スパッタリング装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、スパッタリング装置のメーカー14社一覧や企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。スパッタリング装置関連企業の2024年3月注目ランキングは1位:キヤノンアネルバ株式会社、2位:パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社、3位:テルモセラ・ジャパン株式会社となっています。
スパッタリング装置はごく薄い膜を対象物の表面に均一に作製するスパッタリングを行う装置です。
スパッタリングとは、真空蒸着やイオンプレーティングと同じく物理気相成長法 (PVD法) の一つです。主に半導体や液晶の成膜をはじめとしたさまざまな分野で活用いられています。また、対象物の表面を清浄化する際に用いられることもあります。
スパッタリング装置は、半導体、液晶、プラズマディスプレイなどの薄膜作製に利用されています。また、他のPVD法の蒸着装置と比較して、スパッタリング装置は高融点の金属や合金の成膜が可能であるため、用途が広い特徴があります。
最近では、プラスチックやガラス、フィルムの表面に金属を成膜して導電性を持たせ、透明電極やタッチパネルの配線としても利用されており、スパッタリング装置の用途の幅はさらに広がっています。
他に、光触媒作用のある酸化チタンを表面にコーティングし、抗菌作用を持たせた医療器具や雑貨等も販売されています。また、走査型電子顕微鏡 (SEM) の試料調製など分析用途でも利用されています。
図1. スパッタリング装置の構造
スパッタリング装置は、主に下記のもので構成されています。
真空チャンバー内に基板を保持する試料台とスパッタ材料を供給するスパッタターゲットがあり、真空ポンプとガスの供給系がチャンバーにつながっています。
図2. スパッタリングの原理
スパッタリング装置の原理は、真空下で高電圧をかけ、膜材料の原子をはじきとばして対象物表面に成膜するものです。まず、ポンプによってチャンバー内を十分な減圧状態にした後、アルゴンなどの不活性ガスを一定圧力で装置内に充填します。
薄膜の材料となるターゲットに高い陰電圧をかけグロー放電を起こすと、あらかじめ装置内に充填されていたアルゴンがプラズマ化され、陰極上のターゲットに衝突し、ターゲット上の原子や分子がはじき出されます。はじき出されたターゲット原子が、陽電圧をかけた対象物の表面に堆積し、薄膜を作製することができます。
スパッタリングの方式には、様々な種類があります。
図3. 主なスパッタリング装置の種類
直流電圧を電極間にかける方法です。構造が単純などの様々な利点がありますが、試料が高温のプラズマによる損傷を受ける可能性があり、スパッタリングターゲットが絶縁体の場合、製膜が正常に行えないなどの欠点があります。
高周波の交流電圧電極間にかける方法です。DC方式では製膜できないようなセラミックスやシリカなどの酸化物や金属酸化物、窒化物などの物質でも製膜することができます。
ターゲット側に磁石で磁界をつくり、プラズマをターゲット付近にとどめる方法です。試料のプラズマによる損傷が減少するだけでなく、プラズマの生成速度が向上するため、製膜速度が速くなります。直流、交流、高周波交流など様々な電源方式で利用できます。一方で、ターゲットの減り方にムラができ、利用効率が低い傾向にあります。
イオンをターゲットや試料と別の場所でつくり、ターゲットに加速してあてる方法です。チャンバー内で放電を行わない方法なので、試料への影響が最小限で済むだけでなく、不純物の付着やターゲットの導電性などを考慮する必要がありません。
上記以外にも電子サイクロトロン (ECR) など様々な種類のスパッタリング装置があり、用途や予算に応じて適切に選択する必要があります。
スパッタリング装置による成膜は、膜厚を均一にすることができ、かつ電気的性質を利用しているので、膜の強度を高くすることができます。他のPVD法では難しい、高融点金属や合金材料の膜が作製できます。また、アルゴンなどの不活性ガスの代わりに酸素を充填し、酸化物の成膜を行う方法もあります。
一方で、成膜にかかる時間が他のPVD法と比較して長いことや、発生したプラズマによるスパッタ対象を損傷するリスクなどのデメリットもあります。
参考文献
https://www.oike-kogyo.co.jp/research/column/sputtering/
http://www.sanyu-electron.co.jp/c/index.php?cID=172
https://plastics-japan.com/archives/2015
*一部商社などの取扱い企業なども含みます。
2024年3月の注目ランキングベスト10
注目ランキング導出方法順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | キヤノンアネルバ株式会社 |
19.7%
|
2 | パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社 |
17.8%
|
3 | テルモセラ・ジャパン株式会社 |
12.2%
|
4 | ジャパンクリエイト株式会社 |
11.3%
|
5 | 株式会社アルバック |
9.4%
|
6 | 芝浦メカトロニクス株式会社 |
7.0%
|
7 | 株式会社シンクロン |
5.2%
|
8 | 東横化学株式会社 |
4.7%
|
9 | アプライドマテリアルズジャパン株式会社 |
3.8%
|
10 | 株式会社パスカル |
3.8%
|
注目ランキング導出方法について
注目ランキングは、2024年3月のスパッタリング装置ページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。社員数の規模
設立年の新しい会社
歴史のある会社
製品の閲覧数をもとに算出したランキング
電話番号不要
何社からも電話がかかってくる心配はありません
まとめて見積もり
複数社に何度も同じ内容を記入する必要はありません
返答率96%以上
96%以上の方がメーカーから返答を受け取っています
35 点の製品がみつかりました
神港精機株式会社
190人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
ガラス基板を対象とした通過成膜型インラインタイプのスパッタリング装置です。 矩形カソードを多元で装備しておりプロセスや生産数に...
