全てのカテゴリ
閲覧履歴
プラズマCVD装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、プラズマCVD装置のメーカー15社一覧や企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。プラズマCVD装置関連企業の2024年10月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:LAM RESEARCH CORPORATIONとなっています。
プラズマCVD装置の関連カテゴリ
1975年～1995年株式会社日立製作所勤務エネルギー研究所にて原子炉材料の放射線照射効果研究に従事。研究成果により、日本・米国原子力学会賞受賞。1996年～2015年同生産技術研究所にて半導体デバイスの環境中性子線起因ソフトエラー研究に従事。研究成
プラズマCVD装置とは、化学気相成長法の一種を行う装置です。
プラズマCVDはPlasma-Enhanced Chemical Vapor Depositionの略で、原料ガスを低温プラズマ状態 (陽イオンと電子に電離したグロー放電) にし、活性なイオンやラジカルを生成して基盤上で化学反応を起こし、堆積させて薄膜を形成します。
プラズマCVD技術は、切削工具の強化膜 (窒化チタン、窒化炭素、DLC (英: Diamond Like Carbon) ) 、半導体の絶縁膜・保護膜・配線・電極材料 (窒化シリコン、酸化シリコン、銅、アルミニウム、タングステン、多結晶シリコン、化合物半導体など) などに使われています。経済・産業発展の鍵を握るエネルギーの制御や供給を行うための高性能パワーデバイスへの活用も急速に広がっています。
プラズマCVD装置への供給ガスには通常、水素、窒素、アルゴン、アンモニアなどのキャリアガスに、SiH4 (シラン) 、WF6 (六フッ化タングステン) などの原料ガスを混入させたものを用いる場合が多いです。
二酸化ケイ素 (SiO2) はシリコンの酸化物です。電気絶縁性と熱安定性に優れており、半導体デバイス層間絶縁膜で使われています。
半導体の薄膜化により、電流が予定していない箇所から漏れ出してしまうリーク電流が発生しやすくなります。SiO2があることで、リーク電流の防止につながります。
窒化ケイ素 (Si3N4) はシリコンの窒化物です。強度や熱伝導率に優れており、熱量が多く発生するパワーデバイス向けの基板材料に用いられています。
窒素、アンモニアはSiH4とともに窒化物を形成する際に用いられているため、原料ガスの役割も持っています。一般的な半導体はメモリなど、演算や記憶に関する働きをします。一方パワーデバイスはダイオードのように、ためのものです。
炭化ケイ素 (SiC) はGaN (窒化ガリウム、ガン) 、AlGaNなどとともに化合物半導体の仲間でシリコンの炭化物です。Si3N4同様、強度や熱伝導率に優れていることから、SiのIGBTに代わってパワーデバイス向けで使われています。
シリコン化合物に比べて電力損失が少なく、装置の小型化につながります。
トランジスタのゲートはゲート酸化膜 (熱酸化で形成します) とゲート電極 (多くは多結晶シリコン) から形成されます。ゲート電極、ソース・ドレインのコンタクトに使われるタングステンプラグはプラズマCVDで形成されます。 (図3参照)
図1. プラズマCVD装置の基本構成
原料ガスは目的に応じて10-4～100Pa程度の幅のある減圧範囲から目的に応じた条件を選びます。最も一般的にプラズマ励起に用いられている電源周波数は13.56 MHz (RF:Radio Frequency) であり、放電形式は図1に示すように平行平板電極を用いた容量結合型になります。
並行平板の一方をプロセスガスを供給するシャワーヘッドに用いたり、一方にヒータを入れて温度調節したりする場合もあります。電源周波数、並行平板型以外の電極構造、原料ガスの組成、吐出量、温度など、コントロール可能なパラメータは多いです。そのため、無機物質から有機物質まで、様々な機能性を持たせた各種の薄膜の成膜が可能です。
図2. 半導体デバイス (メモリ) の基本構造
プラズマCDV装置は半導体デバイスの製造に多用されますが、例えばメモリデバイスの場合は、図2に示すように基板 (ウエハー) 上に形成されたMOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) の上に多層の複雑な配線層が形成され、層間絶縁膜で分離されています。
MOSFETのゲート電極、配線層、層間絶縁膜などの形成にプラズマCVD装置が主として用いられますが、成膜後に細かいパターン形成が必要です。パターン形成には、基本的には印刷技術が用いられ、図3に示すように以下の手順の繰り返しになります。
図3. 半導体デバイスの基本成膜プロセス
以上のプロセスを繰り返すことによって、図2に示したような半導体デバイスが形成可能です。
与えるエネルギーによって、プラズマCVD、熱CVD、光CVDに分類できます。
*一部商社などの取扱い企業なども含みます。
