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ALD装置のメーカー12社一覧や企業ランキングを掲載中!ALD装置関連企業の2025年5月注目ランキングは1位:株式会社昭和真空、2位:サムコ株式会社、3位:株式会社菅製作所となっています。 ALD装置の概要、用途、原理もチェック!
ALD (成膜) 装置とは、原子層堆積法 (英: Atomic Layer Deposition) によりナノスケールの薄膜を形成する装置です。
原子層を1層ごと成膜するため、精密な膜厚制御性と緻密な段差被膜性を有する点が特徴です。ただし、成膜速度が遅いというデメリットがあります。
ALD成膜では多数の有機金属材料を用いますが、人体への悪影響や発火性の高い材料が多いです。取り扱いには、専門の知識と細心の注意が必要となります。
2025年5月の注目ランキングベスト10
順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | 株式会社昭和真空 |
15.4%
|
2 | サムコ株式会社 |
13.6%
|
3 | 株式会社菅製作所 |
12.4%
|
4 | 株式会社オプトラン |
11.8%
|
5 | ワッティー株式会社 |
8.3%
|
6 | 株式会社エイコー |
6.5%
|
7 | 株式会社マツボー |
6.5%
|
8 | 株式会社テクノファイン |
6.5%
|
9 | JSWアフティ株式会社 |
6.5%
|
10 | 三弘エマテック株式会社 |
4.7%
|
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
400人以上が見ています
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
Atomfabにより、GaNパワー/RFデバイス向けの高速、低ダメージ、低所有コスト製造に対応したプラズマALDプロセスが実現します。Atomfabは...
三弘エマテック株式会社
330人以上が見ています
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
27.6時間 返答時間
■製品説明 高コストパフォーマンスのARコート専用のスタンダードマシンとなります。樹脂レンズへの成膜に最適です。RFイオンソース、光...
株式会社メディア研究所
150人以上が見ています
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
6.0時間 返答時間
■概要 数多くの真空スパッタリング装置が太陽電池製造産業で稼働しており、SINGULUSTECHNOLOGIES社は 水平基板輸送を備えたハイスループ...
株式会社エイチ・ティー・エル
10人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
テーブルトップのコンパクトサイズながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。直径200mm、高さ約25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ (...
ナノテック株式会社
760人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
16.8時間 返答時間
ダイヤモンドの性質に近い高硬度 (マイクロビッカース硬度2,000~4, 000) 、低摩擦係数 (μ=0.2以下) 、表面平滑性及び耐溶着性・離...
3種類の品番
神港精機株式会社
1820人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
Siウェハ・ガラス・セラミックス等基板・用途を問わず柔軟に対応可能な最新型スパッタリング装置です。 1991年に発表されたR&D用マルチ...
3種類の品番
株式会社DINOVAC
390人以上が見ています
最新の閲覧: 12時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
18.1時間 返答時間
■用途・特徴 ・立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ・対応可能膜種:DLC、アモルファスSiC等 ・基材加熱機構付き (最高設定温度...
北野精機株式会社
260人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
19.4時間 返答時間
■特徴 本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング超高真空薄膜作製装置です。均一な成膜が可能...
三弘エマテック株式会社
210人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
27.6時間 返答時間
ALD (Atomic Layer Deposition) とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを操り返すことにより薄膜を形成...
株式会社北海光電子
170人以上が見ています
■製品概要 真空チャンバー内容基板上に、次のサイクルを繰り返し行うことにより、原子層を一層ずつ積み上げます。 ・ヒートコントロー...
株式会社魁半導体
460人以上が見ています
100.0% 返答率
61.2時間 返答時間
業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。 ■製品概要 ・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属...
日本高周波株式会社
140人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
19.2時間 返答時間
高出力 (最大5kW) のマイクロ波電源および自動整合器 (4Eチューナ) により、安定な高密度プラズマを発生させ、高品質ダイヤモンドを高速...
