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蒸着装置のメーカー39社一覧や企業ランキングを掲載中！蒸着装置関連企業の2025年5月注目ランキングは1位:長州産業株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:ジャパンクリエイト株式会社となっています。 蒸着装置の概要、用途、原理もチェック！
蒸着装置は、減圧下で物質を気化させて対象物上に製膜する真空蒸着 (VD) を行う装置です。
蒸着装置を用いることで、対象物上に平滑な塗膜を形成することができ、その膜厚や組成の制御をすることも可能です。
2025年5月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 長州産業株式会社 |
17.8%
|
| 2 | 新明和工業株式会社 |
12.1%
|
| 3 | ジャパンクリエイト株式会社 |
10.2%
|
| 4 | テルモセラ・ジャパン株式会社 |
9.6%
|
| 5 | 株式会社エイエルエステクノロジー |
7.0%
|
| 6 | 大阪真空工業株式会社 |
6.4%
|
| 7 | 株式会社オプトラン |
4.5%
|
| 8 | 株式会社シンクロン |
3.8%
|
| 9 | 佐藤真空株式会社 |
2.5%
|
| 10 | 北野精機株式会社 |
2.5%
|
28 点の製品がみつかりました
28 点の製品
長州産業株式会社
160人以上が見ています
返信のとても早い企業
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0.8時間 返答時間
全自動蒸着装置OASISを提供しています。社内に試作ラインを備え、予めサンプル作成を行うことでより実効性の高いシステムを提供します。...
テルモセラ・ジャパン株式会社
120人以上が見ています
最新の閲覧: 19時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
29.2時間 返答時間
■概要 本装置は、MiniLab シリーズのチャンバー部をグローブボックス作業ベンチ内に、制御ラック部をベンチ下に収納した装置です。スパ...
株式会社真空デバイス
600人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
33.7時間 返答時間
真空蒸着装置とは、真空雰囲気の中で材料を気化蒸発させ、サンプルに薄膜を成膜する装置です。ターボ分子ポンプを利用した高真空下で成...
テルモセラ・ジャパン株式会社
230人以上が見ています
最新の閲覧: 12時間前
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29.2時間 返答時間
■MiniLab ʻPlug & Playʼ 感覚でコンポーネントを組合せるモジュラーデザイン。必要な成膜条件を満たす専用機のセミカスタムメイドが可能...
株式会社真空デバイス
640人以上が見ています
最新の閲覧: 12時間前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
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33.7時間 返答時間
真空蒸着装置とは、真空雰囲気の中で材料を気化蒸発させ、サンプルに薄膜を成膜する装置です。ターボ分子ポンプを利用した高真空下で成...
株式会社マイクロフェーズ
230人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
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当社発案の360度回転キュービック基板ホルダーを搭載し、試料設置面積を4倍向上させました。 真空を破らず、1回のプロセスで、4つの成膜...
テルモセラ・ジャパン株式会社
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特徴 ■高品質膜 研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を揃えます。nanoシリーズは魂魄と...
入江株式会社
240人以上が見ています
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4.5 会社レビュー
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■概要 研究開発用、及び小ロット生産用の抵抗加熱式小型蒸着装置。本シリーズの一部機種には電子ビーム (EB) の搭載も可能です。 ■特徴...
三弘エマテック株式会社
380人以上が見ています
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5.0 会社レビュー
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■製品説明 架台内にターボ分子ポンプ・補助ポンプをコンパクトに収納した、抵抗加熱式で低コストタイプの小型真空蒸着装置です。クリー...
三弘エマテック株式会社
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5.0 会社レビュー
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■製品説明 架台内にターボ分子ポンプ・補助ポンプをコンパクトに収納した、抵抗加熱式で低コストタイプの小型真空蒸着装置です。クリー...
ハイソル株式会社
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本装置はHMDS (ヘキサメチルジシラザン) の蒸着成膜 (ベーパープライミング) に特化しており、装置の各種パラメータはあらかじめHMDS専...
ハイソル株式会社
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26.3時間 返答時間
本装置はHMDS (ヘキサメチルジシラザン) の蒸着成膜 (ベーパープライミング) に特化しており、装置の各種パラメータはあらかじめHMDS専...
北野精機株式会社
300人以上が見ています
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27.3時間 返答時間
■特徴 本装置はPVD手法からなるマグネトロンスパッタ源4個とEB蒸着源2個とMBE用K-CELL装備したハイブリッド型蒸着装置です。高融点材料...
株式会社MPS
260人以上が見ています
100.0% 返答率
57.6時間 返答時間
■概要 100kWの直進銃を搭載したEBPVD装置です。新しい断熱膜の研究開発用として使用していただいています。
神港精機株式会社
720人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
基礎研究実験に対応したローコストの小型蒸着装置です。 目的に合わせ蒸発機構・基板加熱・冷却機構等各種機構が選択できます。
アトーテック株式会社
140人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
100.0% 返答率
62.8時間 返答時間
本装置は各種金属、合金材料などを極高真空中 (X10-9Pa) で低温 (～100K) にして機械的衝撃により破断させた後直ぐに破面にNi等の真空蒸...
テルモセラ・ジャパン株式会社
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■概要 nano benchtop シリーズのラインナップに新たに加わった「蒸着」「スパッタ」混在型、” 3-in-1” マルチ薄膜実験装置 小型チャンバ...
