【2023年版】プラズマ装置4選 / メーカー20社一覧
プラズマ装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、プラズマ装置のメーカー20社一覧や企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。プラズマ装置関連企業の2023年10月注目ランキングは1位:株式会社第一メカテック、2位:AETP Japan 合同会社、3位:株式会社日放電子となっています。
プラズマ装置とは
プラズマ装置とは、素材の表面に対してプラズマを照射し、洗浄や殺菌、コーティングなどの作業を行う高性能な装置のことです。
プラズマは、気体にエネルギーを与えることで生成される荷電粒子を含んだ特殊な気体状態で、分子との反応性が非常に高いことが特徴です。プラズマ装置は、使用する気体の種類やプラズマ生成方法によって効果が異なります。
例えば、酸素や窒素などの気体をプラズマ化させることで、素材表面の洗浄や殺菌効果が得られます。一方、シリコンやフッ素などの気体をプラズマ化させることで、素材表面にコーティング層を形成可能です。
プラズマ装置の使用を検討する際には、目的や用途に適した装置を選定することが大切です。例えば、医療機器や食品加工業界では、洗浄や殺菌を重視し、耐摩耗性や耐薬品性が求められる分野では、コーティング性能を重視することが求められます。
プラズマ装置の使用用途
プラズマ装置は、高いエネルギーと反応性を持つプラズマを活用し、多様な産業分野で使用されています。使用用途は幅広く、高度な技術が求められる領域から環境や衛生面に至るまで、さまざまな場面で役立っている装置です。
特に半導体集積回路などの精密機器部品製造現場では、プラズマ装置の洗浄や被膜形成、エッチング能力が重宝されています。そのため、素早くかつ高品質な製品が生産され、先端技術の発展に寄与しています。
また、プラズマ装置は産業廃棄物の無害化にも使用可能です。有害物質を分解し、環境への影響を最小限に抑えることが可能です。さらに、食品や薬品の消毒や殺菌にも利用され、安全性の向上に貢献しています。
プラズマ装置の原理
物質は温度が上昇すると、固体から液体、液体から気体と状態が変化していきます。気体の温度が上昇すると、原子中の電子が離れて正イオンと電子に分かれます。この現象を電離と呼び、電離よって生じた高エネルギー状態の気体がプラズマです。
プラズマ装置の種類は、大気圧プラズマ装置と低圧プラズマ装置の2つに大別されます。
1. 大気圧プラズマ装置
大気圧プラズマ装置はその名の通り、大気圧下でプラズマを発生させる装置です。高電圧をかけた電極に希ガスや酸素を通過させることでプラズマを発生させます。
真空環境が不要で、低圧プラズマよりもイオン密度が高いのが特徴です。しかし、極力対象物を照射位置に近づける必要があるのがデメリットです。
2. 低圧プラズマ装置
低圧プラズマ装置は、真空環境下にてプラズマを発生させる装置です。使用は真空環境に限定されますが、ガスを必要としません。また、対象物から装置をある程度離しても照射可能なので、装置の設置場所に悩むことがなくなります。
プラズマ装置のその他情報
プラズマ装置と併用する機械
プラズマ技術は主に真空チャンバー、電極装置、ガス供給装置と併用して使用します。
1. 真空チャンバー
プラズマ処理の多くは、真空チャンバー内で行われます。真空チャンバーは、外部の気体を遮断し、内部で特定のガスを充填することで、プラズマ生成に適した環境を整えます。
真空チャンバー内で生成されたプラズマは、洗浄、エッチング、コーティングなどの処理に使用可能です。
2. 電極装置
プラズマは、ガスに電磁波や電場を与えることで生成されます。そのため、プラズマ装置と併用される電極装置が重要な役割を担っています。
電極装置は、ガスに適切なエネルギーを供給し、プラズマ化を促進します。電極装置の形状や配置は、生成するプラズマの特性や処理方法に影響を与えるため、適切な選定が重要です。
3. ガス供給装置
プラズマ装置では、さまざまなガスが使用されます。ガス供給装置は、真空チャンバー内に必要なガスを適切な流量と圧力で供給します。ガスの種類や供給量によって、プラズマの性質や反応速度が変わるため、ガス供給装置の精度がプラズマ処理の品質に直結します。
参考文献
https://www.plasma-laboratory.com/plasma/
https://www.technoalpha.co.jp/products/board/diener.html
