高速なエッチングレートを実現 PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE エッチングシステム オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
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この製品について
■概要
PlasmaPro 100 Cobra ICP RIEシステムでは、高密度誘導結合プラズマを使用して、高速なエッチングレートを実現します。このプロセスモジュールは、GaAs や InPレーザーオプトエレクトロニクス、SiC や GaNのパワーエレクトロニクスや RFデバイス、MEMSやセンサーなど、多くの分野で使用されている、 200mmまでのウェハサイズに対応し、優れた均一性、高スループット、高精度、低ダメージのプロセスを提供しています。■機能
・チャンバー内の均一な高伝導経路で反応種を基板に供給：チャンバー圧力を低く保ちながら大流量のガスを使用することが可能で、高度なアプリケーション開発のための広いプロセスウィンドウを提供します。 ・液体循環式冷凍機で-20℃、液体窒素で-150℃まで冷却、または抵抗加熱で400℃ まで加熱可能な広温度範囲電極を採用：オプションのブローアウト・流体交換ユニットにより、モードの切り替えを自動化でき、-20℃から-150℃への移行は最短 10分で完了 ・再循環型チラーユニットで供給する流体制御電極：優れた基板温度制御を実現 ・65mmまたは300mmのICPプラズマ源：200mmウェハまで、優れたプロセス均一性を実現する300mmプラズマ源 ・He裏面冷却によるウェハクランプ：ウェハの最適な温度管理-
シリーズ
高速なエッチングレートを実現 PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE エッチングシステム
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高速なエッチングレートを実現 PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE エッチングシステム 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | ウェハサイズ | ICPプラズマ源 | 温度範囲 | クラスター化 |
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PlasmaPro 100 Cobra ICP |
要見積もり | 最大200mm | 65mmまたは300mm | -150~400℃ | ALD、PECVD、イオンビームエッチング、イオンビームデポジションなどの技術を含む最大5つのモジュール |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
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