株式会社第一メカテック
AETP Japan 合同会社
積水化学工業株式会社
神港精機株式会社
株式会社魁半導体
株式会社日放電子
株式会社堀場エステック
株式会社ニッシン
株式会社ケー・ブラッシュ商会
株式会社エスクラフト
株式会社FUJI
日本電子株式会社

【2023年版】プラズマ装置4選 / メーカー20社一覧

プラズマ装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、プラズマ装置のメーカー20社一覧企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。プラズマ装置関連企業の2023年10月注目ランキングは1位:株式会社第一メカテック、2位:AETP Japan 合同会社、3位:株式会社日放電子となっています。

目次

Metoreeでは各社カタログを無料で一括でダウンロードできるので、製品比較時に各社サイトで毎回情報を登録する手間を短縮することができます。

プラズマ装置のカタログ一覧はこちら
株式会社FUJIのプラズマ装置のカタログ
株式会社魁半導体のプラズマ装置のカタログ
株式会社イー・スクエアのプラズマ装置のカタログ
株式会社イー・スクエアのプラズマ装置のカタログ
株式会社イー・スクエアのプラズマ装置のカタログ
株式会社イー・スクエアのプラズマ装置のカタログ
ナノテック株式会社のプラズマ装置のカタログ

企業

株式会社FUJI 株式会社魁半導体 株式会社イー・スクエア ナノテック株式会社

プラズマ装置のメーカー20社一覧

*一部商社などの取扱い企業なども含みます。

企業の並び替え

  • 標準
  • 従業員数順
  • 資本金の大きい順
  • 設立年古い順
  • 設立年新しい順
  • 上場企業順
株式会社第一メカテックのプラズマ装置
・キャリーガス不要(主電源&圧縮エアーのみで処理可能)
・導電性(金属等)、非導電性並びに半導電性の表面の処理が可能
・設置が容易で、高出力放電により高速生産対応可能
・局所プラズマ処理が可能

製品をみる 会社サイトをみる
AETP Japan 合同会社のプラズマ装置
通常気圧下でプラズマを発生させ、材料表面を処理します。
樹脂、金属、フィルム、セラミック、PDMSなどの材料表面を洗浄、親水性アップ、活性化します。
接着・塗装・印字の前処理、酸化被膜除去、防湿コートの前処理など幅広くご使用いただけます。

● サンプル処理は随時承っております。
● レンタル機ございます。

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プラズマ装置 2023年10月のメーカーランキング

*一部商社などの取扱い企業なども含みます

注目ランキング導出方法について

注目ランキングは、2023年10月のプラズマ装置ページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。

社員数の規模

  1. 積水化学工業: 26,419人
  2. 日本電子: 3,291人
  3. FUJI: 1,710人

設立年の新しい会社

  1. AETP Japan : 2019年
  2. エスクラフト: 2005年
  3. 魁半導体: 2002年

歴史のある会社

  1. ヤマト科学: 1889年
  2. ヤマトマテリアル: 1889年
  3. エア・ウォーター: 1929年

プラズマ装置の製品 9件


9 件の製品がみつかりました

株式会社魁半導体

高周波電源 大容量真空プラズマ装置 SCBシリーズ

100人以上が見ています

最新の閲覧: 10時間前

■製品概要 ・多段式の電極で大量処理 ・電極構造を変えることで様々な容器に対応 ・ワンボタン操作も可能 ・生産用途に最適 ■オプショ...


1種類の品番があります。

株式会社魁半導体

粉体処理 小型回転式真空プラズマ装置 MUG-80

110人以上が見ています

最新の閲覧: 13時間前

■製品概要 ・真空チャンバー内に回転式の撹拌機構を導入 ・乾式で全面一括処理 ・グロー放電中で撹拌し、高い均一性を確保 ・回転式のた...


1種類の品番があります。

株式会社魁半導体

真空 卓上真空プラズマ装置 YHS-R

160人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

コンパクトで安価な仕様です。表面処理 薄膜形成前の処理 陽極接合前の処理 塗装前の処理 その他 バイオ・医療分野にも。 ■製品の特徴 ...


1種類の品番があります。

株式会社ニッシン

プラズマ処理機 M120W

180人以上が見ています

プラズマリアクタの独自開発により強力で高均一な処理を実現しました。 ニッシンはマイクロ波電源を始めとしたマイクロ波関連機器に自社...


1種類の品番があります。

株式会社ニッシン

プラズマ処理機 Micro Labo - PSA

120人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

プラズマリアクタの独自開発により強力で高均一な処理を実現しました。 ニッシンはマイクロ波電源を始めとしたマイクロ波関連機器に自社...


1種類の品番があります。

株式会社魁半導体

高周波電源 真空プラズマ装置 US-80A

140人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

一度に最大500mLボトルが80本迄プラズマ処理が可能。 電極の交換により、様々な容量・形状のボトルに対応。 ■用途 ・ボトル内面および...


