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【2020年版】半導体検査装置9選 / メーカー7社一覧

半導体検査装置のメーカー7社・32製品を一覧でご紹介します。


目次


半導体検査装置のメーカー情報

半導体検査装置のメーカーランキング

社員数の規模

  1. 1 株式会社日立ハイテク
  2. 2 応用電機株式会社
  3. 3 レーザーテック株式会社

設立年の新しい会社

  1. 1 TASMIT株式会社
  2. 2 ウインテスト株式会社
  3. 3 日本セミラボ株式会社

歴史のある会社

  1. 1 株式会社日立ハイテク
  2. 2 レーザーテック株式会社
  3. 3 株式会社シキノハイテック

半導体検査装置のメーカー7社一覧


半導体検査装置9選

ミラー電子式検査装置 Mirelis VM1000

株式会社日立ハイテク ミラー電子式検査装置 Mirelis VM1000 画像出典: 株式会社日立ハイテク公式サイト

特徴

ミラー電子式検査装置MirelisVM1000は、SiCウェーハやエピタキシャルウェーハの結晶の欠陥や積層欠陥、加工によるダメージを非破壊で検査するために使用される半導体検査装置になります。

電位ポテンシャルの変化をとらえることができるミラー電子式の検査方式であるので、ウェーハ内部の検査を行うことができます。

入射電子線は、ウェーハに到達する前に電位面で反射されるため、非破壊非接触で検査することができ、出荷前検査用の装置としても利用することができます。

株式会社日立ハイテクの会社概要

  • 会社所在地: 東京都港区虎ノ門一丁目17番1号 虎ノ門ヒルズ ビジネスタワー
  • URL: https://www.hitachi-hightech.com/jp/
  • 創業: 1947年
  • 従業員数: 11,903人

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ウェーハ表面検査装置 LSシリーズ

株式会社日立ハイテク ウェーハ表面検査装置 LSシリーズ 画像出典: 株式会社日立ハイテク公式サイト

特徴

ウェーハ表面検査装置LSシリーズは、回路パターンがまだできていない鏡面のシリコンウェーハに存在する異物や欠陥を検査するための半導体検査装置になります。

半導体鏡面シリコンウェーハ上にある欠陥による散乱功を測定することで、欠陥を発券すると同時に、ウェーハ表面からのノイズを除去することによって、高精度の測定を行うことができます。

10nmラインで使用されるシリコンウェーハの出荷前検査や受け入れ検査に対応しています。

株式会社日立ハイテクの会社概要

  • 会社所在地: 東京都港区虎ノ門一丁目17番1号 虎ノ門ヒルズ ビジネスタワー
  • URL: https://www.hitachi-hightech.com/jp/
  • 創業: 1947年
  • 従業員数: 11,903人

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トレンチ形状検査装置

日本セミラボ株式会社 トレンチ形状検査装置 画像出典: 日本セミラボ株式会社公式サイト

特徴

トレンチ形状検査装置は、半導体製造工程におけるエッチング構造と膜の寸法と厚さ、組成と均一性を非接触・非破壊で検査することができる半導体検査装置になります。

高いスループットで測定が行えるだけでなく、セミラボ社独自の技術のMBIRと分析機能によって、サンプル測定を定期的なシステム校正作業の頻度を低減することができます。

裏面反射の影響を除去することができる光学系の独自機能が搭載されており、高精度の測定が可能です。

日本セミラボ株式会社の会社概要

  • 会社所在地: 神奈川県横浜市港北区新横浜2-15-10 YS新横浜ビル6階
  • URL: https://www.semilab-j.jp/
  • 創業: 1987年
  • 従業員数: 25人

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走査型プローブ顕微鏡(SPM)

日本セミラボ株式会社 走査型プローブ顕微鏡(SPM) 画像出典: 日本セミラボ株式会社公式サイト

特徴

走査型プローブ顕微鏡は、サンプルを薄くスライスしなければ測定することができない透過電子顕微鏡と異なり、サンプルにダメージを与えることなく、光学顕微鏡以上の倍率で測定することができる半導体検査装置になります。

