テルモセラ・ジャパン株式会社のカタログ・会社概要・製品情報

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』RF/DCマグネトロンスパッタリングシステム

小型・省スペース ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置nanoPVD-S10Aは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源...

蒸着装置『nanoPVD-T15A 有機膜・金属膜蒸着装置』

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性...

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ フレキシブル薄膜実験装置』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。 MiniLab R&D用実験装置シ...

真空炉『Mini-BENCH（ミニベンチ）超高温卓上型実験炉』

真空炉『Mini-BENCH（ミニベンチ）超高温卓上型実験炉』卓上小型サイズ実験炉。省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。実験室...

真空炉『Mini-BENCH-prism セミオート式超高温実験炉』

真空炉『Mini-BENCH-prism セミオート式超高温実験炉』最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペー...

アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』C/Cコンポジットヒーター採用：小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置◉Max2000℃（真空中1...

アニール炉『ANNEAL ウエハーアニール装置』

アニール炉『ANNEAL ウエハーアニール装置』Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）高真空水冷式...

CVD装置『nanoCVD-8G/8N』グラフェン/CNT合成装置

CVD装置『nanoCVD-8G/8N』グラフェン/CNT合成装置 ◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWNT）合成実験が可能 ◉ 1バッチわずか30分...

CVD装置『Nanofurnace 熱CVD装置』

CVD装置『Nanofurnace 熱CVD装置』【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置◉ グラフェン, カーボンナノチューブ
◉ ZnO...

真空炉『TCF-C500 超高温小型実験炉』

真空炉『TCF-C500 超高温小型実験炉』Max2900℃(カーボン炉）、Max2400℃（メタル炉）
・有効加熱エリア 70 x 70 x1 00mm
新素材・新材料開発、及び半導体・電...

蒸着装置『MiniLab-026フレキシブル薄膜実験装置』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"...

スパッタリング装置『MiniLab-060フレキシブル薄膜実験装置』

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置下記蒸着源から組合せが可能・抵抗加熱蒸着源 x 最大4・有機蒸着源 x 最大4・電子ビーム蒸着・2inchマグネ...

蒸着装置『MiniLab-080フレキシブル薄膜実験装置』

蒸着装置『MiniLab-080フレキシブル薄膜実験装置』蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一...

蒸着装置『MiniLab-090フレキシブル薄膜実験装置』

蒸着装置『MiniLab-090フレキシブル薄膜実験装置』80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブ...

蒸着装置『MiniLab-026/090-GBグローブボックス薄膜実験装置 』

蒸着装置『MiniLab-026/090-GBグローブボックス薄膜実験装置 』小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボッ...

ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力制御によるダメージレスエッチング

【nanoETCH（ナノエッチ）】Model. ETCH5A＜30W、制御精度10mA　安定性の高い低出力RFエッチングコントロールにより、精細でダメージレスなエッチング処理を...

スパッタ・蒸着ソース混在 複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース（抵抗加熱・有機蒸着）混在型薄膜実験装置'nanoPVD-ST15A'抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロン...

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

欧州アカデミックパートナーとの共同開発。ウエハースケール・グラフェン合成装置。 Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清...

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシ...

多機能・4源スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタのみならず、蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールも組込み可能、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置【装置構成...

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

【UHV対応 PVD/CVD真空薄膜実験用 面状加熱ヒーター】 大学・研究機関のお客様に限定した安価で短納期なヒーター製品を用意致しました。３種類のサイズ（Φ1, ...

【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

CVD, PVD（蒸着, スパッタ, PLD, ALD等）均熱性・再現性に優れた高真空 超高温ウエハー加熱用ホットプレートヒータープレートにインコネルもしくはBNプレート...

【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【ホットステージ】超高温基板加熱機構CVD、PVD装置の超高温基板加熱ステージに、高温加熱・基板昇降・...

マグネトロンスパッタリングカソード【MAG】series

不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。 【特徴】・高真空対応・Φ2inch...

薄膜実験装置_製品案内_2023

半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。【Nano Benchtopシリーズ】コンパクトサイズ・ハイパフォ...

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用） 4元マルチスパッタ（Φ6, 8inch用） 連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより...

nano Benchtopシリーズ コンパクト薄膜実験装置

研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を備えます。nanoシリーズはコンパクトボディに機能を凝縮した高性能装...