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スパッタリング装置のメーカー35社一覧や企業ランキングを掲載中！スパッタリング装置関連企業の2025年6月注目ランキングは1位:芝浦メカトロニクス株式会社、2位:パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社、3位:アルバック機工株式会社となっています。 スパッタリング装置の概要、用途、原理もチェック！
スパッタリング装置はごく薄い膜を対象物の表面に均一に作製するスパッタリングを行う装置です。
スパッタリングとは、真空蒸着やイオンプレーティングと同じく物理気相成長法 (PVD法) の一つです。主に半導体や液晶の成膜をはじめとしたさまざまな分野で活用いられています。また、対象物の表面を清浄化する際に用いられることもあります。
2025年6月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 芝浦メカトロニクス株式会社 |
13.3%
|
| 2 | パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社 |
12.1%
|
| 3 | アルバック機工株式会社 |
8.7%
|
| 4 | 長州産業株式会社 |
7.5%
|
| 5 | ジャパンクリエイト株式会社 |
6.9%
|
| 6 | 株式会社コメット |
5.8%
|
| 7 | 株式会社島津製作所 |
5.2%
|
| 8 | テルモセラ・ジャパン株式会社 |
4.0%
|
| 9 | 株式会社真空デバイス |
4.0%
|
| 10 | 東横化学株式会社 |
3.5%
|
12 点の製品がみつかりました
12 点の製品
パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社
550人以上が見ています
最新の閲覧: 5分前
■特長 ・最大5基のカソード搭載により多様なプロセスと高生産性を両立 ・T/S距離調整により長期間の高膜厚均一性を維持 ・独自プラズマ...
パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社
370人以上が見ています
■特長 ・マルチチャンバ型で多種多様なプロセスに対応 ・当社S600装置のユニットが搭載可能 ・T/S距離調整により長期間の高膜厚均一性を...
三弘エマテック株式会社
310人以上が見ています
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
26.0時間 返答時間
■製品説明 二種類の膜を片面ずつ成膜可能なスパッタ装置です。 ■用途 各種電子部品への電極用金属膜の形成 ■オプション ・パワー変調...
エイ・エス・ディ株式会社
330人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
■粉体スパッタ装置について 近年、リチウムイオン電池等の二次電池や燃料電池の性能、安全性向上と低コスト化を進める動きが活発になり...
長州産業株式会社
340人以上が見ています
最新の閲覧: 5分前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
0.8時間 返答時間
長州産業独自の技術を搭載する対向ターゲット方式「ミラートロンスパッタ装置」を提供しています。低プラズマダメージ、低基板温度を実...
アルバック販売株式会社
410人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
100.0% 返答率
206.4時間 返答時間
■概要 裏面・実装用スパッタリング装置 SRHシリーズは、パワーデバイス、WL-CSP、UBMなどの金属成膜を行うことを目的とした量産用の装置...
アルバック販売株式会社
330人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
206.4時間 返答時間
■概要 SCHシリーズは透明導電膜や金属膜等を成膜する横型インライン式スパッタリング装置です。太陽電池生産ラインの裏面電極膜、絶縁膜...
アルバック販売株式会社
280人以上が見ています
100.0% 返答率
206.4時間 返答時間
■概要 SMDシリーズは金属膜、ITO、IGZO、誘電体膜等を成膜する枚葉式スパッタリング装置です。SMDシリーズだけで1000台をこえる豊富な納...
アルバック販売株式会社
260人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
206.4時間 返答時間
■概要 SPWシリーズは、プラスチックフィルム上に、光学膜やメタル等の多層成膜をすることが出来る巻取式スパッタリング装置です。成膜室...
株式会社メディア研究所
220人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
13.6時間 返答時間
■3Dインラインコーティング・装飾と機能 両方の用途に対応 SINGULUS TECHNOLOGIESの核となる技術は、真空薄膜、ウェットプロセス、表面...
芝浦メカトロニクス株式会社
70人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
87.8時間 返答時間
■次世代・先端半導体に対応したグローバルニッチトップ製品の開発を推進 半導体デバイスの微細化が進んでおり、これに対応した装置の開...