2024年10月の注目ランキングベスト10
注目ランキング導出方法| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | ジャパンクリエイト株式会社 |
17.0%
|
| 2 | 新明和工業株式会社 |
9.4%
|
| 3 | LAM RESEARCH CORPORATION |
9.4%
|
| 4 | 住友精密工業株式会社 |
9.4%
|
| 5 | 大亜真空株式会社 |
7.5%
|
| 6 | SPPテクノロジーズ株式会社 |
7.5%
|
| 7 | コーンズ テクノロジー株式会社 |
5.7%
|
| 8 | 株式会社マツボー |
5.7%
|
| 9 | サムコ株式会社 |
5.7%
|
| 10 | Applied Materials, Inc. |
3.8%
|
注目ランキング導出方法について
注目ランキングは、2024年10月のプラズマCVD装置ページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。社員数の規模
設立年の新しい会社
歴史のある会社
製品の閲覧数をもとに算出したランキング
電話番号不要
何社からも電話がかかってくる心配はありません
まとめて見積もり
複数社に何度も同じ内容を記入する必要はありません
返答率96%以上
96%以上の方がメーカーから返答を受け取っています
20 点の製品がみつかりました
ジャパンクリエイト株式会社
210人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
366.4時間 平均返答時間
■特徴 ・チャンバー容積 1m3 ・独自のプラズマ制御方式 ・多段式大量一括処理可能 ・高い汎用性を備えたシンプルな構造 ・様々な製品材質に成膜可能 ・広範な...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
170人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
24.4時間 平均返答時間
ICPCVD (誘導結合プラズマ) プロセスモジュールは、低温で高品質の薄膜を製造するように設計され、高密度リモートプラズマによりダメージの少ない優れた薄膜...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
180人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
24.4時間 平均返答時間
化学気相堆積 (CVD) やプラズマCVD (PECVD) は、1Dナノ材料や 2Dナノ材料の成長、ヘテロ接合の形成に適したツールです。PlasmaPro 100 Nano (以前の名称は Na...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
160人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
24.4時間 平均返答時間
PlasmaPro 100 PECVD システムは、屈折率、応力、電気特性、ウェットケミカルエッチング速度などの膜特性を制御し、優れた均一性を持つ高品質な薄膜製造用の...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
190人以上が見ています
最新の閲覧: 16時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
24.4時間 平均返答時間
PlasmaPro 80は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易いオープンロード方式で実現します。...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
180人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
24.4時間 平均返答時間
■概要 PlasmaPro 80 リアクティブイオンエッチング (RIE) は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
190人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
24.4時間 平均返答時間
PlasmaPro 800は、プラズマ励起化学気相堆積 (PECVD) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチと300mmウェハにおいて、コンパクトな専有面積か...
株式会社MPS
120人以上が見ています
100.0% 返答率
86.1時間 平均返答時間
■概要 窒化物を作るための実験装置です。原料は塩化物とアンモニアを使用します。成膜はハロゲンランプ加熱による熱CVDと誘導結合プラズマによるプラズマCVD...
