メーカー 38社
製品 91点

メーカー 38社製品 91点

スパッタリング装置
メーカー38社・91製品【2024年】

スパッタリング装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、スパッタリング装置のメーカー38社一覧や企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。スパッタリング装置関連企業の2024年11月注目ランキングは1位:芝浦メカトロニクス株式会社、2位:パナソニックプロダクションエンジニアリング株式会社、3位:長州産業株式会社となっています。

スパッタリング装置とは？
スパッタリング装置のメーカー38社
スパッタリング装置91製品

スパッタリング装置とは

スパッタリング装置はごく薄い膜を対象物の表面に均一に作製するスパッタリングを行う装置です。

スパッタリングとは、真空蒸着やイオンプレーティングと同じく物理気相成長法 (PVD法) の一つです。主に半導体や液晶の成膜をはじめとしたさまざまな分野で活用いられています。また、対象物の表面を清浄化する際に用いられることもあります。

スパッタリング装置の使用用途

スパッタリング装置は、半導体、液晶、プラズマディスプレイなどの薄膜作製に利用されています。また、他のPVD法の蒸着装置と比較して、スパッタリング装置は高融点の金属や合金の成膜が可能であるため、用途が広い特徴があります。

最近では、プラスチックやガラス、フィルムの表面に金属を成膜して導電性を持たせ、透明電極やタッチパネルの配線としても利用されており、スパッタリング装置の用途の幅はさらに広がっています。

他に、光触媒作用のある酸化チタンを表面にコーティングし、抗菌作用を持たせた医療器具や雑貨等も販売されています。また、走査型電子顕微鏡 (SEM) の試料調製など分析用途でも利用されています。

スパッタリング装置の構造

図1-スパッタリング装置の構造

図1. スパッタリング装置の構造

スパッタリング装置は、主に下記のもので構成されています。

真空チャンバ
試料台
スパッタターゲット
排気装置 (ロータリーポンプなど)
ガス供給系
電源 (高周波、高圧電源など)

真空チャンバー内に基板を保持する試料台とスパッタ材料を供給するスパッタターゲットがあり、真空ポンプとガスの供給系がチャンバーにつながっています。

スパッタリング装置の原理

図2-スパッタリングの原理

図2. スパッタリングの原理

スパッタリング装置の原理は、真空下で高電圧をかけ、膜材料の原子をはじきとばして対象物表面に成膜するものです。まず、ポンプによってチャンバー内を十分な減圧状態にした後、アルゴンなどの不活性ガスを一定圧力で装置内に充填します。

薄膜の材料となるターゲットに高い陰電圧をかけグロー放電を起こすと、あらかじめ装置内に充填されていたアルゴンがプラズマ化され、陰極上のターゲットに衝突し、ターゲット上の原子や分子がはじき出されます。はじき出されたターゲット原子が、陽電圧をかけた対象物の表面に堆積し、薄膜を作製することができます。

スパッタリング装置の種類

スパッタリングの方式には、様々な種類があります。

図3-スパッタリング装置の種類

図3. 主なスパッタリング装置の種類

1. DC方式

直流電圧を電極間にかける方法です。構造が単純などの様々な利点がありますが、試料が高温のプラズマによる損傷を受ける可能性があり、スパッタリングターゲットが絶縁体の場合、製膜が正常に行えないなどの欠点があります。

2. RF方式

高周波の交流電圧電極間にかける方法です。DC方式では製膜できないようなセラミックスやシリカなどの酸化物や金属酸化物、窒化物などの物質でも製膜することができます。

3. マグネトロン方式

ターゲット側に磁石で磁界をつくり、プラズマをターゲット付近にとどめる方法です。試料のプラズマによる損傷が減少するだけでなく、プラズマの生成速度が向上するため、製膜速度が速くなります。直流、交流、高周波交流など様々な電源方式で利用できます。一方で、ターゲットの減り方にムラができ、利用効率が低い傾向にあります。

4. イオンビーム方式

イオンをターゲットや試料と別の場所でつくり、ターゲットに加速してあてる方法です。チャンバー内で放電を行わない方法なので、試料への影響が最小限で済むだけでなく、不純物の付着やターゲットの導電性などを考慮する必要がありません。

