全てのカテゴリ
閲覧履歴
プラズマCVD装置のメーカー16社一覧や企業ランキングを掲載中!プラズマCVD装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:SPPテクノロジーズ株式会社となっています。 プラズマCVD装置の概要、用途、原理もチェック!
プラズマCVD装置とは、化学気相成長法の一種を行う装置です。
プラズマCVDはPlasma-Enhanced Chemical Vapor Depositionの略で、原料ガスを低温プラズマ状態 (陽イオンと電子に電離したグロー放電) にし、活性なイオンやラジカルを生成して基盤上で化学反応を起こし、堆積させて薄膜を形成します。
関連キーワード
2025年8月の注目ランキングベスト10
順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | ジャパンクリエイト株式会社 |
14.8%
|
2 | 新明和工業株式会社 |
11.5%
|
3 | SPPテクノロジーズ株式会社 |
9.8%
|
4 | 北野精機株式会社 |
8.2%
|
5 | 神港精機株式会社 |
8.2%
|
6 | 住友精密工業株式会社 |
8.2%
|
7 | サムコ株式会社 |
8.2%
|
8 | ミヤ通信工業株式会社 |
4.9%
|
9 | Applied Materials, Inc. |
4.9%
|
10 | LAM RESEARCH CORPORATION |
4.9%
|
株式会社マイクロフェーズ
280人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
61.4時間 返答時間
ガスのイオン化や前駆体の分解を促進 ■概要 ・横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあ...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
460人以上が見ています
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
23.1時間 返答時間
■概要 PlasmaPro 80 リアクティブイオンエッチング (RIE) は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジショ...
株式会社セルバック
330人以上が見ています
最新の閲覧: 15時間前
PEGASUS HDP-CVDは、ICPの高密度プラズマの高いガス分解効率で、低温成膜と緻密な膜を作り上げます。2タイプのHDP-CVDは、BタイプとHタ...
株式会社マイクロフェーズ
290人以上が見ています
100.0% 返答率
61.4時間 返答時間
レーザー描画によるパターン成膜が可能 ■概要 ・市販のファイバーレーザー加工機の試料室に、反応性ガス (炭化水素ガスやアンモニアガ...
株式会社マイクロフェーズ
350人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
100.0% 返答率
61.4時間 返答時間
炭化水素ガス (CH4やC2H2) を用いたCVD法で触媒基板 (Ni、Cuなど) にグラフェン膜を成長するには、 基板の急冷が重要要素の一つと言われ...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
500人以上が見ています
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
23.1時間 返答時間
PlasmaPro 800は、プラズマ励起化学気相堆積 (PECVD) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチと300mmウェハにおいて、コ...
株式会社サンバック
20人以上が見ています
最新の閲覧: 14時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
0.2時間 返答時間
プラズマCVD装置CP-1700は縦型石英管の外周に置かれたコイルによって発生したプラズマ中を、ヒーターを内蔵した基板ホルダーを上下する...
株式会社サンバック
10人以上が見ています
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
0.2時間 返答時間
プラズマCVD装置CP-1900はステンレスチャンバー内に置かれた基板に発生したプラズマにより、成膜します。上部電極は、ガスシャワーが装...
日本電子工業株式会社
10人以上が見ています
低温プラズマの熱処理への応用により開発されたプラズマCVD法は、PVD法・CVD法両技術の特長を兼ね備え、すでに半導体産業では重要な成膜...
検索結果 41件 (2ページ/2ページ)