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新明和工業株式会社
芝浦メカトロニクス株式会社
株式会社山縣機械
パナソニック株式会社
株式会社日立ハイテク
JSWアフティ株式会社
株式会社日立ハイテクマニファクチャ&サービス
キヤノンアネルバ株式会社
住友精密工業株式会社
株式会社日立ハイテクソリューションズ
株式会社日立ハイテクサイエンス
サンアロー株式会社

エッチング装置
メーカー59社・36製品 【2024年】

エッチング装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、エッチング装置のメーカー59社一覧企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。エッチング装置関連企業の2024年11月注目ランキングは1位:新明和工業株式会社、2位:芝浦メカトロニクス株式会社、3位:株式会社山縣機械となっています。

目次

エッチング装置の関連キーワード

前田 理也

監修者: 前田 理也

早稲田大学大学院でMBE法による窒化物半導体成長に関する研究に従事。2016年に大学院を修了後、非鉄金属系メーカーへ入社。金属製錬工場における設備保全・エンジニアリングの業務に従事。2022年に化学系メーカーへ転職。同様の業務に従事。

エッチング装置のカタログ7件をまとめてダウンロードできます!

新明和工業株式会社のエッチング装置のカタログ
新明和工業株式会社のエッチング装置のカタログ
株式会社イー・スクエアのエッチング装置のカタログ
株式会社イー・スクエアのエッチング装置のカタログ
丹波貿易株式会社のエッチング装置のカタログ
株式会社東設のエッチング装置のカタログ
株式会社東設のエッチング装置のカタログ


エッチング装置メーカー 59社

*一部商社などの取扱い企業なども含みます。

新明和工業株式会社のエッチング装置
・独自のイオンエッチング技術により切削工具や金型、各種部品向の除膜が可能
・薬液を使用しないドライ手法で廃液レス
・微細バリの除去、先端形状の修正(先鋭化)も可能

芝浦メカトロニクス株式会社のエッチング装置
高温リン酸を用いた窒化膜(Si3N4膜)のエッチング装置で、独自の薬液濃度・温度制御方式で160度以上を維持し、ゾーン制御式ウェーハ近接ヒーターにより高精度な均一性を実現します。エッチング後の洗浄も装置内に搭載しています。先端ロジックデバイスに豊富な実績があり、信頼性と歩留まり向上に貢献します。

株式会社山縣機械のエッチング装置
・当社独自のノズル配置とオシレーション機構により高精度にムラなくエッチング可能
・酸、アルカリの両エッチャントに対応
・研究内容に合わせた仕様設計


エッチング装置 2024年11月のメーカーランキング

*一部商社などの取扱い企業なども含みます

注目ランキング導出方法について

注目ランキングは、2024年11月のエッチング装置ページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。

社員数の規模

  1. パナソニック: 240,198人
  2. 日立ハイテク: 11,903人
  3. JSWアフティ: 5,239人

設立年の新しい会社

  1. NSCエンジニアリング: 2018年
  2. SETO ENGINEERING: 2016年
  3. SCREENファインテックソリューションズ: 2014年

歴史のある会社

  1. ミカサ: 1921年
  2. 山縣機械: 1928年
  3. パナソニック: 1935年

36 点の製品がみつかりました

36 点の製品

神港精機株式会社

プラズマ処理装置 ICPメタル エッチング装置

300人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

ナノインプリントモールド用ICPエッチング装置「SERIO」の基本構成よりチャンバ内構成やガス系をメタル用にカスタマイズした最新型エッチング装置です。 半...


神港精機株式会社

プラズマ処理装置 マルチチャンバ ICP エッチング装置

340人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

エッチング室を複数装備できる新型マルチチャンバタイプエッチング装置です。 新開発ICPエッチングチャンバを2室装備可能 ・同装置は従来のMEMSプロセスSi深...


タツモ株式会社

塗布・現像装置 CSXシリーズ

50人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

CSX2000シリーズは、装置構成に柔軟性と拡張性を持たせ、研究開発向けから量産ラインまで幅広い対応を実現したコータ/デベロ ッパです。特に厚膜プロセスに対...


タツモ株式会社

塗布・現像装置 SPRシリーズ

70人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

SPR3000シリーズは、特に高速処理に特化したタツモフラッグシップコータ/デベロッパです。装置構成に柔軟性と拡張性を持たせ、ユニット単位で必要な数だけ選...


