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スパッタリング装置のメーカー38社一覧や企業ランキングを掲載中！スパッタリング装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社、2位:芝浦メカトロニクス株式会社、3位:ジャパンクリエイト株式会社となっています。 スパッタリング装置の概要、用途、原理もチェック！
スパッタリング装置はごく薄い膜を対象物の表面に均一に作製するスパッタリングを行う装置です。
スパッタリングとは、真空蒸着やイオンプレーティングと同じく物理気相成長法 (PVD法) の一つです。主に半導体や液晶の成膜をはじめとしたさまざまな分野で活用いられています。また、対象物の表面を清浄化する際に用いられることもあります。
2025年8月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社 |
15.1%
|
| 2 | 芝浦メカトロニクス株式会社 |
11.3%
|
| 3 | ジャパンクリエイト株式会社 |
9.4%
|
| 4 | 株式会社サンバック |
7.5%
|
| 5 | 長州産業株式会社 |
7.5%
|
| 6 | アルバック機工株式会社 |
7.5%
|
| 7 | テルモセラ・ジャパン株式会社 |
5.7%
|
| 8 | 株式会社コメット |
3.8%
|
| 9 | 株式会社島津製作所 |
3.8%
|
| 10 | 株式会社愛知真空 |
1.9%
|
項目別
使用用途
#MEMS
#ガラス基板
#研究開発
#光学
#絶縁膜
#電子顕微鏡
#電子部品
#導電膜
#半導体
#量産
スパッタ方式
DCスパッタ型
RFスパッタ型
マグネトロンスパッタ型
グロー放電スパッタ型
成膜環境
高真空型
中真空型
ターゲット構成
単一ターゲット型
多元ターゲット型
ロータリターゲット型
対象搬送方式
静止基板型
回転基板型
スルーフィード型
処理基板 mm
20 - 50
50 - 100
100 - 150
150 - 200
200 - 300
300 - 700
スパッタ方向
アップ
ダウン
装置構成
エッチング室
カセット室
スパッタ室
搬送室
ロードロック室
基板加熱 ℃
100 - 200
200 - 300
300 - 400
400 - 500
500 - 800
神港精機株式会社
2850人以上が見ています
最新の閲覧: 3分前
100.0% 返答率
162.9時間 返答時間
実験や基礎研究に最適なコンパクトなハード構成です。ローコストで信頼性の高いハードを提供いたします。 ロードロックタイプ装置仕様 ...
6種類の品番
神港精機株式会社
2310人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
100.0% 返答率
162.9時間 返答時間
Siウェハ・ガラス・セラミックス等基板・用途を問わず柔軟に対応可能な最新型スパッタリング装置です。 1991年に発表されたR&D用マルチ...
3種類の品番
神港精機株式会社
1430人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
100.0% 返答率
162.9時間 返答時間
省スペースを実現したロードロック式スパッタリング装置です。 カセット室に最大Φ270のトレーが、標準で12枚セット可能で、連続スパッタ...
3種類の品番
神港精機株式会社
980人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
100.0% 返答率
162.9時間 返答時間
各種電子デバイスや高機能材料のR&Dから量産に最適なバッチタイプのスパッタリング装置のラインアップです。 小径カソードにより大面積...
3種類の品番
神港精機株式会社
800人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
100.0% 返答率
162.9時間 返答時間
スパッタ室にて 10⁻⁷Pa のバックグランドの排気性能を持つ超高真空対応の牧葉式スパッタリング装置です。 ロードロック室・カセット室...
株式会社真空デバイス
800人以上が見ています
最新の閲覧: 58分前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
25.7時間 返答時間
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
株式会社真空デバイス
760人以上が見ています
最新の閲覧: 58分前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
25.7時間 返答時間
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
株式会社真空デバイス
750人以上が見ています
最新の閲覧: 2分前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
25.7時間 返答時間
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
アルバック販売株式会社
730人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
168.8時間 返答時間
■概要 これまで培ったアルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる装置です。多様性・拡張性を持たせながら、小型化が...
神港精機株式会社
730人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
100.0% 返答率
162.9時間 返答時間
ガラス基板を対象とした通過成膜型インラインタイプのスパッタリング装置です。 矩形カソードを多元で装備しておりプロセスや生産数に...
