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蒸着装置のメーカー38社一覧や企業ランキングを掲載中！蒸着装置関連企業の2025年7月注目ランキングは1位:長州産業株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:テルモセラ・ジャパン株式会社となっています。 蒸着装置の概要、用途、原理もチェック！
蒸着装置は、減圧下で物質を気化させて対象物上に製膜する真空蒸着 (VD) を行う装置です。
蒸着装置を用いることで、対象物上に平滑な塗膜を形成することができ、その膜厚や組成の制御をすることも可能です。
2025年7月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 長州産業株式会社 |
14.9%
|
| 2 | 新明和工業株式会社 |
10.1%
|
| 3 | テルモセラ・ジャパン株式会社 |
10.1%
|
| 4 | 株式会社エイエルエステクノロジー |
8.1%
|
| 5 | ジャパンクリエイト株式会社 |
8.1%
|
| 6 | 株式会社サンバック |
4.1%
|
| 7 | 株式会社シンクロン |
4.1%
|
| 8 | 株式会社真空デバイス |
3.4%
|
| 9 | 大阪真空工業株式会社 |
3.4%
|
| 10 | アリオス株式会社 |
3.4%
|
7 点の製品がみつかりました
7 点の製品
ジャパンクリエイト株式会社
470人以上が見ています
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
129.3時間 返答時間
■概要 デバイス開発や材料開発に最適なマルチチャンバ仕様の装置です。 前処理から成膜、封止までの工程を大気に触れずに処理することが...
北野精機株式会社
350人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
本製品は高蒸気圧材料 (有機物) 薄膜成長用に、低温で安定して動作できる低温セル (Organic Deposition Cell：KOD-Cell) です。KOD-Cell...
北野精機株式会社
270人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の比較的早い企業
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25.1時間 返答時間
■特徴 ・ICF-70によるコンパクト/省スペース設計 ・シャッター機構標準装備 ・±0.1℃による温度設定が可能 ・ルツボは、4ccで、幅広い用...
長州産業株式会社
180人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
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100.0% 返答率
0.8時間 返答時間
全自動蒸着装置OASISを提供しています。社内に試作ラインを備え、予めサンプル作成を行うことでより実効性の高いシステムを提供します。...
テルモセラ・ジャパン株式会社
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29.2時間 返答時間
■概要 本装置は、MiniLab シリーズのチャンバー部をグローブボックス作業ベンチ内に、制御ラック部をベンチ下に収納した装置です。スパ...
テルモセラ・ジャパン株式会社
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■概要 nanoPVD-T15A は、卓上・コンパクトサイズの高性能『有機膜・金属膜蒸着』装置です。温度応答性 / 安定性に優れた低温有機蒸着源 ...
テルモセラ・ジャパン株式会社
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29.2時間 返答時間
■概要 nano benchtop シリーズのラインナップに新たに加わった「蒸着」「スパッタ」混在型、” 3-in-1” マルチ薄膜実験装置 小型チャンバ...
蒸着装置は、減圧下で物質を気化させて対象物上に製膜する真空蒸着 (VD) を行う装置です。
蒸着装置を用いることで、対象物上に平滑な塗膜を形成することができ、その膜厚や組成の制御をすることも可能です。
蒸着装置ではアルミニウムなどの金属材料や有機無機材料など様々な材料での成膜が可能です。
蒸着装置は下記のような用途で利用されます。
図1. 蒸着装置の原理イメージと液相成長法
ロータリーポンプやターボ分子ポンプなどでチャンバー内を減圧状態にし、蒸着したい材料を気化させて、離れた位置にある対象物上に堆積させます。減圧状態にすることで、チャンバー内の不純物を取り除き、気化した物質の拡散性が向上し、密着性がよく平滑な膜を作製することができます。
物質の表面に製膜する方法としてメッキが有名ですが、メッキなどは液相から原料が供給されるのに対し、蒸着は気相から原料が供給されるという違いがあります。
蒸着装置に用いられる蒸着方法には、物質を気化させる方法によって、物理気相成長法 (または物理蒸着、英: Physical Vapor Deposition, PVD) と化学気相成長法 (または化学蒸着、英: Chemical Vapor Deposition, CVD) の2種類に分けられます。
図2. 物理気相成長法と主な種類
物理気相成長法は、加熱などの物理的な方法で蒸着材料の気化や昇華などを起こし、製膜する方法です。加熱方法は電子ビーム、抵抗加熱、高周波誘導、レーザーなどがあります。
また、プラズマや分子線などを利用した方法も物理気相成長法の1つです。
図3. 化学気相成長法と主な種類
化学気相成長法は、化学反応などの化学的な方法で、蒸着材料を蒸着対象物上に堆積させ製膜する方法です。代表的なものとして、熱CVD、光CVD、プラズマCVD、有機金属CVD、原子層成長 (ALD) などがあります。
上記の他にもさまざまな方式の蒸着装置が開発、販売されています。用途に応じて適切な装置を選択をする必要があります。
参考文献
https://www.satovac.co.jp/application/deposition.html
https://www.samco.co.jp/company/primer/2011/03/post.php
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jjspe/82/11/82_956/_pdf
http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2000_08/2000_08-759.pdf
https://ulvac-kiko.com/support/img/deposition_catalog_Jp_2018_10.pdf
https://www.semilinks.com/sub208.htm
https://showcase.ulvac.co.jp/ja/how-to/product-knowledge02/oil-diffusion-pump.html
https://www.samco.co.jp/ir/library/
https://www.oike-kogyo.co.jp/research/column/cvd/
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jvsj2/59/7/59_16-LC-011/_pdf