Metoreeでは各社カタログを無料で一括でダウンロードできるので、製品比較時に各社サイトで毎回情報を登録する手間を短縮することができます。
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企業
株式会社FUJI 株式会社魁半導体 株式会社イー・スクエア ナノテック株式会社プラズマ装置のメーカー20社一覧
*一部商社などの取扱い企業なども含みます。
企業の並び替え
- 標準
- 従業員数順
- 資本金の大きい順
- 設立年古い順
- 設立年新しい順
- 上場企業順
・導電性（金属等）、非導電性並びに半導電性の表面の処理が可能
・設置が容易で、高出力放電により高速生産対応可能
・局所プラズマ処理が可能
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樹脂、金属、フィルム、セラミック、PDMSなどの材料表面を洗浄、親水性アップ、活性化します。
接着・塗装・印字の前処理、酸化被膜除去、防湿コートの前処理など幅広くご使用いただけます。
● サンプル処理は随時承っております。
● レンタル機ございます。
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プラズマ装置 2023年10月のメーカーランキング
*一部商社などの取扱い企業なども含みます2023年10月の注目ランキングベスト10
注目ランキング導出方法| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 株式会社第一メカテック |
17.8%
|
| 2 | AETP Japan 合同会社 |
12.1%
|
| 3 | 株式会社日放電子 |
8.4%
|
| 4 | エア・ウォーター株式会社 |
6.5%
|
| 5 | 株式会社FUJI |
6.5%
|
| 6 | 積水化学工業株式会社 |
6.5%
|
| 7 | 日本電子株式会社 |
6.5%
|
| 8 | アリオス株式会社 |
4.7%
|
| 9 | 神港精機株式会社 |
4.7%
|
| 10 | 日本プラズマトリート株式会社 |
3.7%
|
注目ランキング導出方法について
注目ランキングは、2023年10月のプラズマ装置ページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。社員数の規模
- 積水化学工業: 26,419人
- 日本電子: 3,291人
- FUJI: 1,710人
設立年の新しい会社
- AETP Japan : 2019年
- エスクラフト: 2005年
- 魁半導体: 2002年
歴史のある会社
- ヤマト科学: 1889年
- ヤマトマテリアル: 1889年
- エア・ウォーター: 1929年
プラズマ装置の製品 9件
9 件の製品がみつかりました
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プラズマ装置のカタログ 7件
Metoreeに登録されているプラズマ装置が含まれるカタログ一覧です。無料で各社カタログを一括でダウンロードできるので、製品比較時に各社サイトで毎回情報を登録する手間を短縮することができます。
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株式会社FUJI
大気圧プラズマ_Tough Plasma
カタログ概要
お客様の実サンプルにて評価テストを実施しております。 ご不明な点等ございましたらお気軽にご連絡下さい。 https://www.fuji.co.jp/about/plasma/
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プラズマ装置 プラズマクリーナ プラズマ処理装置 大気圧プラズマ装置2022年7月25日
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プラズマ装置 大気圧プラズマ装置 プラズマエッチング装置2023年7月3日
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大気圧プラズマ装置でのダイレクト接着 接合 ５G ６G フッ素樹脂 LCP
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大気圧プラズマを用いたダイレクト接着の一例を紹介しています。接着界面にダメージを与えない分子結合を主体にした結果の一例です。光学レンズ・光学フィル...
