スパッタ装置 多目的簡易操作型マグネトロンスパッタ成膜装置 MSP-40T 株式会社真空デバイス
この製品について
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シリーズ
スパッタ装置 多目的簡易操作型マグネトロンスパッタ成膜装置 MSP-40T
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取扱企業
株式会社真空デバイス
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スパッタ装置 多目的簡易操作型マグネトロンスパッタ成膜装置 MSP-40T 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 電源 | 装置サイズ | 真空排気系 | 到達真空度 | 真空度測定 | 安全対策 | 操作パネル | スパッタ電源 | タイマー | チャンバーサイズ | 試料ステージサイズ | 最大試料サイズ | 電極―試料台間隔 | ターゲットサイズ | ターゲット種類 | 雰囲気ガス導入 | ターゲット冷却機構 |
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MSP-40T |
要見積もり | AC100V(単相100V15A)アース付き3Pプラグ使用 | 幅504 m m、奥行486mm、高さ497mm、重量37.7kg | ターボポンプ(TMP)：67ℓ/sec(装置内蔵チャンバー直結)ダイヤフラムポンプ(DFP)：20ℓ/min(装置外置き・チューブ接続・重量6.5kg) | 1ｘ10－4Pa以下 | フルレンジ真空計 | 系統別サーキットブレーカ、プログラム制御によるインターロック | タッチパネル式操作ディスプレイ搭載 | イオン化電流：0~640mAイオン化電圧：0~650V | 調整範囲：0~9999sec | 内径178mm、深さ159mmステンレスチャンバー | 直径50mm、アノード電極分離フローティング方式 | 直径50mm、高さ50mm | 115mm、95mm、70mm各試料台付属 | 標準ターゲットサイズ：直径50mm、厚さ3mm)(オプション：厚さ1mm、2mm対応、厚さ0.5mm貴金属ターゲット＋厚さ0.6mmNiプレート) | Pt他貴金属，Mo，Ta，W，ITO，C，Si，Ge，Al，Ni，Fe等 | マスフローコントローラによるガス流量自動調整。アルゴンガス。0.08~0.1MPa。φ1/4インチ接続 | 水冷式ターゲット電極機構。流量スイッチインターロック。0.5~1ℓ/min。Φ6mmチューブ接続。 |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
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