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ALD装置のメーカー12社一覧や企業ランキングを掲載中!ALD装置関連企業の2025年3月注目ランキングは1位:株式会社昭和真空、2位:サムコ株式会社、3位:ワッティー株式会社となっています。 ALD装置の概要、用途、原理もチェック!
ALD (成膜) 装置とは、原子層堆積法 (英: Atomic Layer Deposition) によりナノスケールの薄膜を形成する装置です。
原子層を1層ごと成膜するため、精密な膜厚制御性と緻密な段差被膜性を有する点が特徴です。ただし、成膜速度が遅いというデメリットがあります。
ALD成膜では多数の有機金属材料を用いますが、人体への悪影響や発火性の高い材料が多いです。取り扱いには、専門の知識と細心の注意が必要となります。
*一部商社などの取扱い企業なども含みます。
順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | 株式会社昭和真空 |
21.0%
|
2 | サムコ株式会社 |
16.2%
|
3 | ワッティー株式会社 |
8.6%
|
4 | 株式会社エイコー |
7.6%
|
5 | 株式会社テクノファイン |
7.6%
|
6 | 株式会社エイチ・ティー・エル |
7.6%
|
7 | JSWアフティ株式会社 |
6.7%
|
8 | 株式会社菅製作所 |
6.7%
|
9 | 株式会社オプトラン |
5.7%
|
10 | 三弘エマテック株式会社 |
4.8%
|
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
380人以上が見ています
最新の閲覧: 21時間前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
26.1時間 返答時間
Atomfabにより、GaNパワー/RFデバイス向けの高速、低ダメージ、低所有コスト製造に対応したプラズマALDプロセスが実現します。Atomfabは...
三弘エマテック株式会社
170人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
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100.0% 返答率
30.2時間 返答時間
ALD (Atomic Layer Deposition) とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを操り返すことにより薄膜を形成...
ナノテック株式会社
580人以上が見ています
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15.3時間 返答時間
DLCを含む高機能性を持つカーボン膜による超鏡面性,導電性,耐熱性,撥水性,アルミニウム合金用,光学用,絶縁性,環境調和型を付与したコー...
3種類の品番
神港精機株式会社
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Siウェハ・ガラス・セラミックス等基板・用途を問わず柔軟に対応可能な最新型スパッタリング装置です。 1991年に発表されたR&D用マルチ...
3種類の品番
北野精機株式会社
190人以上が見ています
最新の閲覧: 20時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
19.4時間 返答時間
本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング装置です。弊社独自のロードロック室を設けた、超高...
三弘エマテック株式会社
290人以上が見ています
最新の閲覧: 18時間前
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100.0% 返答率
30.2時間 返答時間
■製品説明 高コストパフォーマンスのARコート専用のスタンダードマシンとなります。樹脂レンズへの成膜に最適です。RFイオンソース、光...
株式会社DINOVAC
340人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
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18.1時間 返答時間
■用途・特徴 ・立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ・対応可能膜種:DLC、アモルファスSiC等 ・基材加熱機構付き (最高設定温度...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
410人以上が見ています
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5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
26.1時間 返答時間
FlexAL ALD (原子層堆積) システムは、最適化された高品質のプラズマALDおよび熱ALDプロセスを幅広く提供し、一つのプロセスチャンバー...
北野精機株式会社
190人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
19.4時間 返答時間
■特徴 本装置はPVD手法からなるマグネトロンスパッタ源4個とEB蒸着源2個とMBE用K-CELL装備したハイブリッド型蒸着装置です。高融点材料...
ナノテック株式会社
660人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
15.3時間 返答時間
ダイヤモンドの性質に近い高硬度 (マイクロビッカース硬度2,000~4, 000) 、低摩擦係数 (μ=0.2以下) 、表面平滑性及び耐溶着性・離...
3種類の品番
株式会社北海光電子
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■製品概要 真空チャンバー内容基板上に、次のサイクルを繰り返し行うことにより、原子層を一層ずつ積み上げます。 ・ヒートコントロー...
北野精機株式会社
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100.0% 返答率
19.4時間 返答時間
■特徴 本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング超高真空薄膜作製装置です。均一な成膜が可能...
ナノテック株式会社
570人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
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100.0% 返答率
15.3時間 返答時間
低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC) 膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の...
3種類の品番
北野精機株式会社
170人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
19.4時間 返答時間
■特徴 本装置は電子ビーム (EB) を用いた高融点金属蒸着装置です。本装置には高い材料使用効率と高い膜特性を実現するために自転・公転...
株式会社魁半導体
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100.0% 返答率
61.2時間 返答時間
業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。 ■製品概要 ・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属...
神港精機株式会社
280人以上が見ています
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真空チャンバーに導入したモノマーガスを高周波によりプラズマ化し、基板表面にポリマー膜を形成する装置です。 生体と接触する被膜の形...
ナノテック株式会社
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15.3時間 返答時間
イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータ...
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プレマテック株式会社
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PI配向膜、絶縁膜、接着剤などをフレキソ印刷技術を用いて塗布する高精度薄膜形成装置
神港精機株式会社
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真空チャンバーに導入したモノマーガスを高周波によりプラズマ化し、基板表面にポリマー膜を形成する装置です。 生体と接触する被膜の形...
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省スペースを実現したロードロック式スパッタリング装置です。 カセット室に最大Φ270のトレーが、標準で12枚セット可能で、連続スパッタ...
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各種電子デバイスや高機能材料のR&Dから量産に最適なバッチタイプのスパッタリング装置のラインアップです。 小径カソードにより大面積...
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スパッタ室にて 10⁻⁷Pa のバックグランドの排気性能を持つ超高真空対応の牧葉式スパッタリング装置です。 ロードロック室・カセット室...
神港精機株式会社
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ガラス基板を対象とした通過成膜型インラインタイプのスパッタリング装置です。 矩形カソードを多元で装備しておりプロセスや生産数に...
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実験や基礎研究に最適なコンパクトなハード構成です。ローコストで信頼性の高いハードを提供いたします。 ロードロックタイプ装置仕様 ...
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樹脂のみならず金属箔の連続巻取り処理を実現したRtoRタイプ最新成膜装置です。 カソード・プラズマ処理電極・加熱機構など各機構をユ...
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用途が拡大しているリフトオフプロセスに対応した専用蒸着装置です。 高い蒸発粒子の垂直性と基板水冷機構の採用によりレジストの保護と...
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神港精機株式会社
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個別半導体・化合物半導体の生産工程で豊富な実績を誇るベストセラータイプです。 豊富なオプションと高い信頼性が量産現場で実力発揮し...
4種類の品番
神港精機株式会社
380人以上が見ています
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600mm 基板に対応した大型プラズマCVD装置です。 緻密なシリコン酸化膜の形成が可能で薄膜キャパシタの作製に適しています。
株式会社メディア研究所
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■概要 数多くの真空スパッタリング装置が太陽電池製造産業で稼働しており、SINGULUSTECHNOLOGIES社は 水平基板輸送を備えたハイスループ...
株式会社エイチ・ティー・エル
テーブルトップのコンパクトサイズながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。直径200mm、高さ約25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ (...
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