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蒸着装置のメーカー38社一覧や企業ランキングを掲載中！蒸着装置関連企業の2025年7月注目ランキングは1位:長州産業株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:テルモセラ・ジャパン株式会社となっています。 蒸着装置の概要、用途、原理もチェック！
蒸着装置は、減圧下で物質を気化させて対象物上に製膜する真空蒸着 (VD) を行う装置です。
蒸着装置を用いることで、対象物上に平滑な塗膜を形成することができ、その膜厚や組成の制御をすることも可能です。
2025年7月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 長州産業株式会社 |
14.9%
|
| 2 | 新明和工業株式会社 |
10.1%
|
| 3 | テルモセラ・ジャパン株式会社 |
10.1%
|
| 4 | 株式会社エイエルエステクノロジー |
8.1%
|
| 5 | ジャパンクリエイト株式会社 |
8.1%
|
| 6 | 株式会社サンバック |
4.1%
|
| 7 | 株式会社シンクロン |
4.1%
|
| 8 | 株式会社真空デバイス |
3.4%
|
| 9 | 大阪真空工業株式会社 |
3.4%
|
| 10 | アリオス株式会社 |
3.4%
|
項目別
使用用途
#研究開発
#金属膜
#有機エレクトロニクス
#電子顕微鏡試料
#多層膜
#電子部品半導体
#超高真空
#保護膜
蒸着方式
抵抗加熱蒸着型
電子ビーム蒸着型
成膜環境
真空蒸着型
高真空蒸着型
イナートガス雰囲気型
蒸着材料供給方式
単発源型
多元源型
特徴機能
自動制御型
高速成膜型
高精度厚さ制御型
クリーン対応型
排気時間 分
10 - 15
15 - 20
20 - 25
排気系主ポンプ
クライオポンプ
油拡散ポンプ
ターボ分子ポンプ
操作方法
全自動
手動
自動
基板サイズ mm
50 - 100
100 - 200
200 - 300
1,000 - 3,000
チャンバーサイズ mm
150 - 200
200 - 250
250 - 300
300 - 350
350 - 400
蒸発方式
抵抗加熱
電子銃
高周波誘導加熱
基板加熱温度 ℃
100 - 500
膜厚分布 %
1 - 5
5 - 15
70 点の製品がみつかりました
70 点の製品
神港精機株式会社
900人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
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個別半導体・化合物半導体の生産工程で豊富な実績を誇るベストセラータイプです。 豊富なオプションと高い信頼性が量産現場で実力発揮し...
4種類の品番
神港精機株式会社
650人以上が見ています
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162.9時間 返答時間
用途が拡大しているリフトオフプロセスに対応した専用蒸着装置です。 高い蒸発粒子の垂直性と基板水冷機構の採用によりレジストの保護と...
2種類の品番
神港精機株式会社
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電子デバイス用特殊仕様。特別なプロセスやデバイスに特化し基板形状や処理温度を問わず柔軟に対応しています。
4種類の品番
神港精機株式会社
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抵抗体の端面、水晶振動子の電極形成等小型電子部品の生産に最適です。 小型チャンバーで大量の処理が可能で基板の両面一括成膜が行えま...
3種類の品番
神港精機株式会社
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162.9時間 返答時間
基礎研究実験に対応したローコストの小型蒸着装置です。 目的に合わせ蒸発機構・基板加熱・冷却機構等各種機構が選択できます。
4種類の品番
神港精機株式会社
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自動車の外装品の装飾目的の成膜に対応した大型蒸着装置です。短タクトで樹脂基板に低温で蒸着が可能です。 電磁波シールドも含め多くの...
株式会社真空デバイス
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返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
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33.7時間 返答時間
真空蒸着装置とは、真空雰囲気の中で材料を気化蒸発させ、サンプルに薄膜を成膜する装置です。ターボ分子ポンプを利用した高真空下で成...
株式会社真空デバイス
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返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
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真空蒸着装置とは、真空雰囲気の中で材料を気化蒸発させ、サンプルに薄膜を成膜する装置です。ターボ分子ポンプを利用した高真空下で成...
三弘エマテック株式会社
420人以上が見ています
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4.5 会社レビュー
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■製品説明 架台内にターボ分子ポンプ・補助ポンプをコンパクトに収納した、抵抗加熱式で低コストタイプの小型真空蒸着装置です。クリー...
三弘エマテック株式会社
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■製品説明 架台内にターボ分子ポンプ・補助ポンプをコンパクトに収納した、抵抗加熱式で低コストタイプの小型真空蒸着装置です。クリー...
コスモトレーディング株式会社
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IB-29510VET 真空蒸着装置は、電子顕微鏡用試料作製が容易に行える真空蒸着装置です。高分解能観察に適したカーボン膜、各種金属蒸着膜...
アルバック販売株式会社
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■概要 プラスチックフィルム、紙、金属箔等を連続的に巻取りながら、金属や酸化物等を蒸着する成膜装置です。小型の実験機から大量生産...
アルバック販売株式会社
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■概要 バッチ式高真空蒸着装置eiシリーズは、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置です。操作パネルから集中的制御で排気操作・成...