株式会社真空デバイス
710人以上が見ています
最新の閲覧: 2分前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
25.7時間 返答時間
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社
650人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
■特長 ・最大5基のカソード搭載により多様なプロセスと高生産性を両立 ・T/S距離調整により長期間の高膜厚均一性を維持 ・独自プラズマ...
株式会社真空デバイス
640人以上が見ています
最新の閲覧: 57分前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
25.7時間 返答時間
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
三弘エマテック株式会社
600人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
返信の比較的早い企業
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
23.4時間 返答時間
■製品説明 大学や研究所等での研究開発用途に最適な装置となります。また、多品種少量生産にも最適です。 装置の状態・各種パラメータ...
2種類の品番
株式会社真空デバイス
570人以上が見ています
最新の閲覧: 57分前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
25.7時間 返答時間
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
神港精機株式会社
570人以上が見ています
100.0% 返答率
162.9時間 返答時間
独自開発による高密度マグネトロンカソード (アーク放電型マグネトロンカソード) を搭載した全自動スパッタリング装置です。 新開発アー...
アルバック販売株式会社
520人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
168.8時間 返答時間
■概要 裏面・実装用スパッタリング装置 SRHシリーズは、パワーデバイス、WL-CSP、UBMなどの金属成膜を行うことを目的とした量産用の装置...
神港精機株式会社
510人以上が見ています
最新の閲覧: 22時間前
100.0% 返答率
162.9時間 返答時間
樹脂のみならず金属箔の連続巻取り処理を実現したＲtoＲタイプ最新成膜装置です。 カソード・プラズマ処理電極・加熱機構など各機構をユ...
株式会社真空デバイス
490人以上が見ています
最新の閲覧: 57分前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
25.7時間 返答時間
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
アルバック販売株式会社
480人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
168.8時間 返答時間
■概要 プロセス室を複数搭載可能 (最大3室の200E、最大5室の200J、および最大7室の200) なマルチチャンバ型のスパッタリング装置です。 ...
アリオス株式会社
460人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.2時間 返答時間
■概要 小型スパッタ装置 SS-DC RF301 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色...
ハイソル株式会社
440人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
29.2時間 返答時間
■不活性ガスを一切使用せず低電流で簡単スパッタリング 導電性のない試料のSEM観察を行う際など、試料表面の帯電防止用コーティングに最...
アリオス株式会社
440人以上が見ています
最新の閲覧: 57分前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.2時間 返答時間
■概要 本装置は、試料の表面に均一に成膜させるため、ドラム型の試料ホルダに試料を入れ、回転させながら成膜を行います。試料ホルダの...
ジャパンクリエイト株式会社
440人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
114.9時間 返答時間
■概要 当社が得意といたします、スパッタリング技術を応用し、様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。 この...
株式会社FKDファクトリ
430人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
基本仕様：DC1源スパッタ ■拡張オプション ・2源仕様マグネトロンカソード追加 ・高真空仕様 (ターボ分子ポンプ追加) ・反応性スパッ...
アルバック販売株式会社
430人以上が見ています
最新の閲覧: 22分前
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
168.8時間 返答時間
■概要 マルチチャンバ型装置ENTRONTM N300は、適切な投資効率を実現するジャストフィット装置です。PVD、CVDだけでなく、NVM用エッチン...
アルバック販売株式会社
420人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
168.8時間 返答時間
■概要 SCHシリーズは透明導電膜や金属膜等を成膜する横型インライン式スパッタリング装置です。太陽電池生産ラインの裏面電極膜、絶縁膜...
三弘エマテック株式会社
410人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
返信の比較的早い企業
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
23.4時間 返答時間
製品説明 小型の高周波スパッタリング装置で省スペースで使用可能です。金属、半導体、絶縁物の成膜が可能で、研究開発等の実験用に最適...
パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社
410人以上が見ています
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■特長 ・マルチチャンバ型で多種多様なプロセスに対応 ・当社S600装置のユニットが搭載可能 ・T/S距離調整により長期間の高膜厚均一性を...
長州産業株式会社
400人以上が見ています
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100.0% 返答率
0.8時間 返答時間
長州産業独自の技術を搭載する対向ターゲット方式「ミラートロンスパッタ装置」を提供しています。低プラズマダメージ、低基板温度を実...
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