1種類の品番があります。

株式会社魁半導体

真空 小型真空プラズマ装置 NMR-Gts

100人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

板状、繊維状、フィルム状の対象物の表面改質・クリーニングに。 接着、印刷、コーティングの前処理に。細胞培養容器の前処理に (着床...


1種類の品番があります。

株式会社魁半導体

真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G

150人以上が見ています

最新の閲覧: 18時間前

様々なガス導入が可能な真空プラズマ装置。ガス流量調整・パワー調整・真空度モニター緻密な処理条件の設定が可能です。 ワンタッチの簡...


1種類の品番があります。

株式会社魁半導体

粉体処理 回転式卓上真空プラズマ装置 YHS-DφS

140人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

粉体やチップコンデンサの処理に最適。 真空プラズマに回転機構を追加し、全面を一括で処理できるように致しました。 ■製品概要 ・表面...


1種類の品番があります。

プラズマ装置のカタログ 7件

Metoreeに登録されているプラズマ装置が含まれるカタログ一覧です。無料で各社カタログを一括でダウンロードできるので、製品比較時に各社サイトで毎回情報を登録する手間を短縮することができます。


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株式会社イー・スクエアのプラズマ装置のカタログ
株式会社イー・スクエアのプラズマ装置のカタログ
株式会社イー・スクエアのプラズマ装置のカタログ
株式会社イー・スクエアのプラズマ装置のカタログ
ナノテック株式会社のプラズマ装置のカタログ

企業

株式会社FUJI 株式会社魁半導体 株式会社イー・スクエア ナノテック株式会社


プラズマ装置4選

株式会社ニッシン
M120W

M120W 画像出典: 株式会社ニッシン公式サイト

特徴

ニッシンのM120Wはスキャン処理方式により均一性に優れた処理可能なシート向けプラズマ処理システムです。

シート状、フィルム状素材の量産処理に特化した製品で処理面は片面、両面の選択でき、移載機の取り付けで自動化処理が可能となります。

最大630×640 mmの範囲にプラズマ照射可能と処理面積が広いことが特徴です。

制御性の高さが特徴で、通過速度の変更により処理量をナノ〜マイクロスケールまで容易に変更することができます。

株式会社ニッシンの会社概要

  • 会社所在地: 兵庫県宝塚市亀井町10-7
  • 会社サイト
  • 創業: 1947年
  • 従業員数: 170人

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株式会社FUJI
FPB20

FPB20 画像出典: 株式会社FUJI公式サイト

特徴

FUJIのTough Plasma FPB20は、低温プラズマ照射が可能なダメージレスプラズマ装置です。

様々な材質へ使用可能で、ポリプロピレンやガラス、金属に対して処理効果が得られます。

低温処理が可能なため耐熱性の無い樹脂や薄膜フィルムにも使用可能で、ガス温度が低く長時間の処理に耐えることが特徴です。

電気的に中性なラジカル粒子を照射するため、電子基盤や電子部品にもダメージを与えず処理を施すことができます。

株式会社FUJIの会社概要

  • 会社所在地: 愛知県知立市山町茶碓山19番地
  • 会社サイト
  • 創業: 1959年
  • 従業員数: 1,710人
  • 資本金: 5,878,000,000円

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テクノアルファ株式会社
プラズマ装置

プラズマ装置 画像出典: テクノアルファ株式会社公式サイト

特徴

テクノアルファのプラズマ装置は、低圧プラズマ装置と大気圧プラズマ装置の2種類のラインナップがあり、金属部品をはじめ、プラスチックや粉体

低圧プラズマ装置は真空環境下で処理を行い、電子基盤や繊維、プラスチックなど様々な素材を対象に親水化やドライクリーニングを行います。

大気圧プラズマ装置はプラズマを大気中に照射する仕組みで、半導体や金属部品、ガラス製品を対象に、親水性や印刷密着性、表面洗浄を行います。

テクノアルファ株式会社の会社概要

  • 会社所在地: 東京都品川区西五反田2-27-4 明治安田生命五反田ビル2F
  • 会社サイト
  • 創業: 1989年

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アリオス株式会社
MiPC-1000

MiPC-1000 画像出典: アリオス株式会社公式サイト

特徴

アリオスのMiPC-1000はプラズマ殺菌や真空紫外線照射など、様々なプラズマ暴露実験を可能にする石英管導波管直交方式のマイクロ波プラズマ実験装置です。

マイクロ波出力電力は0~1000 Wで、基盤とプラズマの位置を自由に設定することができるため用途に合わせた処理が可能になります。

リモートプラズマ方式が可能なため、基盤を遠ざけることで温度上昇を避けることができます。

排気装置にはターボ分子ポンプが標準装備されています。

アリオス株式会社の会社概要

  • 会社所在地: 東京都昭島市武蔵野3-2-20
  • 会社サイト
  • 創業: 1972年
  • 資本金: 15,000,000円

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