全てのカテゴリ
閲覧履歴
蒸着装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、蒸着装置のメーカー38社一覧や企業ランキングも掲載しております。蒸着装置関連企業の2025年2月注目ランキングは1位:テルモセラ・ジャパン株式会社、2位:長州産業株式会社、3位:新明和工業株式会社となっています。
蒸着装置は、減圧下で物質を気化させて対象物上に製膜する真空蒸着 (VD) を行う装置です。
蒸着装置を用いることで、対象物上に平滑な塗膜を形成することができ、その膜厚や組成の制御をすることも可能です。
蒸着装置ではアルミニウムなどの金属材料や有機無機材料など様々な材料での成膜が可能です。
蒸着装置は下記のような用途で利用されます。
図1. 蒸着装置の原理イメージと液相成長法
ロータリーポンプやターボ分子ポンプなどでチャンバー内を減圧状態にし、蒸着したい材料を気化させて、離れた位置にある対象物上に堆積させます。減圧状態にすることで、チャンバー内の不純物を取り除き、気化した物質の拡散性が向上し、密着性がよく平滑な膜を作製することができます。
物質の表面に製膜する方法としてメッキが有名ですが、メッキなどは液相から原料が供給されるのに対し、蒸着は気相から原料が供給されるという違いがあります。
蒸着装置に用いられる蒸着方法には、物質を気化させる方法によって、物理気相成長法 (または物理蒸着、英: Physical Vapor Deposition, PVD) と化学気相成長法 (または化学蒸着、英: Chemical Vapor Deposition, CVD) の2種類に分けられます。
図2. 物理気相成長法と主な種類
物理気相成長法は、加熱などの物理的な方法で蒸着材料の気化や昇華などを起こし、製膜する方法です。加熱方法は電子ビーム、抵抗加熱、高周波誘導、レーザーなどがあります。
また、プラズマや分子線などを利用した方法も物理気相成長法の1つです。
図3. 化学気相成長法と主な種類
化学気相成長法は、化学反応などの化学的な方法で、蒸着材料を蒸着対象物上に堆積させ製膜する方法です。代表的なものとして、熱CVD、光CVD、プラズマCVD、有機金属CVD、原子層成長 (ALD) などがあります。
上記の他にもさまざまな方式の蒸着装置が開発、販売されています。用途に応じて適切な装置を選択をする必要があります。
参考文献
https://www.satovac.co.jp/application/deposition.html
https://www.samco.co.jp/company/primer/2011/03/post.php
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jjspe/82/11/82_956/_pdf
http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2000_08/2000_08-759.pdf
https://ulvac-kiko.com/support/img/deposition_catalog_Jp_2018_10.pdf
https://www.semilinks.com/sub208.htm
https://showcase.ulvac.co.jp/ja/how-to/product-knowledge02/oil-diffusion-pump.html
https://www.samco.co.jp/ir/library/
https://www.oike-kogyo.co.jp/research/column/cvd/
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jvsj2/59/7/59_16-LC-011/_pdf
*一部商社などの取扱い企業なども含みます。
順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | テルモセラ・ジャパン株式会社 |
14.6%
|
2 | 長州産業株式会社 |
12.4%
|
3 | 新明和工業株式会社 |
10.7%
|
4 | 株式会社エイエルエステクノロジー |
10.1%
|
5 | ジャパンクリエイト株式会社 |
7.9%
|
6 | アルバック機工株式会社 |
4.5%
|
7 | 大阪真空工業株式会社 |
3.9%
|
8 | 神港精機株式会社 |
3.4%
|
9 | 株式会社真空デバイス |
2.8%
|
10 | 株式会社三啓 |
2.2%
|
北野精機株式会社
110人以上が見ています
最新の閲覧: 15時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
22.5時間 返答時間
■特徴 ・コンパクトで手軽に使用可能 ・メンテナンスが容易 ・通電加熱用フィラメント加熱式のルツボ構成 ・2種類の金属材料が自由に蒸着可能 ・材料の共蒸着...
北野精機株式会社
120人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
22.5時間 返答時間
■特徴 ・コンパクトで手軽に使用可能 ・メンテナンスが容易 ・通電加熱用フィラメント加熱式のルツボ構成 ・3種類の金属材料が自由に蒸着可能 ・材料の共蒸着...
北野精機株式会社
120人以上が見ています
最新の閲覧: 21時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
22.5時間 返答時間
■特徴 有機EL、有機トランジスタ、有機薄膜太陽電池などの素子作製用の有機蒸着源のクリーニングを行う装置です。有機溶剤等にて脱着困難な有機材料をヒータ...
株式会社エピクエスト
50人以上が見ています
最新の閲覧: 20時間前
生産用に。高度な分子線シュミレーション技術を駆使し設計されたセル基板装置より、大面積ホルダ (Φ8"以上) に高均一 (±1%以下) な結晶成長が行え、高い生産...