アルバック販売株式会社
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■水冷式油拡散ポンプ (1,100L/sec) ＋油回転真空ポンプ 架台内に油拡散ポンプ・油回転真空ポンプ・ピラニ真空計・バルブ配管・電気系・...
アルバック販売株式会社
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■概要 ターボ分子ポンプ+油回転真空ポンプを採用。抵抗加熱式の小型真空蒸着装置。架台内にメインポンプ・補助ポンプ・ピラニ真空計・電...
アルバック販売株式会社
290人以上が見ています
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■概要 架台内にターボ分子ポンプ・補助ポンプをコンパクトに収納した、抵抗加熱式で低コストタイプの小型真空蒸着装置です。クリーン排...
アルバック販売株式会社
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■概要 ターボ分子ポンプ+油回転真空ポンプを採用。抵抗加熱式の小型真空蒸着装置。架台内にメインポンプ・補助ポンプ・ピラニ真空計・電...
アルバック販売株式会社
260人以上が見ています
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175.8時間 返答時間
■概要 水冷式油拡散ポンプ＋油回転真空ポンプを採用。抵抗加熱式の小型真空蒸着装置。架台内にメインポンプ・補助ポンプ・ピラニ真空計...
アルバック販売株式会社
280人以上が見ています
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■概要 空冷式油拡散ポンプ＋油回転真空ポンプを採用。抵抗加熱式の小型真空蒸着装置。パイプフレームにメインポンプ・補助ポンプ・バル...
アルバック販売株式会社
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175.8時間 返答時間
■概要 空冷拡散ポンプ (200L/sec) ＋油回転ポンプ採用。低コストタイプの小型真空蒸着装置 (抵抗加熱式) 。パイプフレームにメインポン...
入江株式会社
290人以上が見ています
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4.7 会社レビュー
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11.2時間 返答時間
■概要 研究開発用、及び小ロット生産用の抵抗加熱式小型蒸着装置。本シリーズの一部機種には電子ビーム (EB) の搭載も可能です。 ■特徴...
テルモセラ・ジャパン株式会社
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29.2時間 返答時間
■概要 本装置は、MiniLab シリーズのチャンバー部をグローブボックス作業ベンチ内に、制御ラック部をベンチ下に収納した装置です。スパ...
テルモセラ・ジャパン株式会社
140人以上が見ています
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29.2時間 返答時間
■概要 nanoPVD-T15A は、卓上・コンパクトサイズの高性能『有機膜・金属膜蒸着』装置です。温度応答性 / 安定性に優れた低温有機蒸着源 ...
テルモセラ・ジャパン株式会社
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■概要 nano benchtop シリーズのラインナップに新たに加わった「蒸着」「スパッタ」混在型、” 3-in-1” マルチ薄膜実験装置 小型チャンバ...
株式会社マイクロフェーズ
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当社発案の360度回転キュービック基板ホルダーを搭載し、試料設置面積を4倍向上させました。 真空を破らず、1回のプロセスで、4つの成膜...
株式会社マイクロフェーズ
280人以上が見ています
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水分や酸素を嫌う試料を大気に曝されずに、その表面に金属膜を真空蒸着して回収したい場合があります。 しかし、従来の真空蒸着装置では...
株式会社マイクロフェーズ
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粒状や粉末タイプの試料表面に各種金属薄膜をコートするための真空蒸着装置です。 蒸発源を上方から下向きに蒸発させることを可能にする...
フジ・インバック株式会社
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■概要 排気系に安価なDPを使用した省スペースタイプ
株式会社エピクエスト
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架台内にターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ、ピラニ真空計、電離真空計などをコンパクトに収納した小型の真空蒸着装置です。大型の排...
株式会社昭和真空
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■生産量UPを追及して1台で2台分の生産性を実現 従来のSapio1700から「排気工程の短縮」、「成膜工程の短縮」、「ベント工程の短縮」、「...
株式会社昭和真空
20人以上が見ています
バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター，バンドパスフィルターなど) 、各...
株式会社昭和真空
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バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター，バンドパスフィルターなど) 、各...
株式会社昭和真空
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バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター，バンドパスフィルターなど) 、各...
株式会社昭和真空
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バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター，バンドパスフィルターなど) 、各...
株式会社昭和真空
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■金属蒸着のスタンダードモデル φ4インチ及びφ6インチウエハに対して電極膜及び酸化膜の成膜が可能です。蒸着物のウエハへの入射角が垂...
株式会社昭和真空
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■金属薄膜用蒸着装置のコンパクトモデル 抵抗加熱式蒸発源もしくは電子ビーム蒸発源による金属材料の成膜が可能です。研究開発・小ロッ...
株式会社昭和真空
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■金属薄膜用蒸着装置のコンパクトモデル 抵抗加熱式蒸発源もしくは電子ビーム蒸発源による金属材料の成膜が可能です。研究開発・小ロッ...
株式会社昭和真空
10人以上が見ています
■Au/Snの2元同時蒸着が可能な蒸着装置 2元同時蒸着によりAu/Snの組成比管理及び膜厚管理が可能です。また、基板冷却機構及び間欠成膜機...
