神港精機株式会社
株式会社アルバック
株式会社SCREENファインテックソリューションズ
住友精密工業株式会社
ダイトロン株式会社
サムコ株式会社
コーンズテクノロジー株式会社
アリオス株式会社
SPPテクノロジーズ株式会社
LAM RESEARCH CORPORATION
Applied Materials, Inc.

【2022年版】プラズマCVD5選 / メーカー12社一覧

プラズマCVDについての概要、用途、原理などをご説明します。また、プラズマCVDのメーカー12社一覧企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。プラズマCVD関連企業の2022年11月注目ランキングは1位:株式会社アルバック、2位:サムコ株式会社、3位:神港精機株式会社となっています。

目次

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プラズマCVDのカタログ一覧はこちら
ナノテック株式会社のプラズマCVDのカタログ

企業

ナノテック株式会社

プラズマCVDのメーカー12社一覧

*一部商社などの取扱い企業なども含みます。

企業の並び替え

  • 標準
  • 従業員数順
  • 資本金の大きい順
  • 設立年古い順
  • 設立年新しい順
  • 上場企業順

プラズマCVDのメーカーランキング

*一部商社などの取扱い企業なども含みます

注目ランキング導出方法について

注目ランキングは、2022年11月のプラズマCVDページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。

社員数の規模

  1. 住友精密工業: 1,765人
  2. アルバック: 1,335人
  3. ダイトロン: 823人

設立年の新しい会社

  1. SCREENファインテックソリューションズ: 2014年
  2. SPPテクノロジーズ: 2011年
  3. コーンズテクノロジー: 1990年

歴史のある会社

  1. 神港精機: 1949年
  2. アルバック: 1952年
  3. ダイトロン: 1952年

プラズマCVDのカタログ一覧(1件)

Metoreeに登録されているプラズマCVDが含まれるカタログ一覧です。無料で各社カタログを一括でダウンロードできるので、製品比較時に各社サイトで毎回情報を登録する手間を短縮することができます。



ナノテック株式会社のカタログ



プラズマCVD5選

神港精機株式会社
プラズマCVD装置

プラズマCVD装置 画像出典: 神港精機株式会社公式サイト

特徴

神港精機株式会社のプラズマCVD装置は、600mm基板に対応した大型のプラズマCVD装置で薄膜キャパシタの作製に最適な装置です。

作製することのできる膜厚は、二酸化ケイ素で15μmまで対応しており、膜厚分布も560×560mm面内で±7%以下とほぼ均一な膜を形成することが可能です。

タッチパネルによる全自動操作で、誰でも簡単に操作することが可能です。

排気には油拡散ポンプを用いて真空状態にすることができますが、オプションでさらにターボ分子ポンプを用いることもできクリーンな真空を作ることが可能です。

神港精機株式会社の会社概要

  • 会社所在地: 兵庫県神戸市西区高塚台3丁目1番35号
  • 会社サイト
  • 創業: 1949年
  • 従業員数: 194人
  • 資本金: 375,000,000円

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ダイトロン株式会社
パルスプラズマCVD装置

パルスプラズマCVD装置 画像出典: ダイトロン株式会社公式サイト

特徴

ダイトロン株式会社のパルスプラズマCVD装置は、プラズマを発生させるために定常放電ではなく、電力供給を周期的にON/OFFさせるパルス放電を利用するパルスプラズマCVD法を用いた装置です。

ドライコーティングにより、ガラスやSi、金属などの表面を撥水性や親水性にすることができます。

成膜速度をあげようとすると従来ではプラズマ中に微粒子が発生してしまいますが、放電をパルス化することにより、微粒子を抑えて透明な膜を作ることができます。

ダイトロン株式会社の会社概要

  • 会社所在地: 大阪府大阪市淀川区宮原4-6-11
  • 会社サイト
  • 創業: 1952年
  • 従業員数: 823人
  • 資本金: 22,708,560円

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アリオス株式会社
プラズマCVD実験装置 PCVD-R100

プラズマCVD実験装置 PCVD-R100 画像出典: アリオス株式会社公式サイト

特徴

アリオス株式会社のプラズマCVD実験装置PCVD-R100は、実験用有機金属化合物原料に対応したプラズマCVD装置で、RFプラズマ源や基板加熱機構、ガス供給系、ロードロック室などを装備していて、プラズマ処理された様々な原料ガスを基板上に薄膜として成膜することが可能です。

ロードロック室はTMP+RP、反応室はRP+トラップの排気系でクリーンな真空で成膜を行うことができます。

基板の加熱機構は耐熱、耐ガス特性に優れた材料で最高900℃までの高温を安定的に加熱することができます。

アリオス株式会社の会社概要

  • 会社所在地: 東京都昭島市武蔵野3-2-20
  • 会社サイト
  • 創業: 1972年
  • 資本金: 15,000,000円

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アペックス株式会社
プラズマCVD装置

特徴

アペックス株式会社のプラズマCVD装置は、減圧下で反応性ガスのプラズマ放電分解によって薄膜を形成するCVD装置です。

液晶ディスプレイ駆動用の薄膜トランジスタ素子や薄膜シリコン太陽電池の製造に必要なアモルファスシリコン薄膜や微結晶シリコン薄膜などの形成に最適です。

熱CVDに比べて300℃程と低温で成膜することができるため、プラスチックなどの非耐熱性基板にも反応することなく成膜することができます。

大面積の基板にも容易に均一な膜を形成することが可能です。

アペックス株式会社の会社概要

  • 会社所在地: 東京都港区西麻布3-23-7
  • 会社サイト
  • 創業: 1975年
  • 従業員数: 132人

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Applied Materials, Inc.
AKT®-PECVDシステム

特徴

Applied Materials, Inc.のAKT(R)-PECVDシステムは、液晶ディスプレイ製造のために大型ガラス基板に絶縁膜を成膜する用途に用いられるプラズマCVD装置です。

本装置によって作られるシリコン酸化膜は、水素不純物を極限まで抑えることによりトランジスタの安定性を向上させ、ディスプレイの性能を最適化することが可能です。

独自のプロセスチャンバ技術により、0.2平方メートルから9平方メートルまで幅広いガラスサイズに対応して、均一な膜を成膜できます。

Applied Materials, Inc.の会社概要

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