神港精機株式会社
株式会社魁半導体
株式会社メディア研究所
株式会社ケー・ブラッシュ商会
株式会社エスクラフト
株式会社FUJI
テクノアルファ株式会社
アリオス株式会社

【2021年版】プラズマ装置5選 / メーカー17社一覧

プラズマ装置のメーカー17社を一覧でご紹介します。まずは使用用途や原理についてご説明します。


目次


プラズマ装置とは

プラズマ装置とは、金属やプラスチックなどの素材表面に分子との反応性の高いプラズマを当てることで、表面を洗浄、殺菌、コーティングなどを行う装置のことです。プラズマとは、気体にエネルギーを与えることでできる荷電粒子を含んだ気体状態のことをいいます。

プラズマ装置は、プラズマ化させる気体の種類やプラズマの生成方法などによってその効果は異なります。装置の使用を検討する際は、その用途や目的に適したものを選定する必要があります。

プラズマ装置の使用用途

プラズマは非常に高いエネルギーを持ち、他の分子と容易に反応する性質があります。
この性質を活かしたプラズマ装置は、様々な産業で使用されています。

プラズマはその反応性の高さから、洗浄や被膜形成、エッチングといった処理を素早く済ませることができ、半導体集積回路などの精密機器部品の製造現場でよく使用されます。

その他にもプラズマ装置が使用される場面は多く、産業廃棄物の無害化や環境食品や薬品の消毒、殺菌などに役立っています。

プラズマ装置の原理

物質は温度が上昇すると、固体→液体→気体と状態が変化していきます。気体の温度が上昇すると、原子中の電子が離れて正イオンと電子に分かれます。この現象を電離といい、電離よって生じた高エネルギー状態の気体がプラズマです。

プラズマ装置の種類は、大気圧プラズマ装置と低圧プラズマ装置の2つに大別されます。

  • 大気圧プラズマ装置
    大気圧プラズマ装置はその名の通り、大気圧下でプラズマを発生させる装置です。高電圧をかけた電極に希ガスや酸素を通過させることでプラズマを発生させます。こちらは真空環境が不要で、低圧プラズマよりもイオン密度が高いのが特徴ですが、極力対象物を照射位置に近づける必要があるというデメリットもあります。
  • 低圧プラズマ装置
    低圧プラズマ装置は、真空環境下にてプラズマを発生させる装置です。使用は真空環境に限定されますが、ガスを必要としません。また、対象物から装置をある程度離しても照射可能なので、装置の設置場所に悩むことがなくなります。

参考文献
https://www.plasma-laboratory.com/plasma/
https://www.technoalpha.co.jp/products/board/diener.html

プラズマ装置のメーカー情報

プラズマ装置のメーカー17社一覧


プラズマ装置のメーカーランキング

社員数の規模

  1. 1 積水化学工業株式会社
  2. 2 株式会社FUJI
  3. 3 エア・ウォーター株式会社

設立年の新しい会社

  1. 1 株式会社エスクラフト
  2. 2 株式会社魁半導体
  3. 3 株式会社メディア研究所

歴史のある会社

  1. 1 ヤマトマテリアル株式会社
  2. 2 ヤマト科学株式会社
  3. 3 エア・ウォーター株式会社

プラズマ装置5選

大気圧常温プラズマ発生装置(Capplas)

株式会社メディア研究所

特徴

クレスールのCapplasは環境負荷を抑えてクリーンな表面改質を施すことができる、大気圧常温プラズマ発生装置です。

処理対照が幅広く、熱に弱い素材から、粉体、金属、立体物、食品など様々なものへ処理可能です。

処理性能の高さが特徴で、機能性薄膜の生成や多孔質膜の表面処理、金属ナノ粒子の低温燃焼など幅広い分野へ展開できます。

窒素ガスでのプラズマ発生が可能なため、使用ガス量の削減および処理時間を削減することができます。

株式会社メディア研究所の会社概要

  • 会社所在地: 神奈川県藤沢市藤沢496番地 藤沢森井ビル2F
  • URL: https://mediken.jp/index.html
  • 創業: 1991年
  • 従業員数: 13人

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M120W

株式会社ニッシン M120W 画像出典: 株式会社ニッシン公式サイト

特徴

ニッシンのM120Wはスキャン処理方式により均一性に優れた処理可能なシート向けプラズマ処理システムです。

シート状、フィルム状素材の量産処理に特化した製品で処理面は片面、両面の選択でき、移載機の取り付けで自動化処理が可能となります。

最大630×640 mmの範囲にプラズマ照射可能と処理面積が広いことが特徴です。

制御性の高さが特徴で、通過速度の変更により処理量をナノ〜マイクロスケールまで容易に変更することができます。

株式会社ニッシンの会社概要

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FPB20

株式会社FUJI FPB20 画像出典: 株式会社FUJI公式サイト

特徴

FUJIのTough Plasma FPB20は、低温プラズマ照射が可能なダメージレスプラズマ装置です。

様々な材質へ使用可能で、ポリプロピレンやガラス、金属に対して処理効果が得られます。

低温処理が可能なため耐熱性の無い樹脂や薄膜フィルムにも使用可能で、ガス温度が低く長時間の処理に耐えることが特徴です。

電気的に中性なラジカル粒子を照射するため、電子基盤や電子部品にもダメージを与えず処理を施すことができます。

株式会社FUJIの会社概要

  • 会社所在地: 愛知県知立市山町茶碓山19番地
  • URL: https://www.fuji.co.jp/
  • 創業: 1959年
  • 従業員数: 1,689人

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プラズマ装置

テクノアルファ株式会社 プラズマ装置 画像出典: テクノアルファ株式会社公式サイト

特徴

テクノアルファのプラズマ装置は、低圧プラズマ装置と大気圧プラズマ装置の2種類のラインナップがあり、金属部品をはじめ、プラスチックや粉体

低圧プラズマ装置は真空環境下で処理を行い、電子基盤や繊維、プラスチックなど様々な素材を対象に親水化やドライクリーニングを行います。

大気圧プラズマ装置はプラズマを大気中に照射する仕組みで、半導体や金属部品、ガラス製品を対象に、親水性や印刷密着性、表面洗浄を行います。

テクノアルファ株式会社の会社概要

  • 会社所在地: 東京都品川区西五反田2-27-4 明治安田生命五反田ビル2F
  • URL: https://www.technoalpha.co.jp/
  • 創業: 1989年
  • 従業員数: 38人

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MiPC-1000

アリオス株式会社 MiPC-1000 画像出典: アリオス株式会社公式サイト

特徴

アリオスのMiPC-1000はプラズマ殺菌や真空紫外線照射など、様々なプラズマ暴露実験を可能にする石英管導波管直交方式のマイクロ波プラズマ実験装置です。

マイクロ波出力電力は0~1000 Wで、基盤とプラズマの位置を自由に設定することができるため用途に合わせた処理が可能になります。

リモートプラズマ方式が可能なため、基盤を遠ざけることで温度上昇を避けることができます。

排気装置にはターボ分子ポンプが標準装備されています。

アリオス株式会社の会社概要

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