スパッタリング装置 RFS-201 三弘エマテック株式会社
三弘エマテック株式会社の対応状況
返答率
100.0%
平均返答時間
44.4時間
この製品について
■特徴
・Φ80mm×1基のカソードで、単層成膜を行うことができます ・コンベンショナルスパッタで、スパッタ速度20nm/min (SiO2) を実現可能です ・メインポンプは油拡散ポンプを使用しています ・絶縁物・金属・半導体材料の小型の高周波スパッタリング装置です ・絶縁物・金属・半導体材料の小型の高周波スパッタリング装置です ・小型の為、省スペースで使用可能です-
シリーズ
スパッタリング装置 RFS-201
-
取扱企業
三弘エマテック株式会社
スパッタリング装置注目ランキング
スパッタリング装置の製品35点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話がかかってくる心配はありません
まとめて見積もり
複数社に何度も同じ内容を記入する必要はありません
返答率96%以上
96%以上の方がメーカーから返答を受け取っています
スパッタリング装置 RFS-201 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | メーカー | 到達圧力 (Pa) 絶対圧表記 | 到達圧力 (kPa) ゲージ圧表記 | 排気時間 | 真空層 | カソード | 基板推奨サイズ | 有効成膜範囲 | 成膜速度 (mm) | 膜厚分布 | 基板加熱温度 | 基板/電極間距離 | メインポンプ | 液体窒素トラップ | 補助ポンプ | オイルミストトラップ | メインバルブ | 補助バルブ | 自動リークバルブ | 操作 | RF電源 | ピラニ真空計 | 電離真空計 | 最大寸法 (mm) | 質量 (kg) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
RFS-201 |
要見積もり | アルバック機工 (株) | 6.6×10-4 | -101.3 | 6.6×10-3Pa/5min | 金属チャンバー (200mm (W) ×250mm (D) ×150mm (H) ) | φ80mm、1元 | φ80mm×t1-5mm | 50mm | SiO2 成膜にて、20nm/min以上 | SiO2 成膜にて、50mm領域±8%以内 | Max 350℃ | 30~50mm (可変) | 油拡散ポンプ (水冷) 150L/sec | オプション | 油回転真空ポンプ 100L/min | OMT-100A | クラッパーバルブ | 三方向バルブ | オプション | 手動 | Max 300W (0~300W可変) | G-TRAN | オプション | 764 (W) × 723 (L) × 1,648 (H) | 260 |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
この商品を見た方はこんな商品もチェックしています
スパッタリング装置の製品をもっと見る
三弘エマテック株式会社のその他の取り扱い製品
三弘エマテックの製品をもっと見る
