プラズマエッチング装置
メーカー8社・31製品【2024年】

プラズマエッチング装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、プラズマエッチング装置のメーカー8社一覧や企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。プラズマエッチング装置関連企業の2024年12月注目ランキングは1位:株式会社サクラクレパス、2位:神港精機株式会社、3位:住友精密工業株式会社となっています。

プラズマエッチング装置とは？
プラズマエッチング装置のメーカー8社
プラズマエッチング装置31製品

プラズマエッチング装置の関連キーワード

エッチング装置プラズマCVD装置

プラズマエッチング装置とは

プラズマエッチング装置とは、半導体のLSI製造などの微細加工分野において、プラズマ化したガスを用いたエッチング装置です。

LSI (大規模集積回路) やその原版となるフォトマスク、スマートフォンのディスプレイなどは、基板上に非常に微細なパターンの形成を経て出来上がります。この工程で、現像工程に続くのがエッチング工程です。エッチングでは、現像されたレジストパターンに沿ってその下にあるシリコンやシリコンの酸化膜、金属膜等を削っていきます。

LSIの高集積化やディスプレイの高精細化が進むにつれて、パターンの微細化が進行しました。プラズマエッチング装置は、微細なパターンの形成に必要不可欠な装置です。

プラズマエッチング装置の使用用途

プラズマエッチング装置は、半導体デバイスの中でもメモリーやCPUなどの微細化と高集積化が進んだデバイス、フラットパネルディスプレイの中でもスマートフォンのような高詳細化が進んだディスプレイの製造工程で使用されます。これらのデバイスの製造においては、露光、現像、エッチング、レジスト剥離の工程を何回も繰り返します。フォトマスク上のパターンを光 (レーザー光) を使ってレジスト上に転写するのが露光工程です。

それに続く現像工程では、レジストの露光された部分 (あるいは露光されていない部分) を薬液によって除去します。その後に、レジストが除去された部分に露出したシリコンや金属膜を削るのがエッチング工程です。最後に、剥離工程においてレジストを除去することで、目的のパターンが基板上に形成されます。

エッチングには、薬液を使ってシリコンや金属膜を溶解するウエットエッチングと、プラズマ化した気体中のイオン粒子を使って削り取るドライエッチングがあります。ウエットエッチングでは、薬液がレジストの下部まで回り込み、エッチングが垂直方向以外にも進行するのが欠点です。

これに対してドライエッチングでは、エッチングがレジストパターンに沿って綺麗に垂直方向に進みます。プラズマ化したガスを使用することから、その装置をプラズマエッチング装置と言います。

プラズマエッチング装置の原理

プラズマエッチング装置は、真空チャンバーの中に、現像工程が終了したウエハーなどの被加工材料を置きます (以降、加工材料をウエハーで代表します) 。真空チャンバー内では、ウエハーを挟むように電極板が配置されています。すなわち、ウエハーを水平に置いた場合には、その上部と下部にあるのが電極板です。

チャンバーの中を真空にした後に、チャンバー内に加工用のガスを注入します。シリコンやシリコン酸化膜のエッチングには、フルオロカーボン系ガス（CF4, CHF3, C4F8など）やSF6ガスが使われます。金属膜のエッチングに使われるガスは、ハロゲン系ガス (Cl2, BCl3, HBrなど) です。有機系材料のエッチングには、酸素ガスや水素ガスが使われます。

チャンバーに高周波の電界をかけたり、磁界をかけたりすると、エッチングガスは電子とイオンが分離したプラズマ状態となります。そこに電極間に電圧をかけると電界が生じ、イオンがウエハーに叩きつけられる仕組みです。ウエハーにイオンが叩きつけられると、上部をレジストで守られていない、下地が露出した部分では、その部分の原子が弾き飛ばされて徐々に削られていきます。

プラズマエッチング装置の種類

プラズマエッチング装置はプラズマの発生方法によって、容量結合プラズマ (英: CCP, Capacitively Coupled Plasma) 方式、誘導結合プラズマ (英: ICP, Inductively Coupled Plasma) 方式、マイクロ波ECRプラズマ (英: ECR, Electron Cyclotron Resonance) 方式などがあります。容量結合プラズマ方式は、上下に配置された2枚の円盤状の電極板の間で、高周波の電界をかけてプラズマを発生させると同時に、下側の電極板の上に置いた加工物に電解で加速したイオンをぶつけることでエッチングが進行します。

他の2種類はプラズマの生成方法は複雑になりますが、加速したイオンでエッチングを行う原理は3種類とも同じです。

参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jjspe/77/2/77_2_162/_pdf
http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2007_04/jspf2007_04-319.pdf
https://www.semijapanwfd.org/manufacturing_process.html

一括問い合わせ (無料)

プラズマエッチング装置の取り扱い企業にまとめて見積もりできます！

電話番号不要

何社からも電話がかかってくる心配はありません

まとめて見積もり・問い合わせ

複数社に何度も同じ内容を記入する必要はありません

返答率96%以上

96%以上の方がメーカーから返答を受け取っています

一括見積もりの使い方

プラズマエッチング装置メーカー 8社

*一部商社などの取扱い企業なども含みます。

- - 神港精機株式会社メーカー
    プラズマエッチング装置EXAM
  - 会社サイト創業: 1949年従業員数: 194人資本金: 375,000,000円会社詳細
  - 住所: 兵庫県神戸市西区高塚台3丁目1番35号
- - 株式会社サクラクレパスメーカー
    プラズマインジケータ PLAZMARK製品群
  - 会社サイト創業: 1921年従業員数: 1,600人会社詳細
  - 住所: 大阪府大阪市中央区森ノ宮中央 1-6-20
- - 住友精密工業株式会社メーカー
    MEMS・半導体製造装置一覧
  - 会社サイト上場(東証スタンダード) 創業: 1961年従業員数: 1,096人会社詳細
  - 住所: 兵庫県尼崎市扶桑町1番10号
- - サムコ株式会社メーカー
    ドライエッチング装置一覧
  - 会社サイト上場(東証プライム) 創業: 1979年従業員数: 173人資本金: 1,663,687,000円会社詳細
  - 住所: 京都府京都市伏見区竹田藁屋町36番地
- - 株式会社日立ハイテクメーカー商社・代理店
    エッチング装置一覧
  - 会社サイト創業: 1947年従業員数: 11,903人資本金: 793,848,525円会社詳細
  - 住所: 東京都港区虎ノ門一丁目17番1号虎ノ門ヒルズビジネスタワー
- - 株式会社片桐エンジニアリング
    CCP型プラズマエッチング装置
  - 会社サイト創業: 1991年資本金: 10,000,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県横浜市鶴見区尻手3-5-34
- - オーキット材料システム株式会社
    プラズマエッチャー
  - 会社サイト創業: 2003年会社詳細
  - 住所: 千葉県柏市逆井藤ノ台25-11
- - NU-Rei株式会社
    CCP型プラズマエッチング装置
  - 会社サイト会社詳細
  - 住所: 愛知県名古屋市東区葵3丁目23-3　第14オーシャンビル5階

プラズマエッチング装置 2024年12月のメーカーランキング

*一部商社などの取扱い企業なども含みます

2024年12月の注目ランキングベスト8

注目ランキング導出方法

順位	会社名	クリックシェア
1	株式会社サクラクレパス	20.0%
2	神港精機株式会社	18.5%
3	住友精密工業株式会社	16.9%
4	株式会社片桐エンジニアリング	12.3%
5	株式会社日立ハイテク	10.8%
6	オーキット材料システム株式会社	9.2%
7	NU-Rei株式会社	7.7%
8	サムコ株式会社	4.6%