株式会社昭和真空
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■耐腐食性の高いY₂O₃厚膜を成膜し、シールド膜の形成が可能 耐プラズマ膜 (Y₂O₃膜) の厚膜成膜が可能です。イオンアシスト蒸着 (IAD：Io...
株式会社昭和真空
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■加飾膜などに適したスタンダードモデル 各種金属膜の成膜が可能です。基板台車を2台付属しており、成膜中に基板交換、蒸着材料交換が可...
株式会社シンクロン
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■概要 光学薄膜から金属膜まで、成膜に関する幅広い要求に対応できる、汎用性の高い蒸着装置です。高水準の性能や量産性はそのままに、...
株式会社シンクロン
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■用途 光学 ■概要 TiO2/SiO2282層33μmの多層膜において、ラフネスを抑え「低Hazeを実現」。 ■特徴 ・低散乱 (低Haze) な超多層膜を実...
株式会社シンクロン
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■概要 蒸着室を成膜のたびに大気にさらすことなく、成膜プロセス室を常に高真空に保つことが可能。そのため、屈折率が安定し、高品位な...
株式会社シンクロン
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株式会社シンクロン
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■用途 光学 ■特徴 ・分割ドームを用いて、一度に大量のレンズを成膜することができます ・低温成膜に最適な基板加熱方式を採用するとと...
株式会社シンクロン
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■用途 電子、電気の制御 ■概要 電子デバイスの電極用成膜装置として広く使用されています。 特にSAWフィルターのIDT (InterdigitalTran...
株式会社シンクロン
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株式会社オプトラン
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OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
株式会社オプトラン
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OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
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本装置は反射防止膜を大量生産するために設計製作された光学薄膜形成装置です。 ■特長 ・ドーム回転は磁気シール駆動による中心回転方...
株式会社オプトラン
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本装置は防汚膜 (AS) 、反射防止膜 (AR) だけでなく、両者を組み合せた成膜 (AR+AS) に特化した大型光学薄膜形成装置です。 ■特長 ・ド...
株式会社オプトラン
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Gener-2750は加飾膜、反射防止膜 (AR) 、防汚膜 (AS) を成膜する大型IAD装置です。 ■特長 ・ドーム径φ2,640 ・高いスループット・大量...
株式会社オプトラン
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RPDシリーズは、高性能なLED 機能性膜 (ITO/AlN) を低コストにて量産することができる反応性プラズマ成膜装置です。 ■特長 ・反応性プ...
蒸着装置は、減圧下で物質を気化させて対象物上に製膜する真空蒸着 (VD) を行う装置です。
蒸着装置を用いることで、対象物上に平滑な塗膜を形成することができ、その膜厚や組成の制御をすることも可能です。
蒸着装置ではアルミニウムなどの金属材料や有機無機材料など様々な材料での成膜が可能です。
蒸着装置は下記のような用途で利用されます。
図1. 蒸着装置の原理イメージと液相成長法
ロータリーポンプやターボ分子ポンプなどでチャンバー内を減圧状態にし、蒸着したい材料を気化させて、離れた位置にある対象物上に堆積させます。減圧状態にすることで、チャンバー内の不純物を取り除き、気化した物質の拡散性が向上し、密着性がよく平滑な膜を作製することができます。
物質の表面に製膜する方法としてメッキが有名ですが、メッキなどは液相から原料が供給されるのに対し、蒸着は気相から原料が供給されるという違いがあります。
蒸着装置に用いられる蒸着方法には、物質を気化させる方法によって、物理気相成長法 (または物理蒸着、英: Physical Vapor Deposition, PVD) と化学気相成長法 (または化学蒸着、英: Chemical Vapor Deposition, CVD) の2種類に分けられます。
図2. 物理気相成長法と主な種類
物理気相成長法は、加熱などの物理的な方法で蒸着材料の気化や昇華などを起こし、製膜する方法です。加熱方法は電子ビーム、抵抗加熱、高周波誘導、レーザーなどがあります。
また、プラズマや分子線などを利用した方法も物理気相成長法の1つです。
図3. 化学気相成長法と主な種類
化学気相成長法は、化学反応などの化学的な方法で、蒸着材料を蒸着対象物上に堆積させ製膜する方法です。代表的なものとして、熱CVD、光CVD、プラズマCVD、有機金属CVD、原子層成長 (ALD) などがあります。
上記の他にもさまざまな方式の蒸着装置が開発、販売されています。用途に応じて適切な装置を選択をする必要があります。
参考文献
https://www.satovac.co.jp/application/deposition.html
https://www.samco.co.jp/company/primer/2011/03/post.php
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jjspe/82/11/82_956/_pdf
http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2000_08/2000_08-759.pdf
https://ulvac-kiko.com/support/img/deposition_catalog_Jp_2018_10.pdf
https://www.semilinks.com/sub208.htm
https://showcase.ulvac.co.jp/ja/how-to/product-knowledge02/oil-diffusion-pump.html
https://www.samco.co.jp/ir/library/
https://www.oike-kogyo.co.jp/research/column/cvd/
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jvsj2/59/7/59_16-LC-011/_pdf
