を維持するために必要なエッチング性能により、スマートなソリューションを提供する枚葉式エッチ...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

広範なプロセスに対応した等方性・異方性ドライエッチング PlasmaPro 100 RIE

370人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

25.1時間 返答時間

PlasmaPro 100 RIE モジュールにより、広範なプロセスに対応した等方性・異方性ドライエッチングが実現します。研究および製造のお客様...


神港精機株式会社

ICPプラズマ エッチング装置 SERIO

430人以上が見ています

最新の閲覧: 6時間前

SERIO は高密度ICPプラズマソースを搭載した高密度プラズマエッチング装置です。独自開発プロセスにより、高い垂直性とエッチング表面の...


アルバック販売株式会社

バッチ式自然酸化膜除去装置 RISETM-300

250人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

254.6時間 返答時間

■概要 バッチ式自然酸化膜除去装置RISETM-300は、LSIのDeep-contact底部など困難な自然酸化膜除去に対応するバッチ式プリクリーン装置で...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

便利なオープンローディングで多目的なICPエッチングソリューションを提供 PlasmaPro 80 ICP RIE

370人以上が見ています

最新の閲覧: 12時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

25.1時間 返答時間

■概要 ・PlasmaPro 80 ICP RIEは、コンパクトで設置面積が小さく、便利なオープンローディングで多目的なICPエッチングソリューションを...


株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャー CPEシリーズ

400人以上が見ています

100.0% 返答率

48.8時間 返答時間

SiO2やSiのエッチングなど。半導体集積回路などの微細回路を作製。 ■製品概要 ・コンパクト ・簡単な操作性 ・タッチパネル操作 (オー...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

コンパクトな多様なエッチングとデポジションのソリューション PlasmaPro 80 PECVD

400人以上が見ています

最新の閲覧: 22時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

25.1時間 返答時間

PlasmaPro 80は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易いオープンロー...


株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャー CPE-Bシリーズ

490人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

48.8時間 返答時間

テフロン表面の親水化や不織布の撥水化など。 ■用途 ・PTFE (テフロン) の親水化 (要NH3) ・各種素材の撥水処理 (要CF4) ・...

2種類の品番

CPE-100B-真空 プラズマエッチャー CPE-Bシリーズ
CPE-1000B-真空 プラズマエッチャー CPE-Bシリーズ

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易い大気装入方式で実現 PlasmaPro 80 RIE

370人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

25.1時間 返答時間

■概要 PlasmaPro 80 リアクティブイオンエッチング (RIE) は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジショ...


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