上記以外にも電子サイクロトロン (ECR) など様々な種類のスパッタリング装置があり、用途や予算に応じて適切に選択する必要があります。

スパッタリング装置のその他情報

スパッタリング装置の特徴

スパッタリング装置による成膜は、膜厚を均一にすることができ、かつ電気的性質を利用しているので、膜の強度を高くすることができます。他のPVD法では難しい、高融点金属や合金材料の膜が作製できます。また、アルゴンなどの不活性ガスの代わりに酸素を充填し、酸化物の成膜を行う方法もあります。

一方で、成膜にかかる時間が他のPVD法と比較して長いことや、発生したプラズマによるスパッタ対象を損傷するリスクなどのデメリットもあります。

参考文献

https://www.oike-kogyo.co.jp/research/column/sputtering/
http://www.sanyu-electron.co.jp/c/index.php?cID=172
https://plastics-japan.com/archives/2015

スパッタリング装置のカタログ17件をまとめてダウンロードできます！

パナソニックプロダクションエンジニアリング株式会社のスパッタリング装置のカタログ

スパッタリング装置のカタログ17件をまとめてダウンロードできます！

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』RF/DCマグネトロンスパッタリングシステムのカタログ

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズフレキシブル薄膜実験装置』のカタログ

蒸着装置『MiniLab-026/090-GBグローブボックス薄膜実験装置』のカタログ

スパッタリング装置メーカー 38社

*一部商社などの取扱い企業なども含みます。

多層膜スパッタリング装置 S600 注目製品
パナソニックプロダクションエンジニアリング株式会社

・オリジナル工法であるMPスパッタ技術で、今までにない緻密な薄膜で高結晶・高密度・低抵抗・高保護膜を実現
・TS調整機構によりターゲットライフエンドまで高均一性を維持
・インデックステーブル方式により高生産性を実現

◉ 3源スパッタリングシステム『nanoPVD-S10A』RF/DC 自動連続多層膜同時成膜注目製品
テルモセラ・ジャパン株式会社

★ RF/DC兼用マグネトロン式カソード x 最大3源
★ 反応性スパッタ、自動多層連続膜、同時成膜も可能
★ MFC x 3系統 APC自動圧力コントロール
★ 7"タッチパネルで全てを操作一元管理が可能
★ 多彩なオプション

ロードロック式スパッタリング装置注目製品
ジャパンクリエイト株式会社

・当社独自のスパッタカソードを搭載
・ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能
・基板温度900℃を実現する、急速昇降温基板加熱機構を搭載
・発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、
　高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能

【事前にデモ成膜実施可】スパッタリング装置注目製品
長州産業株式会社

・スパッタリング装置は独自の対向ターゲット方式"ミラートロンスパッタ"を搭載
・ミラートロンスパッタの特徴
　①低基板温度
　②低プラズマダメージ
・成膜可能材料
　透明電極層[ITO、IZO、Ag]
　電極層[Al、MgAg]
　封止膜[SiNx、SiOx、AlxOy]
　電子輸送層[TiO2、NiO]

スパッタリング装置ラインナップ注目製品
芝浦メカトロニクス株式会社

電子部品をはじめ各種デバイス、光学、自動車部品などの研究開発から量産まで幅広い分野に向けたスパッタリング装置を多数ラインナップしています。BM、CFSシリーズなど

- - パナソニックプロダクションエンジニアリング株式会社メーカー
    スパッタリング装置一式
  - 会社サイト創業: 2014年従業員数: 657人会社詳細
  - 住所: 大阪府門真市松葉町2番7号
- デモ評価対応可能様々なプロセスを提案カスタマイズ対応可能
  
  パナソニックのモノづくりを支えてきた技術力で、開発から量産まで、
  あらゆるステージの困り事をPPEが一緒に解決。
  カタログ商品だけでなくカスタマイズ商品も提案する技術者集団
- - テルモセラ・ジャパン株式会社
    テルモセラ・ジャパン薄膜実験装置製品一覧
  - 会社サイト創業: 2010年会社詳細
  - 住所: 東京都中央区日本橋3丁目2番14号新槇町ビル別館第一 2階
- カスタムメイド対応短納期イージーメンテナンス
  
  あらゆるご要望にお答えする高性能なスパッタ装置・コンポーネントを取り揃えております。豊富なパーツオプションでカスタムメイドにも柔軟に対応致します。
- - ジャパンクリエイト株式会社
    スパッタリング装置一覧
  - 会社サイト創業: 1963年従業員数: 40人資本金: 30,000,000円会社詳細
  - 住所: 埼玉県所沢市林1丁目203番地4
- オーダーメイドデモ可能アフターフォロー
  
