プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社の対応状況
返答率
100.0%
平均返答時間
8.0時間
この製品について
■特徴
・高性能プロセス ・優れた基板温度制御 ・高精度のプロセス制御 ・実績のある、300 mmシングルウェハ故障解析プロセス オプション■PlasmaPro 800 PECVD
・高性能な均質絶縁体薄膜の製造するように設計されています。 ・選択可能または高低周波数混合プラズマ電源により、PECVDにおける応力制御が可能であり、デポジション膜を引張圧縮または低応力に対して調整することができます。■PlasmaPro 800 RIE
業界を通して広くご利用いただいており、実績を持つドライエッチング技術です。-
シリーズ
プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD
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プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) |
|---|---|---|
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PlasmaPro 800 PECVD |
要見積もり |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
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