ナノテック株式会社
690人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
16.8時間 返答時間
DLCを含む高機能性を持つカーボン膜による超鏡面性,導電性,耐熱性,撥水性,アルミニウム合金用,光学用,絶縁性,環境調和型を付与したコー...
3種類の品番
プレマテック株式会社
140人以上が見ています
PI配向膜、絶縁膜、接着剤などをフレキソ印刷技術を用いて塗布する高精度薄膜形成装置
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
450人以上が見ています
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
FlexAL ALD (原子層堆積) システムは、最適化された高品質のプラズマALDおよび熱ALDプロセスを幅広く提供し、一つのプロセスチャンバー...
株式会社メディア研究所
120人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
6.0時間 返答時間
■概要 SINGULUSTECHNOLOGIES社はGENERIS PECVDシステムにおいて最高の効率を備えた最先端の結晶シリコン太陽電池の大量生産 における特...
北野精機株式会社
230人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
19.4時間 返答時間
本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング装置です。弊社独自のロードロック室を設けた、超高...
神港精機株式会社
1070人以上が見ています
最新の閲覧: 52分前
省スペースを実現したロードロック式スパッタリング装置です。 カセット室に最大Φ270のトレーが、標準で12枚セット可能で、連続スパッタ...
3種類の品番
ナノテック株式会社
650人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
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16.8時間 返答時間
低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC) 膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の...
3種類の品番
神港精機株式会社
730人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
各種電子デバイスや高機能材料のR&Dから量産に最適なバッチタイプのスパッタリング装置のラインアップです。 小径カソードにより大面積...
3種類の品番
北野精機株式会社
210人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
19.4時間 返答時間
■特徴 本装置は電子ビーム (EB) を用いた高融点金属蒸着装置です。本装置には高い材料使用効率と高い膜特性を実現するために自転・公転...
ナノテック株式会社
690人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
16.8時間 返答時間
イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータ...
3種類の品番
北野精機株式会社
250人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
19.4時間 返答時間
■特徴 本装置はPVD手法からなるマグネトロンスパッタ源4個とEB蒸着源2個とMBE用K-CELL装備したハイブリッド型蒸着装置です。高融点材料...
神港精機株式会社
590人以上が見ています
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ガラス基板を対象とした通過成膜型インラインタイプのスパッタリング装置です。 矩形カソードを多元で装備しておりプロセスや生産数に...
神港精機株式会社
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樹脂のみならず金属箔の連続巻取り処理を実現したRtoRタイプ最新成膜装置です。 カソード・プラズマ処理電極・加熱機構など各機構をユ...
神港精機株式会社
650人以上が見ています
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スパッタ室にて 10⁻⁷Pa のバックグランドの排気性能を持つ超高真空対応の牧葉式スパッタリング装置です。 ロードロック室・カセット室...
神港精機株式会社
1870人以上が見ています
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実験や基礎研究に最適なコンパクトなハード構成です。ローコストで信頼性の高いハードを提供いたします。 ロードロックタイプ装置仕様 ...
6種類の品番
神港精機株式会社
760人以上が見ています
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個別半導体・化合物半導体の生産工程で豊富な実績を誇るベストセラータイプです。 豊富なオプションと高い信頼性が量産現場で実力発揮し...
4種類の品番
神港精機株式会社
570人以上が見ています
最新の閲覧: 11時間前
用途が拡大しているリフトオフプロセスに対応した専用蒸着装置です。 高い蒸発粒子の垂直性と基板水冷機構の採用によりレジストの保護と...
2種類の品番
神港精機株式会社
320人以上が見ています
最新の閲覧: 18時間前
真空チャンバーに導入したモノマーガスを高周波によりプラズマ化し、基板表面にポリマー膜を形成する装置です。 生体と接触する被膜の形...