  研究開発装置から量産装置まで、ニーズに合わせたスパッタリング装置を製作しています
  その他真空成膜装置についても対応していますので、お気軽にお問い合わせください
  様々な母材への成膜処理/デモも承っております
- - 長州産業株式会社メーカー
    スパッタ装置一覧
  - 会社サイト創業: 1980年従業員数: 670人資本金: 410,000,000円会社詳細
  - 住所: 山口県山陽小野田市新山野井3740
- メカトロ機器低プラズマダメージ低基板温度
  
  長州産業は、先進のエネルギー機器や有機デバイス製造装置など、幅広い分野で高度な技術を持つ製造メーカーです。再生可能エネルギーを中心としたエネルギー機器分野では業界トップクラスのシェアを持っています。
- - 芝浦メカトロニクス株式会社メーカー
    スパッタリング装置ラインナップ
  - 会社サイト上場(東証プライム) 創業: 1939年従業員数: 1,211人資本金: 6,761,000,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県横浜市栄区笠間2-5-1
- 幅広い分野で実績有りデモ評価対応可能装置ラインナップ多数
  
  半導体・FPD製造装置の前後工程を手掛ける企業です。特定分野で高い技術力・独自性を持つグローバルニッチトップ製品を取り揃えています。コア技術を強みに製品開発から保守サービスまでトータルサポートします。
- - 株式会社真空デバイスメーカー
    スパッタ装置一覧
  - 会社サイト創業: 1985年従業員数: 12人資本金: 10,000,000円会社詳細
  - 住所: 茨城県水戸市飯島町1285-5
- - 株式会社昭和真空メーカー
    ロードロック方式スパッタリング装置 SPH-2500-Ⅱ
  - 会社サイト上場(東証スタンダード) 創業: 1953年従業員数: 197人会社詳細
  - 住所: 神奈川県相模原市中央区田名3062-10
- - 株式会社島津製作所メーカー
    高速スパッタリング装置
  - 会社サイト上場(東証プライム) 創業: 1875年従業員数: 13,499人会社詳細
  - 住所: 京都府京都市中京区西ノ京桑原町1番地
- - アリオス株式会社メーカー
    スパッタ装置
  - 会社サイト創業: 1972年資本金: 15,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都昭島市武蔵野3-2-20
- - 東横化学株式会社メーカー商社・代理店
    スパッタリング装置一覧
  - 会社サイト創業: 1952年従業員数: 355人会社詳細
  - 住所: 神奈川県川崎市中原区市ノ坪370
- - 誠南工業株式会社
    スパッタリング装置
  - 会社サイト創業: 1948年従業員数: 25人資本金: 24,000,000円会社詳細
  - 住所: 大阪府大阪市住之江区北加賀屋4丁目3番24号
- - 株式会社菅製作所
    スパッタ装置一覧
  - 会社サイト創業: 1946年従業員数: 32人資本金: 34,000,000円会社詳細
  - 住所: 北海道北斗市追分3-2-2
- - 株式会社片桐エンジニアリング
    三元マグネトロンスパッタ装置
  - 会社サイト創業: 1991年資本金: 10,000,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県横浜市鶴見区尻手3-5-34
- - 株式会社愛知真空
    平行移動式3元RFスパッタリング装置
  - 会社サイト創業: 2013年会社詳細
  - 住所: 愛知県名古屋市南区豊二丁目21番8号
- - 株式会社富士アールアンドディー
    小型スパッタリング装置
  - 会社サイト創業: 1972年会社詳細
  - 住所: 静岡県富士宮市山宮3507-7
- - 株式会社ヒラノK&E
    スパッタリング装置
  - 会社サイト創業: 1980年従業員数: 51人資本金: 30,000,000円会社詳細
  - 住所: 奈良県北葛城郡河合町川合101-1
- - 株式会社パスカル
    スパッタ装置一覧
  - 会社サイト創業: 1986年会社詳細
  - 住所: 大阪府大阪市阿倍野区昭和町1丁目16番4号
- - 株式会社テクノファイン
    スパッタ装置
  - 会社サイト創業: 1995年資本金: 30,000,000円会社詳細
  - 住所: 宮城県仙台市太白区秋保町長袋字門前21
- - 株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
    グランゼバッハ製スパッタ装置
  - 会社サイト会社詳細
  - 住所: 千葉県市川市新井3丁目25番地14号
- - 株式会社シンクロン
    誘電体多層膜用ロードロック式スパッタ装置一覧