株式会社真空デバイス
180人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
株式会社真空デバイス
170人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
神港精機株式会社
170人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
実験や基礎研究に最適なコンパクトなハード構成です。ローコストで信頼性の高いハードを提供いたします。 ロードロックタイプ装置仕様 ...
6種類の品番
株式会社真空デバイス
170人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
神港精機株式会社
160人以上が見ています
独自開発による高密度マグネトロンカソード (アーク放電型マグネトロンカソード) を搭載した全自動スパッタリング装置です。 新開発アー...
パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社
150人以上が見ています
■特長 ・マルチチャンバ型で多種多様なプロセスに対応 ・当社S600装置のユニットが搭載可能 ・T/S距離調整により長期間の高膜厚均一性を...
株式会社真空デバイス
140人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
神港精機株式会社
140人以上が見ています
最新の閲覧: 22時間前
各種電子デバイスや高機能材料のR&Dから量産に最適なバッチタイプのスパッタリング装置のラインアップです。 小径カソードにより大面積...
3種類の品番
パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社
140人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■特長 ・最大5基のカソード搭載により多様なプロセスと高生産性を両立 ・T/S距離調整により長期間の高膜厚均一性を維持 ・独自プラズマ...
神港精機株式会社
130人以上が見ています
Siウェハ・ガラス・セラミックス等基板・用途を問わず柔軟に対応可能な最新型スパッタリング装置です。 1991年に発表されたR&D用マルチ...
3種類の品番
神港精機株式会社
130人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
省スペースを実現したロードロック式スパッタリング装置です。 カセット室に最大Φ270のトレーが、標準で12枚セット可能で、連続スパッタ...
3種類の品番
株式会社真空デバイス
130人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
ジャパンクリエイト株式会社
120人以上が見ています
■概要 当社が得意といたします、スパッタリング技術を応用し、様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。 この...
株式会社真空デバイス
120人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
株式会社真空デバイス
120人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
神港精機株式会社
120人以上が見ています
スパッタ室にて 10⁻⁷Pa のバックグランドの排気性能を持つ超高真空対応の牧葉式スパッタリング装置です。 ロードロック室・カセット室...
神港精機株式会社
110人以上が見ています
樹脂のみならず金属箔の連続巻取り処理を実現したRtoRタイプ最新成膜装置です。 カソード・プラズマ処理電極・加熱機構など各機構をユ...
ジャパンクリエイト株式会社
110人以上が見ています
■特徴 ・当社独自のスパッタカソードを搭載 ・ワークステージに4軸機構 (昇降、公 転、自転、チルト) を搭載し、立体物成膜での高いカ...
ジャパンクリエイト株式会社
90人以上が見ています
■特徴 ・当社独自のスパッタカソードを搭載 ・基板ステージに3軸機構 (昇降、公転、自転) を搭載し、均一な膜厚分布を実現 ・当社独自の...
三弘エマテック株式会社
20人以上が見ています
100.0% 返答率
■製品説明 大学や研究所等での研究開発用途に最適な装置となります。また、多品種少量生産にも最適です。 装置の状態・各種パラメータ...
2種類の品番
三弘エマテック株式会社
20人以上が見ています
100.0% 返答率
製品説明 小型の高周波スパッタリング装置で省スペースで使用可能です。金属、半導体、絶縁物の成膜が可能で、研究開発等の実験用に最適...
三弘エマテック株式会社
20人以上が見ています
100.0% 返答率
■製品説明 二種類の膜を片面ずつ成膜可能なスパッタ装置です。 ■用途 各種電子部品への電極用金属膜の形成 ■オプション ・パワー変調...
Metoreeに登録されているスパッタリング装置が含まれるカタログ一覧です。無料で各社カタログを一括でダウンロードできるので、製品比較時に各社サイトで毎回情報を登録する手間を短縮することができます。
カタログを企業ごとに探す
カタログを種類ごとに探す
小型・省スペース ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置nanoPVD-S10Aは、最大スパッタ3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源...
2023年1月7日
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。 MiniLab R&D用実験装置シ...
2022年8月5日
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"...
2022年8月5日
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置下記蒸着源から組合せが可能・抵抗加熱蒸着源 x 最大4・有機蒸着源 x 最大4・電子ビーム蒸着・2inchマグネ...
2022年8月5日
蒸着装置『MiniLab-080フレキシブル薄膜実験装置』蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一...
2022年8月5日
蒸着装置『MiniLab-090フレキシブル薄膜実験装置』80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブ...
2022年8月5日
蒸着装置『MiniLab-026/090-GBグローブボックス薄膜実験装置 』小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボッ...
2022年8月5日
スパッタカソード・蒸着ソース(抵抗加熱・有機蒸着)混在型薄膜実験装置'nanoPVD-ST15A'抵抗加熱蒸着源(金属蒸着)、有機蒸着源(有機材料)、マグネトロン...
2023年9月15日
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ - 蒸着、など)をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシ...
2023年9月16日
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタのみならず、蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールも組込み可能、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置【装置構成...
2023年9月16日
不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。 【特徴】・高真空対応・Φ2inch...
2023年9月15日
半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。【Nano Benchtopシリーズ】コンパクトサイズ・ハイパフォ...
2023年9月15日
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用) 4元マルチスパッタ(Φ6, 8inch用) 連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより...
2023年9月16日
研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を備えます。nanoシリーズはコンパクトボディに機能を凝縮した高性能装...
2023年11月6日
スパッタリング装置のカタログ17件分をまとめてダウンロードできます!お迷いの方は便利な無料の一括ダウンロード機能をご利用ください。
企業
パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社 テルモセラ・ジャパン株式会社 ジャパンクリエイト株式会社