株式会社真空デバイスのカタログ・会社概要・製品情報

株式会社真空デバイス

  • 茨城県
  • 1985年
  • 12人
  • メーカー
会社ホームページ
株式会社真空デバイス-ロゴ

会社概要

株式会社真空デバイスは、真空技術を使った電子顕微鏡周辺機器と実験用途向けの真空装置を開発している企業です。 主な製品は、マグネトロンスパッタ装置やプラズマCVD装置、蒸着装置プラズマ処理装置・凍結乾燥装置などを展開しています。 研究開発のサポートをしていくために必要な真空技術を様々な形で搭載して製品化しています。



株式会社真空デバイスの取り扱い製品

株式会社真空デバイスの製品が9件登録されています。

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真空デバイスの製品が2カテゴリに登録されています。

スパッタリング装置

蒸着装置

株式会社真空デバイス

スパッタ装置 FE-SEM 向けタングステンコーター MSP-20-TK

180人以上が見ています

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...

株式会社真空デバイス

スパッタ装置 電子顕微鏡向け全自動マグネトロンスパッタ装置 MSP-1S

180人以上が見ています

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ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...

株式会社真空デバイス

スパッタ装置 小型マグネトロンスパッタ装置 MSP-mini

170人以上が見ています

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...

株式会社真空デバイス

真空蒸着装置 TMP 排気・清浄真空 VE-2030

160人以上が見ています

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真空蒸着装置とは、真空雰囲気の中で材料を気化蒸発させ、サンプルに薄膜を成膜する装置です。ターボ分子ポンプを利用した高真空下で成...

株式会社真空デバイス

スパッタ装置 多目的簡易操作型マグネトロンスパッタ成膜装置 MSP-40T

140人以上が見ています

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...

株式会社真空デバイス

真空蒸着装置 小型デスクトップ高真空蒸着装置 VE-2013

130人以上が見ています

最新の閲覧: 9時間前

真空蒸着装置とは、真空雰囲気の中で材料を気化蒸発させ、サンプルに薄膜を成膜する装置です。ターボ分子ポンプを利用した高真空下で成...

株式会社真空デバイス

スパッタ装置 全自動機能付き貴金属コーター MSP-20-UM

130人以上が見ています

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...

株式会社真空デバイス

スパッタ装置 4インチターゲット全自動機能付き貴金属コーター MSP-20-MT

120人以上が見ています

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...

株式会社真空デバイス

スパッタ装置 8インチターゲット貴金属コーター MSP-8in

120人以上が見ています

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...

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会社基本情報

郵便番号 〒311-4155
本社住所 茨城県水戸市飯島町1285-5
創業年 1985年
資本金 10,000,000円
従業員数 12人
法人番号 3050001002979
会社区分 メーカー
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