薄膜形成装置 研究開発用スパッタリング装置-SRV3100
薄膜形成装置 研究開発用スパッタリング装置-SRV4320
薄膜形成装置 研究開発用スパッタリング装置-神港精機株式会社

薄膜形成装置 研究開発用スパッタリング装置 神港精機株式会社


この製品について

実験や基礎研究に最適なコンパクトなハード構成です。ローコストで信頼性の高いハードを提供いたします。 ロードロックタイプ装置仕様 ・SRL3320 平行平板型 ・SDL4320 平行平板型 ・STL5520 平行平板型 バッチタイプ装置仕様 ・SRV3100 平行平板型 ・SRV3300 平行平板型 ・SRV4320 平行平板型

  • シリーズ

    薄膜形成装置 研究開発用スパッタリング装置



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薄膜形成装置 研究開発用スパッタリング装置 品番6件

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まとめて問合せ・見積 商品画像 品番 価格 (税抜) 処理基板 ターゲット / カソードタイプ ターゲット / サイズx個数 スパッタ方向 基板台 / 回転機構 基板台 / 基板加熱 基板台 / 膜厚分布 基板台 / 搬送方法 排気系 / 到達压力 排気系 / 排気時間 排気系 / 主ポンプ 操作方法 / 排気動作 操作方法 / 搬送操作 操作方法 / 成膜動作 スパッタ電源 / RF スパッタ電源 / DC ガス導入系 ターゲット / サイズ x 個数

SRL3320

要見積もり ¢180mm x 1枚 プレーナマグネトロン ¢75m x 3ヶ アップ 基板台で300℃ ±5%以内 (¢50) トランスファーロッド 8.0 x 10-⁵Pa以下 5.0 x 10-⁴Paまで25分以内 ターボ分子ポンプ 自動 手動 半自動 (タイマー式) 500W オプション 2系統 -

SDL4320

要見積もり ¢200mm x 1枚 プレーナマグネトロン ¢100mm x 3ヶ アップ 基板台で300℃ ±10%以内 (¢180) トランスファーロッド 8.0 x 10-⁵Pa以下 5.0 x 10-⁴Paまで20分以内 ターボ分子ポンプ 自動 手動 半自動 (タイマー式) オプション 3kW 2系統 -

STL5520

要見積もり ¢200mm x 1枚 プレーナマグネトロン ¢75m x 5ヶ アップ 基板台で700℃ ±10%以内 (¢200) 多段式ロッド 8.0 x 10-⁵Pa以下 5.0 x 10-⁴Paまで20分以内 ターボ分子ポンプ 自動 自動 自動 500W 3kW 2系統 -
薄膜形成装置 研究開発用スパッタリング装置-品番-SRV3100

SRV3100

要見積もり ¢100mm プレーナマグネトロン ¢75m x 1ヶ アップ - 基板台で200℃ ±10%以内 (¢50) - 5.0 x 10-⁴Pa以下 9.9 x 10-⁴Paまで20分以内 油拡散ポンプ 手動 - 手動 (タイマー式) 500W オプション 1系統 -
薄膜形成装置 研究開発用スパッタリング装置-品番-SRV3300

SRV3300

要見積もり ¢190mm プレーナマグネトロン ¢75m x 3ヶ ダウン 基板台で300℃ ±5%以内 (¢180) - 5.0 x 10-⁴Pa以下 9.9 x 10-⁴Paまで20分以内 油拡散ポンプ 手動 - 手動 (タイマー式) 500W オプション 2系統 -
薄膜形成装置 研究開発用スパッタリング装置-品番-SRV4320

SRV4320

要見積もり ¢280mm プレーナマグネトロン - アップ 基板台で300℃ ±5%以内 (¢200) - 5.0 x 10-⁴Pa以下 9.9 x 10-⁴Paまで20分以内 ターボケヱポンプ 手動 - 手動 (タイマー式) 1kW オプション 2系統 ¢100mm x 3ヶ

のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

神港精機株式会社は1949年に設立した、真空ポンプ・真空装置を中心にアセンブリ装置・光学検査装置を製造するメーカーです。 技術開発型の企業として、「真空技術」を応用した製造装置及びコンポーネントを主軸とした「モノづくり...

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