【2021年版】CVD装置 メーカー8社一覧
CVD装置のメーカー8社を一覧でご紹介します。まずは使用用途や原理についてご説明します。
目次
CVD装置とは
CVD装置は、ガスと熱やプラズマ、光などによる化学反応を利用して、基板上に非常に薄い膜を作る装置になります。特に半導体の製造工程で使用されており、絶縁膜や酸化膜をシリコンウェーハ上に生成します。半導体の製造に使用されるため、非常に薄く、高精度な膜の生成が求められており、ガスを均一にシリコンウェーハ上に分布させるような機構が内蔵されています。使用するガスは有毒性が高いものが多く、取り扱いには注意が必要になります。
CVD装置の使用用途
CVD装置は、半導体の製造工程で使用されます。半導体製造工程においては、エッチング工程の後の絶縁酸化膜の作成や、ゲートの絶縁酸化膜の作成、電極層の作成、酸化膜を超えて接続するための金属線の形成などに使用されます。CVD装置の選定の際には、膜の作成方法や、膜厚の精度、不良品の発生率、シリコンウェーハの処理速度、枚葉式かバッチ式かなどを考慮する必要があります。また、前後の工程との相互作用も考慮に入れる必要があります。
CVD装置の原理
CVD装置の動作原理を熱CVD装置、プラズマCVD装置、光CVD装置に分けて説明します。
- 熱CVD装置
熱CVD装置では、原料となるガスを容器内に輸送して、基板または容器内を高温にすることで原料のガスを基板上で化学反応させて、膜を形成します。基板のみを高温にする方法や、容器内を高温にし、基板のみを低温にする方法など様々な方法が存在します。 - プラズマCVD装置
プラズマCVD装置では、原料となるガスをプラズマ状態にし、化学反応させ、基板上に積層させることで膜を形成します。熱CVD装置よりも、基板の温度を低温で膜を成形できるため、高精度の寸法が要求されるような半導体の製造に適しています。 - 光CVD装置
光CVD装置は、原料となるガスに対して、放電管やレーザーによって光を照射することで化学反応を起こし、膜を生成します。化学反応を促進させる作用や、分子間の結合を切るような作用など光の種類によって光の使われ方が違ってきます。非常に他のCVD装置に比べて非常に低温で膜を生成することができることが特徴です。
参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/oubutsu1932/65/4/65_4_382/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/kakoronbunshu1975/26/6/26_6_798/_pdf
https://www.shincron.co.jp/technical/device6.html
CVD装置のメーカー情報
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