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スパッタリング装置のメーカー35社一覧や企業ランキングを掲載中！スパッタリング装置関連企業の2025年5月注目ランキングは1位:パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社、2位:芝浦メカトロニクス株式会社、3位:長州産業株式会社となっています。 スパッタリング装置の概要、用途、原理もチェック！
スパッタリング装置はごく薄い膜を対象物の表面に均一に作製するスパッタリングを行う装置です。
スパッタリングとは、真空蒸着やイオンプレーティングと同じく物理気相成長法 (PVD法) の一つです。主に半導体や液晶の成膜をはじめとしたさまざまな分野で活用いられています。また、対象物の表面を清浄化する際に用いられることもあります。
2025年5月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社 |
12.5%
|
| 2 | 芝浦メカトロニクス株式会社 |
10.6%
|
| 3 | 長州産業株式会社 |
10.1%
|
| 4 | 株式会社コメット |
5.8%
|
| 5 | アルバック機工株式会社 |
5.8%
|
| 6 | ジャパンクリエイト株式会社 |
4.8%
|
| 7 | テルモセラ・ジャパン株式会社 |
4.3%
|
| 8 | 東横化学株式会社 |
4.3%
|
| 9 | 株式会社島津製作所 |
3.4%
|
| 10 | 株式会社菅製作所 |
2.9%
|
神港精機株式会社
1950人以上が見ています
最新の閲覧: 4分前
実験や基礎研究に最適なコンパクトなハード構成です。ローコストで信頼性の高いハードを提供いたします。 ロードロックタイプ装置仕様 ...
6種類の品番
神港精機株式会社
1870人以上が見ています
最新の閲覧: 52分前
Siウェハ・ガラス・セラミックス等基板・用途を問わず柔軟に対応可能な最新型スパッタリング装置です。 1991年に発表されたR&D用マルチ...
3種類の品番
神港精機株式会社
1110人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
省スペースを実現したロードロック式スパッタリング装置です。 カセット室に最大Φ270のトレーが、標準で12枚セット可能で、連続スパッタ...
3種類の品番
神港精機株式会社
740人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
各種電子デバイスや高機能材料のR&Dから量産に最適なバッチタイプのスパッタリング装置のラインアップです。 小径カソードにより大面積...
3種類の品番
神港精機株式会社
660人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
スパッタ室にて 10⁻⁷Pa のバックグランドの排気性能を持つ超高真空対応の牧葉式スパッタリング装置です。 ロードロック室・カセット室...
株式会社真空デバイス
640人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
100.0% 返答率
41.6時間 返答時間
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
神港精機株式会社
600人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
ガラス基板を対象とした通過成膜型インラインタイプのスパッタリング装置です。 矩形カソードを多元で装備しておりプロセスや生産数に...
株式会社真空デバイス
600人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
100.0% 返答率
41.6時間 返答時間
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
株式会社真空デバイス
580人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
100.0% 返答率
41.6時間 返答時間
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
株式会社真空デバイス
550人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
100.0% 返答率
41.6時間 返答時間
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
株式会社真空デバイス
500人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
100.0% 返答率
41.6時間 返答時間
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
三弘エマテック株式会社
480人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
27.6時間 返答時間
■製品説明 大学や研究所等での研究開発用途に最適な装置となります。また、多品種少量生産にも最適です。 装置の状態・各種パラメータ...
2種類の品番
神港精機株式会社
480人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
独自開発による高密度マグネトロンカソード (アーク放電型マグネトロンカソード) を搭載した全自動スパッタリング装置です。 新開発アー...
パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社
460人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
■特長 ・最大5基のカソード搭載により多様なプロセスと高生産性を両立 ・T/S距離調整により長期間の高膜厚均一性を維持 ・独自プラズマ...
アルバック販売株式会社
450人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
100.0% 返答率
271.1時間 返答時間
■概要 これまで培ったアルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる装置です。多様性・拡張性を持たせながら、小型化が...
株式会社真空デバイス
450人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
100.0% 返答率
41.6時間 返答時間
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
神港精機株式会社
410人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
樹脂のみならず金属箔の連続巻取り処理を実現したＲtoＲタイプ最新成膜装置です。 カソード・プラズマ処理電極・加熱機構など各機構をユ...
株式会社真空デバイス
400人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
100.0% 返答率
41.6時間 返答時間
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
ジャパンクリエイト株式会社
360人以上が見ています
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
129.3時間 返答時間
■概要 当社が得意といたします、スパッタリング技術を応用し、様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。 この...
パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社
350人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
■特長 ・マルチチャンバ型で多種多様なプロセスに対応 ・当社S600装置のユニットが搭載可能 ・T/S距離調整により長期間の高膜厚均一性を...
ジャパンクリエイト株式会社
330人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
129.3時間 返答時間
■特徴 ・当社独自のスパッタカソードを搭載 ・ワークステージに4軸機構 (昇降、公 転、自転、チルト) を搭載し、立体物成膜での高いカ...
株式会社FKDファクトリ
330人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
基本仕様：DC1源スパッタ ■拡張オプション ・2源仕様マグネトロンカソード追加 ・高真空仕様 (ターボ分子ポンプ追加) ・反応性スパッ...
アルバック販売株式会社
330人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
100.0% 返答率
271.1時間 返答時間
■概要 裏面・実装用スパッタリング装置 SRHシリーズは、パワーデバイス、WL-CSP、UBMなどの金属成膜を行うことを目的とした量産用の装置...
三弘エマテック株式会社
320人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
27.6時間 返答時間
製品説明 小型の高周波スパッタリング装置で省スペースで使用可能です。金属、半導体、絶縁物の成膜が可能で、研究開発等の実験用に最適...
ハイソル株式会社
320人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
26.7時間 返答時間
■不活性ガスを一切使用せず低電流で簡単スパッタリング 導電性のない試料のSEM観察を行う際など、試料表面の帯電防止用コーティングに最...
アリオス株式会社
310人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
1.4時間 返答時間
■概要 小型スパッタ装置 SS-DC RF301 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色...
アルバック販売株式会社
290人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
100.0% 返答率
271.1時間 返答時間
■概要 プロセス室を複数搭載可能 (最大3室の200E、最大5室の200J、および最大7室の200) なマルチチャンバ型のスパッタリング装置です。 ...
長州産業株式会社
290人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
0.8時間 返答時間
長州産業独自の技術を搭載する対向ターゲット方式「ミラートロンスパッタ装置」を提供しています。低プラズマダメージ、低基板温度を実...
アルバック販売株式会社
280人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
100.0% 返答率
271.1時間 返答時間
■概要 マルチチャンバ型装置ENTRONTM N300は、適切な投資効率を実現するジャストフィット装置です。PVD、CVDだけでなく、NVM用エッチン...
ジャパンクリエイト株式会社
280人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
129.3時間 返答時間
■特徴 ・当社独自のスパッタカソードを搭載 ・基板ステージに3軸機構 (昇降、公転、自転) を搭載し、均一な膜厚分布を実現 ・当社独自の...
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