独自のスパッタカソードを搭載 多元スパッタリング装置-多元スパッタリング装置
独自のスパッタカソードを搭載 多元スパッタリング装置-ジャパンクリエイト株式会社

独自のスパッタカソードを搭載 多元スパッタリング装置 ジャパンクリエイト株式会社

電子・電気機器業界用 自動車・輸送用機器業界用 化学業界用

この製品について

■特徴

・当社独自のスパッタカソードを搭載 ・基板ステージに3軸機構 (昇降、公転、自転) を搭載し、均一な膜厚分布を実現 ・当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載し、基板温度900℃を実現 ・最大4台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能 ・トレイ搬送にも対応 ・CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可

■用途

・半導体 ・MEMS ・電子部品 ・光学部品 ・車載部品

  • シリーズ

    独自のスパッタカソードを搭載 多元スパッタリング装置



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独自のスパッタカソードを搭載 多元スパッタリング装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 基板サイズ スパッタカソード スパッタ電源 プロセスガス 基板ステージ 真空排気 圧力制御 制御操作 データロギング 基板搬送 オプション
独自のスパッタカソードを搭載 多元スパッタリング装置-品番-多元スパッタリング装置

多元スパッタリング装置

要見積もり 最大φ12インチ マグネトロン方式、ターゲットシャッタ RFまたはDC Ar、O2、N2、他 基板加熱:700℃ (基板表面)
自転:30rpm
公転:10rpm
昇降:50mmst
構成1:TMP+DP
構成2:CP+DP
APC制御 制御:PLC
操作:タッチパネルまたはPC
外部メモリまたはPC 真空搬送ロボット 基板加熱900℃、基板バイアス (RFまたはDC) 、基板冷却 (低温成膜) 、ムービングマグネット、磁性材ターゲット用カソード、発光分析システム、トレイ搬送、Q-MASS etc

のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

ジャパンクリエイト株式会社は、ウエハ自動洗浄装置、エッチング装置、スピン洗浄装置、プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置の開発及び製造を主な事業内容とする企業です。
1963年に洗浄装置の開発及び製造を...

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  • 本社所在地: 埼玉県
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