枚葉式ICP RIEエッチング装置 PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社の対応状況
返答率
100.0%
平均返答時間
8.0時間
この製品について
■特徴
・アクティブ冷却電極：エッチングプロセス中のサンプル温度管理が可能 ・高出力 ICP ソース：高密度プラズマの生成 ・信頼性の高いハードウェアと保守性の高さ：優れた稼働率を実現 ・マグネット式スペーサー：イオンコントロールと均一性の向上 ・独自の静電クランプ技術：サファイア基板、 GaNが成膜されたサファイア基板やシリコン基板のクランプが可能 ・ヒーター付きチャンバーライナー：チャンバー内壁のデポジションを低減するために最適化 ・アドバンスト オートマッチング ユニット (AMU) ：高速で効率的かつ正確なマッチングが可能で、優れたプロセス再現性を実現-
シリーズ
枚葉式ICP RIEエッチング装置 PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE
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枚葉式ICP RIEエッチング装置 PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) |
|---|---|---|
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PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE |
要見積もり |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
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