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プラズマCVD装置 メーカー16社

プラズマCVD装置のメーカー16社一覧企業ランキングを掲載中!プラズマCVD装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:SPPテクノロジーズ株式会社となっています。 プラズマCVD装置の概要、用途、原理もチェック!

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16プラズマCVD装置メーカー

プラズマCVD装置 2025年8月のメーカーランキング


業界別

🍎 食品 🚗 自動車・輸送用機器 💻 電子・電気機器

項目別

使用用途

#センサー開発

#ディスプレイ製造

#バリア膜形成

#研究開発

#光学部品製造

#絶縁膜形成

#太陽電池製造

#電子部品製造

#半導体製造

#表面改質

プラズマ励起方式

容量結合型

誘導結合型

マイクロ波型

パルス電源型

反応場構成

リモート型

平行平板型

シャワーヘッド型

チャンバー分割型

基板処理方式

枚葉式

バッチ式

インライン連続式

立体部品支持式

基板加熱温度 ℃

0 - 300

300 - 500

500 - 800

800 - 1,000

1,000 - 1,200

制御操作

PC

PLC

タッチパネル

41 点の製品中 2ページ目

41 点の製品中 2ページ目

株式会社マイクロフェーズ

CVD装置 RFプラズマアシストCVD装置 MPCVD-Plasma

280人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

61.4時間 返答時間

ガスのイオン化や前駆体の分解を促進 ■概要 ・横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあ...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易い大気装入方式で実現 PlasmaPro 80 RIE

460人以上が見ています

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

23.1時間 返答時間

■概要 PlasmaPro 80 リアクティブイオンエッチング (RIE) は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジショ...


株式会社セルバック

プラズマCVD PEGASUS HDP-CVD

330人以上が見ています

最新の閲覧: 15時間前

PEGASUS HDP-CVDは、ICPの高密度プラズマの高いガス分解効率で、低温成膜と緻密な膜を作り上げます。2タイプのHDP-CVDは、BタイプとHタ...


株式会社マイクロフェーズ

CVD装置 レーザーアシストCVD装置 MPCVD-Laser

290人以上が見ています

100.0% 返答率

61.4時間 返答時間

レーザー描画によるパターン成膜が可能 ■概要 ・市販のファイバーレーザー加工機の試料室に、反応性ガス (炭化水素ガスやアンモニアガ...


株式会社マイクロフェーズ

横型CNT グラフェン合成装置 MPCVD-Graphene

350人以上が見ています

最新の閲覧: 13時間前

100.0% 返答率

61.4時間 返答時間

炭化水素ガス (CH4やC2H2) を用いたCVD法で触媒基板 (Ni、Cuなど) にグラフェン膜を成長するには、 基板の急冷が重要要素の一つと言われ...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD

500人以上が見ています

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

23.1時間 返答時間

PlasmaPro 800は、プラズマ励起化学気相堆積 (PECVD) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチと300mmウェハにおいて、コ...


株式会社サンバック

プラズマCVD装置 CP-1700

20人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

0.2時間 返答時間

プラズマCVD装置CP-1700は縦型石英管の外周に置かれたコイルによって発生したプラズマ中を、ヒーターを内蔵した基板ホルダーを上下する...


株式会社サンバック

プラズマCVD装置 CP-1900

10人以上が見ています

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

0.2時間 返答時間

プラズマCVD装置CP-1900はステンレスチャンバー内に置かれた基板に発生したプラズマにより、成膜します。上部電極は、ガスシャワーが装...


日本電子工業株式会社

NEO Cコーティング (プラズマCVD) 装置

10人以上が見ています

低温プラズマの熱処理への応用により開発されたプラズマCVD法は、PVD法・CVD法両技術の特長を兼ね備え、すでに半導体産業では重要な成膜...


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