CVD装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、CVD装置のメーカー16社一覧や企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。CVD装置関連企業の2022年6月注目ランキングは1位:株式会社渡辺商行、2位:株式会社アルバック、3位:Applied Materials, Inc.となっています。
CVD装置と関連するカテゴリ
CVD装置は、ガスと熱やプラズマ、光などによる化学反応を利用して、基板上に非常に薄い膜を作る装置になります。特に半導体の製造工程で使用されており、絶縁膜や酸化膜をシリコンウェーハ上に生成します。半導体の製造に使用されるため、非常に薄く、高精度な膜の生成が求められており、ガスを均一にシリコンウェーハ上に分布させるような機構が内蔵されています。使用するガスは有毒性が高いものが多く、取り扱いには注意が必要になります。
CVD装置は、半導体の製造工程で使用されます。半導体製造工程においては、エッチング工程の後の絶縁酸化膜の作成や、ゲートの絶縁酸化膜の作成、電極層の作成、酸化膜を超えて接続するための金属線の形成などに使用されます。CVD装置の選定の際には、膜の作成方法や、膜厚の精度、不良品の発生率、シリコンウェーハの処理速度、枚葉式かバッチ式かなどを考慮する必要があります。また、前後の工程との相互作用も考慮に入れる必要があります。
CVD装置の動作原理を熱CVD装置、プラズマCVD装置、光CVD装置に分けて説明します。
熱CVD装置では、原料となるガスを容器内に輸送して、基板または容器内を高温にすることで原料のガスを基板上で化学反応させて、膜を形成します。基板のみを高温にする方法や、容器内を高温にし、基板のみを低温にする方法など様々な方法が存在します。
プラズマCVD装置では、原料となるガスをプラズマ状態にし、化学反応させ、基板上に積層させることで膜を形成します。熱CVD装置よりも、基板の温度を低温で膜を成形できるため、高精度の寸法が要求されるような半導体の製造に適しています。
光CVD装置は、原料となるガスに対して、放電管やレーザーによって光を照射することで化学反応を起こし、膜を生成します。化学反応を促進させる作用や、分子間の結合を切るような作用など光の種類によって光の使われ方が違ってきます。非常に他のCVD装置に比べて非常に低温で膜を生成することができることが特徴です。
参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/oubutsu1932/65/4/65_4_382/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/kakoronbunshu1975/26/6/26_6_798/_pdf
https://www.shincron.co.jp/technical/device6.html
*一部商社などの取扱い企業なども含みます。
企業の並び替え
2022年6月の注目ランキングベスト10
順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | 株式会社渡辺商行 | 14.2% |
2 | 株式会社アルバック | 11.8% |
3 | Applied Materials, Inc. | 10.8% |
4 | サムコ株式会社 | 9.8% |
5 | 株式会社日本生産技術研究所 | 7.4% |
6 | アペックス株式会社 | 7.1% |
7 | アリオス株式会社 | 6.1% |
8 | 神港精機株式会社 | 5.1% |
9 | テルモセラ・ジャパン株式会社 | 4.7% |
10 | LAM RESEARCH CORPORATION | 4.1% |
注目ランキング導出方法について
注目ランキングは、2022年6月のCVD装置ページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。社員数の規模
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