新明和工業株式会社
100人以上が見ています
100.0% 返答率
160.0時間 返答時間
■特長 ・縦型2枚扉式により生産性が向上 ・樹脂基板へのダイレクト蒸着と平板対向式放電電極により、高速、高性能な保護膜を成膜 ・蒸着電流制御の高性能化に...
北野精機株式会社
160人以上が見ています
最新の閲覧: 23時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
22.5時間 返答時間
■特徴 ・コンパクトで手軽に使用可能な蒸着源 ・メンテナンスが容易 ・通電加熱用フィラメント加熱式のルツボ構成 ・ルツボ容量は1cc~3ccと幅広い用途 ■応...
株式会社エピクエスト
50人以上が見ています
ハイグレードな研究に。より高度な研究から、準生産用に最適なMBE装置です。標準Ⅲ-Ⅴ族用に加え、Ⅱ-Ⅵ族用、Si系、金属系など種々の材料に対応可能です。
新明和工業株式会社
90人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
160.0時間 返答時間
■特長 ・縦型2枚扉式により生産性が向上 ・樹脂基板へのダイレクト蒸着と平板対向式放電電極により、高速、高性能な保護膜を成膜 ・蒸着電流制御の高性能化に...
株式会社エピクエスト
50人以上が見ています
ハイグレードな研究に。より高度な研究から、準生産用に最適なMBE装置です。標準Ⅲ-Ⅴ族用に加え、Ⅱ-Ⅵ族用、Si系、金属系など種々の材料に対応可能です。
アルバック販売株式会社
180人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
100.0% 返答率
125.8時間 返答時間
■概要 真空蒸留処理を目的とした装置です。熱感受性の高い物質 (熱分解・重合成のある物質) を、真空下で低温及び短時間で蒸留することが可能であり、分離効...
新明和工業株式会社
90人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
160.0時間 返答時間
■特長 ・縦型2枚扉式により生産性が向上 ・樹脂基板へのダイレクト蒸着と平板対向式放電電極により、高速、高性能な保護膜を成膜 ・蒸着電流制御の高性能化に...
新明和工業株式会社
100人以上が見ています
最新の閲覧: 22時間前
100.0% 返答率
160.0時間 返答時間
■特長 ・縦型2枚扉式により生産性が向上 ・樹脂基板へのダイレクト蒸着と平板対向式放電電極により、高速、高性能な保護膜を成膜 ・蒸着電流制御の高性能化に...
アルバック販売株式会社
140人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
100.0% 返答率
125.8時間 返答時間
■概要 EGNシリーズは、新たにメンテナンス性の向上に主軸を置いて開発した金属蒸着用電子ビーム蒸発源です。フラットトップ構造および15mmハースデッキの採用...
アルバック販売株式会社
110人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
100.0% 返答率
125.8時間 返答時間
■概要 アルバックの電子ビーム蒸着用EBガンは、すべて磁場偏向を使用しています。また、蒸発材料からの汚染を極力防ぐ構造となっています。ラインアップは、...
新明和工業株式会社
80人以上が見ています
最新の閲覧: 16時間前
100.0% 返答率
160.0時間 返答時間
■特長 ・縦型2枚扉式により生産性が向上 ・樹脂基板へのダイレクト蒸着と平板対向式放電電極により、高速、高性能な保護膜を成膜 ・蒸着電流制御の高性能化に...
新明和工業株式会社
90人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
160.0時間 返答時間
■特長 ・ロングライフスパッタ電極を採用 ・新開発のプラズマ重合方式により、高速重合と耐食性、親水性の連続成膜が可能 ・ハイパワースパッタ電源の採用に...
アルバック販売株式会社
100人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
100.0% 返答率
125.8時間 返答時間
■概要 EGP-1Gは、構造のシンプルな180ºビーム偏向方式を採用することによりコストを抑えた光学膜蒸着用電子ビーム蒸発源です。 ■用途 電子ビーム蒸着用蒸発...
新明和工業株式会社
70人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
160.0時間 返答時間
■特長 ・RFプラズマによる前処理、DCスパッタ、RFプラズマ重合の連続処理を1分タクトで実現 ・専用循環コンベアを装着し、全自動ラインを構築 ■主な用途 ・...
アトーテック株式会社
80人以上が見ています
100.0% 返答率
133.9時間 返答時間
SPUTTER ION SOURCE 3KVイオン銃 (SIG030) 用制御電源は、オートエミッション機構を有し、安定したイオン源です。
検索結果 91件 (3ページ/全3ページ)
670,000 円
320,000 円
1,200,000 円
Metoreeに登録されている蒸着装置91製品の2025年3月29日時点での価格データを元に算出しています。