検索結果 57件 (1ページ/2ページ)
ALD (成膜) 装置とは、原子層堆積法 (英: Atomic Layer Deposition) によりナノスケールの薄膜を形成する装置です。
原子層を1層ごと成膜するため、精密な膜厚制御性と緻密な段差被膜性を有する点が特徴です。ただし、成膜速度が遅いというデメリットがあります。
ALD成膜では多数の有機金属材料を用いますが、人体への悪影響や発火性の高い材料が多いです。取り扱いには、専門の知識と細心の注意が必要となります。
ALD装置は、半導体生産工程やFPD生産工程などで多く用いられます。近年ではDRAM生産で欠かせない技術です。以下はALD装置で製膜される薄膜の一例です。
FETなどのトランジスタを形成する際に必要となる高誘電率を備えた薄膜です。主にAl2O3やZrO2などの酸化膜が用いられます。
ALDにて形成される窒化膜をバリア膜と呼ぶことがあります。Cu配線材などの遷移金属の拡散防止のために用いられ、配線周辺の金属汚染や絶縁劣化を防ぎます。
樹脂基材や有機ELパネルへ水分などが透過するのを防ぐための薄膜です。異物の透過を防ぐことで、品質保持や長寿命化に寄与します。
上記のように産業に使用されることがほとんどですが、バイオメディカル業界へも応用されます。人工関節や人工骨などが代表例で、金属製人工骨へ生体適合膜を形成して拒絶反応を防止します。また、薬品へコーティングして薬効時間の調整にも用いられます。
ALD装置はステンレスやアルミなどの真空チャンバを備え、材料ガスの供給パートと材料ガスを排出する排気パートやプロセスを制御する制御ユニットで構成されます。
前駆体となる有機金属材料をプリカーサと呼びます。まずは真空チャンバー内にプリカーサを導入して基板の表面に吸着させます。その後チャンバー内を一度排気して余剰プリカーサを取り除いたのちに、酸化・窒化させて薄膜を形成します。
このサイクル1回で原子層が1層形成され、複数回繰り返すことで膜を堆積させることが可能です。サイクル回数によって膜厚が変化するため、膜厚制御性が高い事が特徴です。ALD成膜の工程でもパージ工程は大変重要であり、異なるプリカーサや酸化源がチャンバー内に残留すると膜質に悪い影響を与えます。
成膜効率を向上させるために、基板を加熱またはプラズマでアシストする場合があります。加熱する方法をサーマルALDと呼び、プラズマでアシストする方法をプラズマALDと呼びます。
CVDは「Chemical Vapor Deposition (化学的気相成長) 」、PVDは「Physical Vapor Deposition (物理的気相成長) 」の頭文字をとって名付けた成膜技術です。
ALDはガスを利用しているため、CVDの一種ともいわれています。しかしながら、ガスが分解することによって生成するSiO2、SiNxといった化合物が塵のように堆積していくCVDとは異なり、ALDは1レイヤーずつ成膜が可能な点が大きな違いです。
PVDは成膜に用いる手法がガスではなく、物理的な手法で成膜を行う技術です。PVDでは真空状態で成膜物質に対して加熱、スパッタリング、イオンビーム照射、レーザー照射を行うことで成膜物質を粒子状態に蒸発・飛散させ、対象物に付着・堆積をさせる方法です。
ALDを用いて成膜を行う場合は、CVDとPVDで成膜をする場合と比較して、幅が狭く深さがある構造物に対して成膜が可能です。特に、100nm以下のサイズ孔に対して成膜する際に、ALD技術が優れた被膜能力を発揮します。ALDのガスは深く入り込んで成膜できるため、小さい孔が多数存在する物体に対しても非常に被膜能力が高い技術です。
ALDの世界的なマーケットは、2028年までに65億ドルに達する見込みとされます。現在の薄膜成型市場は、CVDがマーケットシェアの大部分を占めています。その中でALD技術は半導体デバイスの製造プロセス中で非常に重要な役割を担うことに加え、蒸着性能や生産速度も比較的に高い技術です。そのため、ALD技術は今後も独自の重要性を築きつつ継続して伸長を続けていく市場と考えられます。
参考文献
https://aldjapan.com/%e5%8e%9f%e7%90%86/
http://ex-press.jp/lfwj/lfwj-news/lfwj-biz-market/21629/
https://www.oike-kogyo.co.jp/research/column/pvd/