  - 会社サイト創業: 1951年従業員数: 561人資本金: 72,500,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県横浜市西区みなとみらい4-3-5
- - 株式会社サンバック
    スパッタ装置一覧
  - 会社サイト創業: 1995年会社詳細
  - 住所: 東京都江東区扇橋1-21-3
- - 株式会社オプトラン
    メタルモードスパッタリング装置
  - 会社サイト創業: 1999年従業員数: 534人会社詳細
  - 住所: 東京都豊島区西池袋一丁目11番1号
- - 株式会社エピクエスト
    低圧RFスパッタ装置
  - 会社サイト創業: 2000年資本金: 30,000,000円会社詳細
  - 住所: 京都府京都市南区上鳥羽中河原51
- - 株式会社アルバック
    スパッタリング装置
  - 会社サイト創業: 1952年従業員数: 1,710人資本金: 208,730,425,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地
- - 株式会社FKDファクトリ
    研究開発用小型スパッタ装置　FDS/FRS Series
  - 会社サイト会社詳細
  - 住所: 東京都東京都立川市曙町2-42-23-1411
- - 日本真空機器株式会社
    スパッタ装置
  - 会社サイト創業: 2002年会社詳細
  - 住所: 東京都板橋区前野町1丁目3番4号
- - 大邦工業株式会社
    スパッタリング装置
  - 会社サイト創業: 1979年従業員数: 35人資本金: 30,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都新宿区西落合1-1-13
- - 大亜真空株式会社
    スパッタ装置
  - 会社サイト創業: 1939年従業員数: 69人会社詳細
  - 住所: 千葉県八千代市大和田新田495
- - 北野精機株式会社
    スパッタリング装置
  - 会社サイト創業: 1958年資本金: 15,440,000円会社詳細
  - 住所: 東京都大田区中央7-17-3
- - サンユー電子株式会社
    スパッタ装置
  - 会社サイト創業: 1976年従業員数: 24人会社詳細
  - 住所: 東京都新宿区百人町1-22-6
- - ケーズテック合同会社
    小型スパッタ装置
  - 会社サイト創業: 2014年会社詳細
  - 住所: 茨城県稲敷郡阿見町中央二丁目16-24 マーブルハウスＡ号室
- - エイ・エス・ディ株式会社
    粉体スパッタリング装置
  - 会社サイト創業: 1995年会社詳細
  - 住所: 神奈川県横浜市中区野毛町3丁目160-4-406
- - アルバック機工株式会社
    スパッタリング装置
  - 会社サイト創業: 1971年従業員数: 264人資本金: 280,000,000円会社詳細
  - 住所: 宮崎県西都市大字茶臼原291-7
- - アプライドマテリアルズジャパン株式会社
    AKT® NEW ARISTO™ CF
  - 会社サイト会社詳細
  - 住所: 東京都港区海岸3丁目20−20
- - 株式会社マツボー商社・代理店
    スパッタ装置　TRIO
  - 会社サイト創業: 1949年会社詳細
  - 住所: 東京都港区虎ノ門3-8-21　虎ノ門33森ビル4F
- - 三弘エマテック株式会社商社・代理店
    スパッタリング装置
  - 会社サイト創業: 1975年従業員数: 28人会社詳細
  - 住所: 愛知県名古屋市名東区高間町544
- - ハイソル株式会社商社・代理店
    イオンスパッタ装置
  - 会社サイト創業: 1993年従業員数: 25人会社詳細
  - 住所: 東京都台東区上野1-17-6
- - キヤノンアネルバ株式会社商社・代理店
    スパッタリング装置一覧
  - 会社サイト創業: 1967年従業員数: 1,127人資本金: 1,800,000,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県川崎市麻生区栗木2-5-1

スパッタリング装置 2024年11月のメーカーランキング

*一部商社などの取扱い企業なども含みます

2024年11月の注目ランキングベスト10

注目ランキング導出方法

順位	会社名	クリックシェア
1	芝浦メカトロニクス株式会社	8.5%
2	パナソニックプロダクションエンジニアリング株式会社	7.3%
3	長州産業株式会社	6.5%
4	株式会社真空デバイス	5.7%
5	キヤノンアネルバ株式会社	4.9%
6	アプライドマテリアルズジャパン株式会社	4.0%
7	テルモセラ・ジャパン株式会社	3.6%
8	東横化学株式会社	3.6%
9	株式会社島津製作所	3.6%
10	ジャパンクリエイト株式会社	3.2%