コンパクトな設計によって、安定的な測定を高速のスキャンで行うことができます。

内蔵されている光学軸によって、座標を判別することができ、3D画像の様な測定データを出力することができます。

日本セミラボ株式会社の会社概要

  • 会社所在地: 神奈川県横浜市港北区新横浜2-15-10 YS新横浜ビル6階
  • URL: https://www.semilab-j.jp/
  • 創業: 1987年
  • 従業員数: 25人

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ウェハ欠陥検査/レビュー装置

レーザーテック株式会社 ウェハ欠陥検査/レビュー装置 画像出典: レーザーテック株式会社公式サイト

特徴

ウェハ欠陥検査/レビュー装置MAGICSシリーズM5640は、ウェーハの製造プロセスにおける欠陥の検出に使用される半導体検査装置になります。

63本のマルチレーザービームと高速で駆動するステージによって、素早く正確な測定をすることができます。

シリコンウェーハ以外にも、ミラーポリッシュウェーハや、エピタキシャルウェーハ、SOIウェーハ、石英ウェーハなどにも高精度で対応しています。

ダイヤモンドチップによる、汚れが出ない欠陥位置のマーキングが可能です。

レーザーテック株式会社の会社概要

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マスク欠陥検査装置

レーザーテック株式会社 マスク欠陥検査装置 画像出典: レーザーテック株式会社公式サイト

特徴

マスク欠陥検査装置MATRICSX8ULTRAシリーズは、業界で唯一の7nm~5nmのEUV用のフォトマスクの欠陥を検出することができる半導体検査装置になります。

初期状態のマスクパターンの画像をすべて保存し、露光を終えた後のマスクパターンと比較することで、正確にマスク上の欠陥や異物を検出します。

フォトマスクのパターンの寸法分布を検査と同時に正確に測定することができ、その形状を画面に可視化する機能が搭載されています。

レーザーテック株式会社の会社概要

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光学式半導体ウェーハ外観検査装置 INSPECTRA(R)シリーズ

TASMIT株式会社 光学式半導体ウェーハ外観検査装置 INSPECTRA(R)シリーズ 画像出典: TASMIT株式会社公式サイト

特徴

光学式半導体ウェーハ外観検査装置INSPECTRA®シリーズは、前工程から後工程すべてのウェーハの検査に対応している、高速、高感度での検査が可能な半導体外観検査装置になります。

TASMIT社独自の良品学習アルゴリズムによって、様々なノイズを抑えて、正確に欠陥を検知することが可能です。

ラインラップは6種類展開されており、前工程向けか後工程向けか、ワークサイズの大きさ、よりハイエンドの製品などから、最適な製品を選択することができます。

TASMIT株式会社の会社概要

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ウエーハ内部欠陥検査装置 INSPECTRA(R) IRシリーズ

TASMIT株式会社 ウエーハ内部欠陥検査装置 INSPECTRA(R) IRシリーズ 画像出典: TASMIT株式会社公式サイト

特徴

ウエーハ内部欠陥検査装置INSPECTRA®IRシリーズは、赤外光と可視光によって、ウェーハの内部にある欠陥を高速、高精度に測定できる半導体検査装置になります。

キャップ構造のMEMS欠陥の検査やイメージセンサの内部欠陥、貼り合わせのボイド検査などに対応しています。

TASMIT社独自の良品学習アルゴリズムによって、細かい欠陥を確実に検知することができます。

高感度カメラと赤外光に対応している光学系によって、幅広い検査方法が可能となり、様々な欠陥の測定に対応しています。

TASMIT株式会社の会社概要

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重ね合わせ測定装置 OM-7000H

TASMIT株式会社 重ね合わせ測定装置 OM-7000H 画像出典: TASMIT株式会社公式サイト

特徴

重ね合わせ測定装置OM-7000Hは、積層型イメージセンサや、積層型のメモリなど、
ウェーハを貼り合わせて作成される半導体のずれや、表裏アライメントを高精度で測定することができる半導体検査装置になります。

IR光源によるエッジ測定と、高精度のフォーカスが行える独自のステージ、透過光と反射光の照明設備によって、正確に検査を行うことができます。

TASMIT社独自の測定アルゴリズムによって、高速、高精度に検査が行えるうえ、NG画像を保存することができるので、プロセスの改良時に役立ちます。

TASMIT株式会社の会社概要

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半導体検査装置の32製品一覧

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