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スパッタリング装置
蒸着装置
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ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
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2023年7月12日
郵便番号 | 〒311-4155 |
---|---|
本社住所 | 茨城県水戸市飯島町1285-5 |
創業年 | 1985年 |
資本金 | 10,000,000円 |
従業員数 | 12人 |
法人番号 | 3050001002979 |
会社区分 | メーカー |
リンク | 株式会社真空デバイス ホームページ |
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