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プラズマCVD装置のメーカー16社一覧や企業ランキングを掲載中！プラズマCVD装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:SPPテクノロジーズ株式会社となっています。 プラズマCVD装置の概要、用途、原理もチェック！
プラズマCVD装置とは、化学気相成長法の一種を行う装置です。
プラズマCVDはPlasma-Enhanced Chemical Vapor Depositionの略で、原料ガスを低温プラズマ状態 (陽イオンと電子に電離したグロー放電) にし、活性なイオンやラジカルを生成して基盤上で化学反応を起こし、堆積させて薄膜を形成します。
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2025年8月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | ジャパンクリエイト株式会社 |
14.8%
|
| 2 | 新明和工業株式会社 |
11.5%
|
| 3 | SPPテクノロジーズ株式会社 |
9.8%
|
| 4 | 北野精機株式会社 |
8.2%
|
| 5 | 神港精機株式会社 |
8.2%
|
| 6 | 住友精密工業株式会社 |
8.2%
|
| 7 | サムコ株式会社 |
8.2%
|
| 8 | ミヤ通信工業株式会社 |
4.9%
|
| 9 | Applied Materials, Inc. |
4.9%
|
| 10 | LAM RESEARCH CORPORATION |
4.9%
|
アルバック販売株式会社
310人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
150.5時間 返答時間
■概要 ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。 ■用途 ・パワーデバ...
神港精機株式会社
540人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
100.0% 返答率
162.9時間 返答時間
600mm 基板に対応した大型プラズマCVD装置です。 緻密なシリコン酸化膜の形成が可能で薄膜キャパシタの作製に適しています。
株式会社日本シード研究所
40人以上が見ています
■概要 ・容量結合型プラズマ方式のCVD装置です。 ・加熱機構を備えており、任意の温度に基板を加熱して成膜することが可能です。 ・直感...
株式会社MPS
420人以上が見ています
100.0% 返答率
46.5時間 返答時間
■概要 窒化物を作るための実験装置です。原料は塩化物とアンモニアを使用します。成膜はハロゲンランプ加熱による熱CVDと誘導結合プラズ...
株式会社セルバック
290人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
PEGASUSは、メモリ、パワーデバイス、パッケージ、MEMS市場において高品位の成膜プロセスを提供します。
株式会社セルバック
230人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
PEGASUS Plat Formは、省スペース設計され柔軟なアーキテクチャによりプラズマCVD、RTA、Ashing、EtchingのProcess chamberが統合可能な...
ハイソル株式会社
600人以上が見ています
最新の閲覧: 18時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
29.2時間 返答時間
プラズマ洗浄～ワーク脱水 (デハイドレーション) ～シランCVD～ガス排出までチャンバー内で自動一括処理できる、R&D向けの卓上型シランC...
アルバック販売株式会社
390人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
150.5時間 返答時間
■概要 CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。 ■用途 低温P-Si、α-Si TFT ■特長 ...
ジャパンクリエイト株式会社
360人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
114.9時間 返答時間
■特徴 ・チャンバー容積 1m3 ・独自のプラズマ制御方式 ・多段式大量一括処理可能 ・高い汎用性を備えたシンプルな構造 ・様々な製品材...
新明和工業株式会社
170人以上が見ています
100.0% 返答率
117.0時間 返答時間
■プラズマイオン処理装置とは プラズマイオン処理はプラズマにより生成されたイオンを用いて表面改質を行う技術です。応用事例としては...
株式会社MPS
400人以上が見ています
100.0% 返答率
46.5時間 返答時間
■概要 直流の高電圧パルス放電を利用したダイヤモンドライクカーボン用プラズマCVD装置です。原料ガスはメタンまたはアセチレンを選択で...
アリオス株式会社
570人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.2時間 返答時間
■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しま...
株式会社インターテック販売
40人以上が見ています
最新の閲覧: 11時間前
■装置概要 本装置は、4/5/6及び8インチ・ウェハーに対応しており、プラズマCVD法によってウェハーに酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜を...
日本プラズマトリート株式会社
60人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
19.6時間 返答時間
Openair-Plasma®テクノロジーは、アルミホイルやプラスチックフィルム表面の一部を対象としたプラズマ前処理にも、広い面積を対象とした...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
430人以上が見ています
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
23.1時間 返答時間
ICPCVD (誘導結合プラズマ) プロセスモジュールは、低温で高品質の薄膜を製造するように設計され、高密度リモートプラズマによりダメー...
北野精機株式会社
340人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
24.9時間 返答時間
■特徴 本装置は、タングステンフィラメントを使用したホットワイヤー型CVD装置で、プラズマ損傷の無い大面積と高純度薄膜成形の特徴を持...
XQ Instruments
330人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
■特徴 ・パワーレベルに比例したイオンエネルギーの上昇が無い為、基板ダメージが少ない ・適用真空範囲が、1ｘ10-4から1ｘ10-1 mbarと...
株式会社MPS
410人以上が見ています
100.0% 返答率
46.5時間 返答時間
■概要 RF (13.56MHz) を使用したプラズマCVD装置です。絶縁物でもDLCの成膜が可能です。
株式会社メディア研究所
310人以上が見ています
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100.0% 返答率
13.6時間 返答時間
■概要 携帯電話、イヤホーン、防水スピーカー、PCB等様々な用途で長期間持続可能な薄膜をコーティング可能 ■プラズマによる革新的なナ...
株式会社魁半導体
590人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
4.0 会社レビュー
100.0% 返答率
48.8時間 返答時間
業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。 ■製品概要 ・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属...
株式会社マイクロフェーズ
270人以上が見ています
100.0% 返答率
61.4時間 返答時間
連続処理による生産量の大幅向上 ■目的 当社が考案した量産用連続CVD処理方式です。十分長い反応管に処理する試料を縦列に並べて置き、...
アリオス株式会社
410人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
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100.0% 返答率
2.2時間 返答時間
■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分...
神港精機株式会社
420人以上が見ています
最新の閲覧: 12分前
100.0% 返答率
162.9時間 返答時間
真空チャンバーに導入したモノマーガスを高周波によりプラズマ化し、基板表面にポリマー膜を形成する装置です。 生体と接触する被膜の形...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
410人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
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5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
23.1時間 返答時間
化学気相堆積 (CVD) やプラズマCVD (PECVD) は、1Dナノ材料や 2Dナノ材料の成長、ヘテロ接合の形成に適したツールです。PlasmaPro 100 N...
アルバック販売株式会社
230人以上が見ています
最新の閲覧: 19時間前
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
150.5時間 返答時間
■概要 枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。 ■用途 ・パワーデバ...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
420人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
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100.0% 返答率
23.1時間 返答時間
PlasmaPro 100 PECVD システムは、屈折率、応力、電気特性、ウェットケミカルエッチング速度などの膜特性を制御し、優れた均一性を持つ...
神港精機株式会社
430人以上が見ています
100.0% 返答率
162.9時間 返答時間
真空チャンバーに導入したモノマーガスを高周波によりプラズマ化し、基板表面にポリマー膜を形成する装置です。 生体と接触する被膜の形...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
520人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
23.1時間 返答時間
PlasmaPro 80は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易いオープンロー...
株式会社MPS
330人以上が見ています
最新の閲覧: 19時間前
100.0% 返答率
46.5時間 返答時間
■概要 モード変換型のマイクロ波CVD装置です。大学での実験装置としてご使用いただいております。
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