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プラズマ装置 洗浄装置 ビルドアップ基板 プリント基板 +262023年3月29日
株式会社イー・スクエア
大気圧プラズマにおける表面機能化 アプリケーションとその装置 親水化 接合
カタログ概要
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プラズマ装置 産業用インクジェットプリンター 洗浄装置 ビルドアップ基板 +512022年7月12日
株式会社イー・スクエア
大気圧プラズマ装置での 粒子（有機・無機・数ミリ～1ミクロン程度）への高効率表面処理
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プラズマ装置 洗浄装置 ビルドアップ基板 プリント基板 +322023年3月17日
株式会社イー・スクエア
大気圧プラズマ装置によるPTFE・PFA表面への超親水化とメッキ、ダイレクト接着
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フッ素樹脂への塗布性能向上や銅箔や異種材フィルム等への接着をお考えの場合、弊社の分子結合接着技術を是非ご検討ください。接着界面にダメージを与えず、...
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プラズマ装置 洗浄装置 ビルドアップ基板 光ファイバーケーブル +322023年3月17日
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企業
株式会社FUJI 株式会社魁半導体 株式会社イー・スクエア ナノテック株式会社プラズマ装置4選
株式会社ニッシン
M120W
画像出典:
株式会社ニッシン公式サイト特徴
ニッシンのM120Wはスキャン処理方式により均一性に優れた処理可能なシート向けプラズマ処理システムです。
シート状、フィルム状素材の量産処理に特化した製品で処理面は片面、両面の選択でき、移載機の取り付けで自動化処理が可能となります。
最大630×640 mmの範囲にプラズマ照射可能と処理面積が広いことが特徴です。
制御性の高さが特徴で、通過速度の変更により処理量をナノ〜マイクロスケールまで容易に変更することができます。
株式会社ニッシンの会社概要
- 会社所在地: 兵庫県宝塚市亀井町10-7
- 会社サイト
- 創業: 1947年
- 従業員数: 170人
株式会社FUJI
FPB20
画像出典:
株式会社FUJI公式サイト特徴
FUJIのTough Plasma FPB20は、低温プラズマ照射が可能なダメージレスプラズマ装置です。
様々な材質へ使用可能で、ポリプロピレンやガラス、金属に対して処理効果が得られます。
低温処理が可能なため耐熱性の無い樹脂や薄膜フィルムにも使用可能で、ガス温度が低く長時間の処理に耐えることが特徴です。
電気的に中性なラジカル粒子を照射するため、電子基盤や電子部品にもダメージを与えず処理を施すことができます。
株式会社FUJIの会社概要
- 会社所在地: 愛知県知立市山町茶碓山19番地
- 会社サイト
- 創業: 1959年
- 従業員数: 1,710人
- 資本金: 5,878,000,000円
テクノアルファ株式会社
プラズマ装置
画像出典:
テクノアルファ株式会社公式サイト特徴
テクノアルファのプラズマ装置は、低圧プラズマ装置と大気圧プラズマ装置の2種類のラインナップがあり、金属部品をはじめ、プラスチックや粉体
低圧プラズマ装置は真空環境下で処理を行い、電子基盤や繊維、プラスチックなど様々な素材を対象に親水化やドライクリーニングを行います。
大気圧プラズマ装置はプラズマを大気中に照射する仕組みで、半導体や金属部品、ガラス製品を対象に、親水性や印刷密着性、表面洗浄を行います。
テクノアルファ株式会社の会社概要
- 会社所在地: 東京都品川区西五反田2-27-4 明治安田生命五反田ビル2F
- 会社サイト
- 創業: 1989年
アリオス株式会社
MiPC-1000
画像出典:
アリオス株式会社公式サイト特徴
アリオスのMiPC-1000はプラズマ殺菌や真空紫外線照射など、様々なプラズマ暴露実験を可能にする石英管導波管直交方式のマイクロ波プラズマ実験装置です。
マイクロ波出力電力は0～1000 Wで、基盤とプラズマの位置を自由に設定することができるため用途に合わせた処理が可能になります。
リモートプラズマ方式が可能なため、基盤を遠ざけることで温度上昇を避けることができます。
排気装置にはターボ分子ポンプが標準装備されています。
アリオス株式会社の会社概要
- 会社所在地: 東京都昭島市武蔵野3-2-20
- 会社サイト
- 創業: 1972年
- 資本金: 15,000,000円
