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ジャパンクリエイト株式会社
新明和工業株式会社
神港精機株式会社
株式会社マツボー
株式会社アルバック
株式会社SCREENファインテックソリューションズ
大亜真空株式会社
住友精密工業株式会社
ミヤ通信工業株式会社
サムコ株式会社
アリオス株式会社
SPPテクノロジーズ株式会社

プラズマCVD装置
メーカー16社一覧 【2024年】

プラズマCVD装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、プラズマCVD装置のメーカー16社一覧企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。プラズマCVD装置関連企業の2024年9月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:株式会社アルバックとなっています。

目次

プラズマCVD装置の関連カテゴリ

伊部 英史

監修者: 伊部 英史

1975年~1995年株式会社日立製作所勤務エネルギー研究所にて原子炉材料の放射線照射効果研究に従事。研究成果により、日本・米国原子力学会賞受賞。1996年~2015年同生産技術研究所にて半導体デバイスの環境中性子線起因ソフトエラー研究に従事。研究成

Metoreeでは各社カタログを無料で一括でダウンロードできるので、製品比較時に各社サイトで毎回情報を登録する手間を短縮することができます。

新明和工業株式会社のプラズマCVD装置のカタログ
ジャパンクリエイト株式会社のプラズマCVD装置のカタログ
株式会社インターテック販売のプラズマCVD装置のカタログ
テルモセラ・ジャパン株式会社のプラズマCVD装置のカタログ
ナノテック株式会社のプラズマCVD装置のカタログ
株式会社サクラクレパスのプラズマCVD装置のカタログ


プラズマCVD装置メーカー 16社

*一部商社などの取扱い企業なども含みます。

ジャパンクリエイト株式会社のプラズマCVD装置
・2周波独立印可方式を採用。これにより低応力、高硬度、高絶縁性を実現
・特殊表面処理によるメタルコンタミ低減
・広範な膜特性の制御が可能
・ウエハ/ガラス/樹脂等、様々な基板材質に成膜可能
  各種装置をオーダーメイドで承っております

新明和工業株式会社のプラズマCVD装置
・プラズマ処理により先鋭化と窒化を同時に行うことが可能。
・ダイヤモンド被膜の先鋭化も可能
・カミソリなどの刃物の刃先処理


プラズマCVD装置 2024年9月のメーカーランキング

*一部商社などの取扱い企業なども含みます

注目ランキング導出方法について

注目ランキングは、2024年9月のプラズマCVD装置ページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。

社員数の規模

  1. 新明和工業: 3,264人
  2. アルバック: 1,361人
  3. 住友精密工業: 1,096人

設立年の新しい会社

  1. SCREENファインテックソリューションズ: 2014年
  2. SPPテクノロジーズ: 2011年
  3. コーンズ テクノロジー: 1990年

歴史のある会社

  1. 大亜真空: 1939年
  2. 新明和工業: 1949年
  3. 神港精機: 1949年

プラズマCVD装置注目ランキング

製品の閲覧数をもとに算出したランキング

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プラズマCVD装置の製品 18点


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ジャパンクリエイト株式会社

独自のプラズマ制御方式 立体物用プラズマCVD装置

食品業界用 電子・電気機器業界用 自動車・輸送用機器業界用

200人以上が見ています

最新の閲覧: 20時間前

100.0% 返答率

■特徴 ・チャンバー容積 1m3 ・独自のプラズマ制御方式 ・多段式大量一括処理可能 ・高い汎用性を備えたシンプルな構造 ・様々な製品材質に成膜可能 ・広範な...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

ICPCVDプロセスモジュール PlasmaPro 100 ICPCVD

160人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.4時間 平均返答時間

ICPCVD (誘導結合プラズマ) プロセスモジュールは、低温で高品質の薄膜を製造するように設計され、高密度リモートプラズマによりダメージの少ない優れた薄膜...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

