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蒸着装置のメーカー38社一覧や企業ランキングを掲載中！蒸着装置関連企業の2025年10月注目ランキングは1位:長州産業株式会社、2位:テルモセラ・ジャパン株式会社、3位:株式会社エイエルエステクノロジーです。 蒸着装置の概要、用途、原理もチェック！
蒸着装置は、減圧下で物質を気化させて対象物上に製膜する真空蒸着 (VD) を行う装置です。
蒸着装置を用いることで、対象物上に平滑な塗膜を形成することができ、その膜厚や組成の制御をすることも可能です。
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2025年10月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 長州産業株式会社 |
12.2%
|
| 2 | テルモセラ・ジャパン株式会社 |
9.0%
|
| 3 | 株式会社エイエルエステクノロジー |
7.7%
|
| 4 | ジャパンクリエイト株式会社 |
6.3%
|
| 5 | 株式会社サンバック |
5.4%
|
| 6 | 新明和工業株式会社 |
5.4%
|
| 7 | 株式会社オプトラン |
5.4%
|
| 8 | 株式会社マイクロフェーズ |
3.6%
|
| 9 | 株式会社真空デバイス |
3.2%
|
| 10 | 株式会社昭和真空 |
3.2%
|
項目別
使用用途
#研究開発
#金属膜
#有機エレクトロニクス
#電子顕微鏡試料
#多層膜
#電子部品半導体
#超高真空
#MBE
#保護膜
蒸着方式
抵抗加熱蒸着型
電子ビーム蒸着型
成膜環境
真空蒸着型
高真空蒸着型
イナートガス雰囲気型
蒸着材料供給方式
単発源型
多元源型
特徴機能
自動制御型
高速成膜型
高精度厚さ制御型
クリーン対応型
排気時間 分
10 - 15
15 - 20
20 - 25
排気系主ポンプ
クライオポンプ
油拡散ポンプ
ターボ分子ポンプ
操作方法
全自動
手動
自動
基板サイズ mm
50 - 100
100 - 200
200 - 300
300 - 1,000
1,000 - 3,000
チャンバーサイズ mm
150 - 200
200 - 250
250 - 300
300 - 350
350 - 400
蒸発方式
抵抗加熱
電子銃
高周波誘導加熱
基板加熱温度 ℃
100 - 500
500 - 800
800 - 1,000
膜厚分布 %
1 - 5
5 - 15
北野精機株式会社
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最新の閲覧: 14時間前
返信の比較的早い企業
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株式会社サンバック
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◼︎概要 ・ターボ分子ポンプ搭載でクリーンな成膜が可能 (到達圧力 4×10^-5Pa) ・基板傾斜機構搭載で基板をθ±90°、φ±45°傾斜成膜可能 ・...
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◼︎概要 ･三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発 ･多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化 (ヒー...
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高真空蒸着装置RD-1300は、Au、AuZnNi、AuGeNiをウエハ基板に成膜する為の装置です。メイン排気系はクライオポンプを採用し、蒸発源は抵...
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高真空蒸着装置ED-1500は金属・誘導体・半導体等を成膜するための蒸着装置です。電子銃10kWのルツボサイズが40mLと大きく、ルツボ点数も...
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