株式会社エーティーエー
40人以上が見ています
■特徴 全方位揺動 (ギンブルモーション) ステージにより回り込みが良いコーティングが可能。完全ドライ排気により試料の汚染防止 (ター...
スパッタリング装置はごく薄い膜を対象物の表面に均一に作製するスパッタリングを行う装置です。
スパッタリングとは、真空蒸着やイオンプレーティングと同じく物理気相成長法 (PVD法) の一つです。主に半導体や液晶の成膜をはじめとしたさまざまな分野で活用いられています。また、対象物の表面を清浄化する際に用いられることもあります。
スパッタリング装置は、半導体、液晶、プラズマディスプレイなどの薄膜作製に利用されています。また、他のPVD法の蒸着装置と比較して、スパッタリング装置は高融点の金属や合金の成膜が可能であるため、用途が広い特徴があります。
最近では、プラスチックやガラス、フィルムの表面に金属を成膜して導電性を持たせ、透明電極やタッチパネルの配線としても利用されており、スパッタリング装置の用途の幅はさらに広がっています。
他に、光触媒作用のある酸化チタンを表面にコーティングし、抗菌作用を持たせた医療器具や雑貨等も販売されています。また、走査型電子顕微鏡 (SEM) の試料調製など分析用途でも利用されています。
図1. スパッタリング装置の構造
スパッタリング装置は、主に下記のもので構成されています。
真空チャンバー内に基板を保持する試料台とスパッタ材料を供給するスパッタターゲットがあり、真空ポンプとガスの供給系がチャンバーにつながっています。
図2. スパッタリングの原理
スパッタリング装置の原理は、真空下で高電圧をかけ、膜材料の原子をはじきとばして対象物表面に成膜するものです。まず、ポンプによってチャンバー内を十分な減圧状態にした後、アルゴンなどの不活性ガスを一定圧力で装置内に充填します。
薄膜の材料となるターゲットに高い陰電圧をかけグロー放電を起こすと、あらかじめ装置内に充填されていたアルゴンがプラズマ化され、陰極上のターゲットに衝突し、ターゲット上の原子や分子がはじき出されます。はじき出されたターゲット原子が、陽電圧をかけた対象物の表面に堆積し、薄膜を作製することができます。
スパッタリングの方式には、様々な種類があります。
図3. 主なスパッタリング装置の種類
直流電圧を電極間にかける方法です。構造が単純などの様々な利点がありますが、試料が高温のプラズマによる損傷を受ける可能性があり、スパッタリングターゲットが絶縁体の場合、製膜が正常に行えないなどの欠点があります。
高周波の交流電圧電極間にかける方法です。DC方式では製膜できないようなセラミックスやシリカなどの酸化物や金属酸化物、窒化物などの物質でも製膜することができます。
ターゲット側に磁石で磁界をつくり、プラズマをターゲット付近にとどめる方法です。試料のプラズマによる損傷が減少するだけでなく、プラズマの生成速度が向上するため、製膜速度が速くなります。直流、交流、高周波交流など様々な電源方式で利用できます。一方で、ターゲットの減り方にムラができ、利用効率が低い傾向にあります。
イオンをターゲットや試料と別の場所でつくり、ターゲットに加速してあてる方法です。チャンバー内で放電を行わない方法なので、試料への影響が最小限で済むだけでなく、不純物の付着やターゲットの導電性などを考慮する必要がありません。
上記以外にも電子サイクロトロン (ECR) など様々な種類のスパッタリング装置があり、用途や予算に応じて適切に選択する必要があります。
スパッタリング装置による成膜は、膜厚を均一にすることができ、かつ電気的性質を利用しているので、膜の強度を高くすることができます。他のPVD法では難しい、高融点金属や合金材料の膜が作製できます。また、アルゴンなどの不活性ガスの代わりに酸素を充填し、酸化物の成膜を行う方法もあります。
一方で、成膜にかかる時間が他のPVD法と比較して長いことや、発生したプラズマによるスパッタ対象を損傷するリスクなどのデメリットもあります。
参考文献
https://www.oike-kogyo.co.jp/research/column/sputtering/
http://www.sanyu-electron.co.jp/c/index.php?cID=172
https://plastics-japan.com/archives/2015