神港精機株式会社

プラズマ エッチング装置 EXAM

320人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

EXAMは半導体量産用装置のノウハウを生かした複数の目的にも対応可能な多目的プラズマエッチング装置です。 ガス系やプラズマモードの切り替えによりエッチン...


アクテス京三株式会社

小型エッチング装置 AEP-3000S

90人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

45.1時間 返答時間

■特徴 ・外装に硬質塩ビを採用したことにより、防錆効果が向上 ・処理部と電装部を別体とすることにより、腐食等による粉塵の発生を抑えクリーンな環境を保持...


神港精機株式会社

ICPプラズマ エッチング装置 SERIO

230人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

SERIO は高密度ICPプラズマソースを搭載した高密度プラズマエッチング装置です。独自開発プロセスにより、高い垂直性とエッチング表面の平滑性を実現しました...


株式会社ファイコーポレーション

ウエットライン装置 エッチング剥離ライン

160人以上が見ています

■装置概要 ドライフィルムのパターン形成において、現像後のワークを投入する事により塩化第二銅にてエッチングを行いその後、苛性ソーダによってドライフィ...


トルーソルテック株式会社

電解エッチングユニット『CEL-03』

550人以上が見ています

最新の閲覧: 15時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.5時間 返答時間

圧着端子を安全、素早く表面処理! ◆圧着端子断面の表面処理を行います。 30~60秒で芯線1本1本が綺麗に見えるようになり、断面計測の測定精度を向上させま...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

低ダメージで平滑な表面が実現 PlasmaPro 100 ALE 原子層エッチングシステム

210人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

■概要 PlasmaPro 100 ALE原子層エッチングシステムにより、次世代半導体デバイスのエッチングを正確にコントロールすることが可能になります。GaN HEMTアプリ...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

高速なエッチングレートを実現 PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE エッチングシステム

340人以上が見ています

最新の閲覧: 13時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

■概要 PlasmaPro 100 Cobra ICP RIEシステムでは、高密度誘導結合プラズマを使用して、高速なエッチングレートを実現します。このプロセスモジュールは、GaAs...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

DRIEアプリケーション用プラットフォーム PlasmaPro 100 Estrelas DRIE

220人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

PlasmaPro 100 Estrelas プラットフォームは、ディープ リアクティブイオン エッチング (DRIE) アプリケーション用に、総合的なフレキシビリティが実現するよ...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

コンパクトな多様なエッチングとデポジションのソリューション PlasmaPro 80 PECVD

210人以上が見ています

最新の閲覧: 17時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

PlasmaPro 80は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易いオープンロード方式で実現します。...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易い大気装入方式で実現 PlasmaPro 80 RIE

200人以上が見ています

最新の閲覧: 13時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

■概要 PlasmaPro 80 リアクティブイオンエッチング (RIE) は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

便利なオープンローディングで多目的なICPエッチングソリューションを提供 PlasmaPro 80 ICP RIE

190人以上が見ています

最新の閲覧: 20時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

■概要 ・PlasmaPro 80 ICP RIEは、コンパクトで設置面積が小さく、便利なオープンローディングで多目的なICPエッチングソリューションを提供するシステムです...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

枚葉式ICP RIEエッチング装置 PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE

180人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

PlasmaPro 100 Polaris は、高い競争力を維持するために必要なエッチング性能により、スマートなソリューションを提供する枚葉式エッチングシステムです。GaN...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

広範なプロセスに対応した等方性・異方性ドライエッチング PlasmaPro 100 RIE

170人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

PlasmaPro 100 RIE モジュールにより、広範なプロセスに対応した等方性・異方性ドライエッチングが実現します。研究および製造のお客様に適しており、ロード...


株式会社小松原

フィルム剥離・ハーフエッチング装置 (脱墨機)

50人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

38.0時間 返答時間

印刷後軟質フィルム (PET,OPS等) からインキ・コーティング剤・離型剤等を洗浄・除去・剥離・ケミカルエッチング・ハーフエッチング・ (脱墨) を行い、プラス...