アルバック販売株式会社
260人以上が見ています
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254.6時間 返答時間
■概要 架台内にターボ分子ポンプ・補助ポンプをコンパクトに収納した、抵抗加熱式で低コストタイプの小型真空蒸着装置です。クリーン排...
アルバック販売株式会社
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最新の閲覧: 3時間前
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254.6時間 返答時間
■概要 ターボ分子ポンプ+油回転真空ポンプを採用。抵抗加熱式の小型真空蒸着装置。架台内にメインポンプ・補助ポンプ・ピラニ真空計・電...
アルバック販売株式会社
230人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
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254.6時間 返答時間
■概要 水冷式油拡散ポンプ＋油回転真空ポンプを採用。抵抗加熱式の小型真空蒸着装置。架台内にメインポンプ・補助ポンプ・ピラニ真空計...
アルバック販売株式会社
230人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
100.0% 返答率
254.6時間 返答時間
■概要 空冷式油拡散ポンプ＋油回転真空ポンプを採用。抵抗加熱式の小型真空蒸着装置。パイプフレームにメインポンプ・補助ポンプ・バル...
アルバック販売株式会社
230人以上が見ています
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100.0% 返答率
254.6時間 返答時間
■概要 バッチ式高真空蒸着装置eiシリーズは、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置です。操作パネルから集中的制御で排気操作・成...
アルバック販売株式会社
250人以上が見ています
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■水冷式油拡散ポンプ (1,100L/sec) ＋油回転真空ポンプ 架台内に油拡散ポンプ・油回転真空ポンプ・ピラニ真空計・バルブ配管・電気系・...
アルバック販売株式会社
270人以上が見ています
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254.6時間 返答時間
■概要 ターボ分子ポンプ+油回転真空ポンプを採用。抵抗加熱式の小型真空蒸着装置。架台内にメインポンプ・補助ポンプ・ピラニ真空計・電...
ジャパンクリエイト株式会社
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■概要 デバイス開発や材料開発に最適なマルチチャンバ仕様の装置です。 前処理から成膜、封止までの工程を大気に触れずに処理することが...
株式会社エピクエスト
290人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
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18.7時間 返答時間
パーソナルユースに。低価格、省スペース、しかも高性能を実現した研究用MBE装置です。小型機ながら本格的な研究が可能です。STMなどの...
株式会社エピクエスト
150人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
18.7時間 返答時間
ハイグレードな研究に。より高度な研究から、準生産用に最適なMBE装置です。標準Ⅲ-Ⅴ族用に加え、Ⅱ-Ⅵ族用、Si系、金属系など種々の材料に...
株式会社エピクエスト
130人以上が見ています
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ハイグレードな研究に。より高度な研究から、準生産用に最適なMBE装置です。標準Ⅲ-Ⅴ族用に加え、Ⅱ-Ⅵ族用、Si系、金属系など種々の材料に...
蒸着装置は、減圧下で物質を気化させて対象物上に製膜する真空蒸着 (VD) を行う装置です。
蒸着装置を用いることで、対象物上に平滑な塗膜を形成することができ、その膜厚や組成の制御をすることも可能です。
蒸着装置ではアルミニウムなどの金属材料や有機無機材料など様々な材料での成膜が可能です。
蒸着装置は下記のような用途で利用されます。
図1. 蒸着装置の原理イメージと液相成長法
ロータリーポンプやターボ分子ポンプなどでチャンバー内を減圧状態にし、蒸着したい材料を気化させて、離れた位置にある対象物上に堆積させます。減圧状態にすることで、チャンバー内の不純物を取り除き、気化した物質の拡散性が向上し、密着性がよく平滑な膜を作製することができます。
物質の表面に製膜する方法としてメッキが有名ですが、メッキなどは液相から原料が供給されるのに対し、蒸着は気相から原料が供給されるという違いがあります。
蒸着装置に用いられる蒸着方法には、物質を気化させる方法によって、物理気相成長法 (または物理蒸着、英: Physical Vapor Deposition, PVD) と化学気相成長法 (または化学蒸着、英: Chemical Vapor Deposition, CVD) の2種類に分けられます。
図2. 物理気相成長法と主な種類
物理気相成長法は、加熱などの物理的な方法で蒸着材料の気化や昇華などを起こし、製膜する方法です。加熱方法は電子ビーム、抵抗加熱、高周波誘導、レーザーなどがあります。
また、プラズマや分子線などを利用した方法も物理気相成長法の1つです。
図3. 化学気相成長法と主な種類
化学気相成長法は、化学反応などの化学的な方法で、蒸着材料を蒸着対象物上に堆積させ製膜する方法です。代表的なものとして、熱CVD、光CVD、プラズマCVD、有機金属CVD、原子層成長 (ALD) などがあります。
上記の他にもさまざまな方式の蒸着装置が開発、販売されています。用途に応じて適切な装置を選択をする必要があります。
参考文献
https://www.satovac.co.jp/application/deposition.html
https://www.samco.co.jp/company/primer/2011/03/post.php
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jjspe/82/11/82_956/_pdf
http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2000_08/2000_08-759.pdf
https://ulvac-kiko.com/support/img/deposition_catalog_Jp_2018_10.pdf
https://www.semilinks.com/sub208.htm
https://showcase.ulvac.co.jp/ja/how-to/product-knowledge02/oil-diffusion-pump.html
https://www.samco.co.jp/ir/library/
https://www.oike-kogyo.co.jp/research/column/cvd/
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jvsj2/59/7/59_16-LC-011/_pdf