株式会社MPS
90人以上が見ています
100.0% 返答率
86.1時間 平均返答時間
■概要 直流の高電圧パルス放電を利用したダイヤモンドライクカーボン用プラズマCVD装置です。原料ガスはメタンまたはアセチレンを選択できます。
株式会社MPS
140人以上が見ています
100.0% 返答率
86.1時間 平均返答時間
■概要 RF (13.56MHz) を使用したプラズマCVD装置です。絶縁物でもDLCの成膜が可能です。
神港精機株式会社
220人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
600mm 基板に対応した大型プラズマCVD装置です。 緻密なシリコン酸化膜の形成が可能で薄膜キャパシタの作製に適しています。
XQ Instruments
70人以上が見ています
■特徴 ・パワーレベルに比例したイオンエネルギーの上昇が無い為、基板ダメージが少ない ・適用真空範囲が、1ｘ10-4から1ｘ10-1 mbarと広い為、スパッタ装置...
株式会社魁半導体
260人以上が見ています
最新の閲覧: 22時間前
100.0% 返答率
120.0時間 平均返答時間
業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。 ■製品概要 ・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属系の材料も危険なガス...
アルバック販売株式会社
30人以上が見ています
最新の閲覧: 16時間前
100.0% 返答率
125.8時間 平均返答時間
■概要 枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。 ■用途 ・パワーデバイス ・LED、LD、高速...
アルバック販売株式会社
40人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
125.8時間 平均返答時間
■概要 CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。 ■用途 低温P-Si、α-Si TFT ■特長 ・従来のプロセス温度...
アルバック販売株式会社
40人以上が見ています
100.0% 返答率
125.8時間 平均返答時間
■概要 ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。 ■用途 ・パワーデバイス ・LED、LD、高速...
株式会社マイクロフェーズ
20人以上が見ています
100.0% 返答率
126.2時間 平均返答時間
ガスのイオン化や前駆体の分解を促進 ■概要 ・横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあるいは前駆体のイオン...
北野精機株式会社
20人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
50.9時間 平均返答時間
■特徴 本装置は、タングステンフィラメントを使用したホットワイヤー型CVD装置で、プラズマ損傷の無い大面積と高純度薄膜成形の特徴を持っており、P・N型半導...
アリオス株式会社
10人以上が見ています
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
0.9時間 平均返答時間
■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しました。生産機ニーズに...
アリオス株式会社
10人以上が見ています
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
0.9時間 平均返答時間
■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分で成膜することを指し...
Metoreeに登録されているプラズマCVD装置が含まれるカタログ一覧です。無料で各社カタログを一括でダウンロードできるので、製品比較時に各社サイトで毎回情報を登録する手間を短縮することができます。
カタログを企業ごとに探す
カタログを種類ごとに探す
独自のプラズマソースを利用し、窒化、先鋭化などの様々なプロセスをご提案いたします。特に刃物やダイヤモンドの表面処理では多くの実績がございます。ご要...
2021年7月26日
プラズマCVD装置・研究開発/量産・太陽電池・立体物・金属容器・医療容器・ガラス基板MOCVD装置ALD装置
2023年7月13日
省スペース設計で、バキュームポンプ・モジュールはプロセス・モジュールから最大18ｍ離して設置することができます。本装置は、4/5/6 及び 8 インチ・ウェハ...
2024年5月24日
欧州アカデミックパートナーとの共同開発。ウエハースケール・グラフェン合成装置。 Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清...
2023年9月15日
「プラズマ見える化」ツール プラズマインジケータの製品カタログです。
2024年1月11日
プラズマCVD装置のカタログ6件分をまとめてダウンロードできます！お迷いの方は便利な無料の一括ダウンロード機能をご利用ください。
企業
新明和工業株式会社 ジャパンクリエイト株式会社 株式会社インターテック販売 テルモセラ・ジャパン株式会社 ナノテック株式会社 株式会社サクラクレパス