ヴァーダー・サイエンティフィック株式会社

信頼性と利便性の高い金属表面処理を実現 電解研磨・エッチング装置 QETCHシリーズ

160人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

100.0% 返答率

48.0時間 返答時間

Qetch 100 Mは持ち運びに便利なバッテリ式の電解研磨・エッチング装置です。いつもの実験室ではなく、出先の現場で使用するのに最適です。Qetch 1000は、使い...

2種類の品番

100 M-信頼性と利便性の高い金属表面処理を実現 電解研磨・エッチング装置 QETCHシリーズ
1000-信頼性と利便性の高い金属表面処理を実現 電解研磨・エッチング装置 QETCHシリーズ

新着

テルモセラ・ジャパン株式会社

nanoETCH ソフトエッチング装置 Model. ETCH5A

20人以上が見ています

■概要 <30W (制御精度10mW) 低出力 RFエッチングによるダメージレスエッチング欧州アカデミックパートナーとの共同開発技術「Soft-Etching」テクノロジー。英...


タツモ株式会社

半導体製造装置 洗浄装置 枚葉式エッチング・ 洗浄システム CENOTE ®

70人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

枚葉式洗浄システムCENOTE ®は、マルチカップ方式を採用した多機能枚葉式洗浄装置です。クリーンな液体をウェハ表面に連続供給すると同時に、薬液の種類、混...


タツモ株式会社

半導体製造装置 洗浄装置 バッチ式浸漬洗浄・エッチングシステム TIGRISR

80人以上が見ています

最新の閲覧: 15時間前

バッチ式洗浄装置TIGRIS®200及びTIGRIS®300は、200mm/300mm対応型の高機能浸漬洗浄エッチングシステムで、業界標準仕様に所有技術を付加しました。各種モニタ...


株式会社LDF

レーザエッチングシステム CTET-LD

40人以上が見ています

最新の閲覧: 15時間前

■特長 ・ITO膜の除去性能を重視した光学パーツの選択と光学設計を施しています。 ・レーザ光線をガルバノメータで振っても、標準装備の自動XYステージを移動...


新着

キヤノンアネルバ株式会社

クラスター MRAM用ドライエッチング装置 NC8000

10人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

大口径イオンビーム、クランプレスのIBEモジュールで高い加工性能を実現するMTJ素子加工向けのエッチング装置です。 従来の反応性エッチングでは加工が困難...


新着

キヤノンアネルバ株式会社

クラスター MRAM用ドライエッチング装置 EC8000

最新の閲覧: 2時間前

メタノールガスによる低ダメージプロセス、保護膜形成までを一括処理するMTJ素子加工向けのエッチング装置です。 MRAM磁性積層膜のマスク・MTJの加工 (ドラ...


アルバック販売株式会社

研究開発向け 高密度プラズマエッチング装置 NE-550EX

90人以上が見ています

100.0% 返答率

125.8時間 返答時間

■概要 研究開発向け高密度プラズマエッチング装置NE-550EXは、有磁場ICP (ISM=Inductively Super Magnetron) 方式の高密度プラズマエッチング装置、枚葉式でL...


アルバック販売株式会社

高密度プラズマドライエッチング装置 ULHITETM NE-7800H

70人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

100.0% 返答率

125.8時間 返答時間

■概要 高密度プラズマドライエッチング装置ULHITETM NE-7800HはFeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAMなどに用いられる難エッチング材料 (強誘電体、貴金属、磁性膜等) ...


新明和工業株式会社

薄膜・表面改質技術&装置 イオンエッチング装置 IEシリーズ

60人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■イオンエッチング装置とは イオンエッチングとはイオン化された原子を対象物に衝突させ、物理的に削る技術の一つです。当社では独自のイオンエッチング技術...


アルバック販売株式会社

量産用ドライエッチング装置 NE-5700/NE-7800

70人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

100.0% 返答率

125.8時間 返答時間

■概要 量産用ドライエッチング装置NE-5700/NE-7800は、1チャンバーからマルチチャンバーに対応し、コストパフォーマンスを重視した拡張性あるエッチング装置...


アルバック販売株式会社

オプトデバイス、MEMS向け ドライエッチング装置 NLD-5700

70人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

100.0% 返答率

125.8時間 返答時間

■概要 オプトデバイス、MEMS向けドライエッチング装置NLD-5700は、磁気中性線プラズマ (NLD) 源を搭載した量産用ドライエッチング装置です。 (アルバックが独...


エッチング装置のカタログ 7件


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