ナノ材料の高い成膜特性を実現 PlasmaPro 100 Nano CVD

160人以上が見ています

最新の閲覧: 7分前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.4時間 平均返答時間

化学気相堆積 (CVD) やプラズマCVD (PECVD) は、1Dナノ材料や 2Dナノ材料の成長、ヘテロ接合の形成に適したツールです。PlasmaPro 100 Nano (以前の名称は Na...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

プラズマCVDシステム PlasmaPro 100 PECVD

140人以上が見ています

最新の閲覧: 48分前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.4時間 平均返答時間

PlasmaPro 100 PECVD システムは、屈折率、応力、電気特性、ウェットケミカルエッチング速度などの膜特性を制御し、優れた均一性を持つ高品質な薄膜製造用の...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

コンパクトな多様なエッチングとデポジションのソリューション PlasmaPro 80 PECVD

170人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.4時間 平均返答時間

PlasmaPro 80は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易いオープンロード方式で実現します。...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易い大気装入方式で実現 PlasmaPro 80 RIE

160人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

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100.0% 返答率

24.4時間 平均返答時間

■概要 PlasmaPro 80 リアクティブイオンエッチング (RIE) は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD

180人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.4時間 平均返答時間

PlasmaPro 800は、プラズマ励起化学気相堆積 (PECVD) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチと300mmウェハにおいて、コンパクトな専有面積か...


株式会社MPS

熱+プラズマCVD装置

110人以上が見ています

最新の閲覧: 53分前

100.0% 返答率

■概要 窒化物を作るための実験装置です。原料は塩化物とアンモニアを使用します。成膜はハロゲンランプ加熱による熱CVDと誘導結合プラズマによるプラズマCVD...


株式会社MPS

高圧パルスプラズマCVD装置

70人以上が見ています

100.0% 返答率

■概要 直流の高電圧パルス放電を利用したダイヤモンドライクカーボン用プラズマCVD装置です。原料ガスはメタンまたはアセチレンを選択できます。


株式会社MPS

RFプラズマCVD装置

120人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

100.0% 返答率

■概要 RF (13.56MHz) を使用したプラズマCVD装置です。絶縁物でもDLCの成膜が可能です。


神港精機株式会社

薄膜形成装置 プラズマCVD装置

200人以上が見ています

600mm 基板に対応した大型プラズマCVD装置です。 緻密なシリコン酸化膜の形成が可能で薄膜キャパシタの作製に適しています。


XQ Instruments

大型基板用PECVD COPRA Linear Sources

50人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

■特徴 ・パワーレベルに比例したイオンエネルギーの上昇が無い為、基板ダメージが少ない ・適用真空範囲が、1x10-4から1x10-1 mbarと広い為、スパッタ装置...


株式会社魁半導体

真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD

240人以上が見ています

最新の閲覧: 23分前

100.0% 返答率

業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。 ■製品概要 ・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属系の材料も危険なガス...


アルバック販売株式会社

ロードロック式プラズマCVD装置 CC-200/400

30人以上が見ています

100.0% 返答率

■概要 ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。 ■用途 ・パワーデバイス ・LED、LD、高速...


アルバック販売株式会社

枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400

30人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

100.0% 返答率

■概要 枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。 ■用途 ・パワーデバイス ・LED、LD、高速...


アルバック販売株式会社

枚葉式プラズマCVD装置 CMDシリーズ

30人以上が見ています

最新の閲覧: 6時間前

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■概要 CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。 ■用途 低温P-Si、α-Si TFT ■特長 ・従来のプロセス温度...


伯東株式会社

PE-CVD (バッチ/インライン)

90人以上が見ています

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■概要 centrotherm photovoltaicsは、太陽電池業界の先端技術を牽引する世界有数の企業です。1963年の拡散炉初号機製造から始まり、太陽電池バリューチェーン...


新着

株式会社マイクロフェーズ

CVD装置 RFプラズマアシストCVD装置 MPCVD-Plasma

10人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

ガスのイオン化や前駆体の分解を促進 ■概要 ・横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあるいは前駆体のイオン...


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プラズマCVD装置のカタログ 6件

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ジャパンクリエイト株式会社のプラズマCVD装置のカタログ
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