洗浄剤・装置

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洗浄剤・装置の39カテゴリ一覧

洗浄剤・装置とは

洗浄剤・装置

産業用途として洗浄剤・装置は汚れを落とし、部品の要求事項を満たす綺麗な状態にする目的をもった媒体や機器の事です。部品の製造工程で汚れが発生して付着しない場合や、清潔さにおいて部品の要求レベルが満たされている場合は、そもそも洗浄剤や装置は不要です。洗浄効果は洗浄剤や装置単体としては目的を果たすことは難しく、それらの相性により効果がいかんなく発揮されます。

洗浄剤・装置の種類

洗浄方法は大きく2つに分けられます。一つはウエット洗浄と呼ばれるものでもう片方はドライ洗浄と呼ばれるものです。ウエット洗浄とはどのようなものかというと、その名の通り洗浄するものをウエットの媒体に絡ませ汚れを拭いとる方式です。媒体とは液状の洗浄剤であります。一つ代表的な部品の洗浄装置としては超音波洗浄装置であり、生産工程にて付着した加工油などの汚れを取り除くのによく使用されます。洗浄は通常バッチ式で行い溶媒の浸かったバスに洗浄する部品を入れ一定時間装置を稼働させます。テスト洗浄を行い、汚れのタイプや程度により振動周波数や時間を決定します。

洗浄液は通常汚れのタイプやワークの材質によって選定します。加工部品では大半は脱脂、切粉、ほこりの洗浄であり、水系では界面活性剤を主成分とした中性からアルカリ性のものが一般的によく使われます。非水系としては溶剤系か炭化水素系があります。溶剤系としては、フッ素系、臭素系やアルコール系です。
炭化水素系としては、ノルマルパラフィン系,イソパラフィン系,ナフテン系,芳香族系の4種類があります。ウエット洗浄では、洗浄後の処理としてウエット媒体の乾燥工程も仕上がりの重要要素となります。

プラズマによる処理や真空紫外線などによるドライ洗浄では溶媒を必要とせず乾燥工程も不要となるメリットがあります。正確性を期すと媒体としてガスは使用しますがそれらの工程は不要となります。

洗浄剤・装置と半導体

半導体製造プロセスにて用いられる洗浄方式はウエット洗浄とドライ洗浄共に用いられますが、ドライ洗浄は主に半導体製造プロセスにて用いられる洗浄方式になります。

参考文献
https://www.honda-el.co.jp/industry/solution.html
https://www.screen.co.jp/spe/technical/guide/cleanprocess



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