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【2021年版】イオン注入装置 メーカー5社一覧

イオン注入装置のメーカー5社を一覧でご紹介します。まずは使用用途や原理についてご説明します。


目次


イオン注入装置とは

イオン注入装置は、イオン化した物質を別の物質に注入することで、注入された物質の特性を変化させるための装置になります。主に、半導体製造工程における、不純物を注入する工程において使用されます。装置は、イオンを取り出す部分から、イオンを加速させ、イオンビームとして、目的のシリコンウェーハに照射するため、非常に大型の装置になります。
イオン注入装置が使用される製造する半導体の種類によって、様々なイオンが注入されます。

イオン注入装置の使用用途

イオン注入装置は半導体製造過程における不純物の注入工程で使用されます。不純物の注入工程は、エッチングなどを行い、回路を描写した後の工程で、その回路の部分にソースとドレインなどの領域を付け加える際に、その部分にイオンを注入することで、ソースとドレインなどを作成します。装置によって、対応しているイオンビームのエネルギーが異なっていることが多く、使用するイオン注入の条件に応じて、適切な選定が必要になります。動作時は非常に高温になるほか、非常にクリーンな環境が求められます。

イオン注入装置の原理

イオン注入装置の動作原理を説明します。イオン注入装置は、イオン源、分析部、スリット、イオン加速部、偏光板、レンズ、シリコンウェーハステージで構成されています。

動作時は、イオン源にイオンを発生させるための元素である、リンやボロン、ヒ素などを投入しイオン化します。イオン源からイオンを取り出し、分析部やスリットで、ローレンツ力などを用いてイオンを質量や電荷などで種類分けし、イオン注入に最適なイオンのみを選別します。その後、イオン加速部において、電気的な力をイオンに加えることによって、イオン注入時における目標のイオンのエネルギーになるまで加速させます。その目標となるエネルギーまで加速させたイオンを偏光板によって方向を整えられ、レンズでビーム上に加工されます。そのビームがシリコンウェーハ上の目的となる位置に照射されます。シリコンウェーハは、ステージによってビームを照射する位置まで精密に移動されます。

参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj1989/52/12/52_12_805/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/shikizai1937/62/2/62_77/_pdf/-char/ja
https://iontc.co.jp/ion_injection/

イオン注入装置のメーカー情報

イオン注入装置のメーカーランキング

社員数の規模

  1. 1 日新電機株式会社
  2. 2 株式会社アルバック
  3. 3 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

設立年の新しい会社

  1. 1 株式会社イオンテクノセンター
  2. 2 日新イオン機器株式会社
  3. 3 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

歴史のある会社

  1. 1 日新電機株式会社
  2. 2 株式会社アルバック
  3. 3 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

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