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バッチ式真空蒸着装置 SDC-1300F-SDC-1300F
バッチ式真空蒸着装置 SDC-1300F-株式会社昭和真空

バッチ式真空蒸着装置 SDC-1300F
株式会社昭和真空



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この製品について

■加飾膜などに適したスタンダードモデル

各種金属膜の成膜が可能です。基板台車を2台付属しており、成膜中に基板交換、蒸着材料交換が可能です。2対の蒸発源を採用し、異なる2種類の金属材料の成膜が可能です。自公転機構とイオンプレーティング機構 (オプション) により複雑な形状の基板への付き回りの良い成膜が可能です。

■用途・応用例

各種加飾膜、不連続膜、電磁波防止膜 特長

■内部治具系

・自公転治具数:6軸or8軸 ・冶具スペース:6軸φ380mm×H1,200mm 8軸φ300mm×H1,200mm

■蒸発源系

・抵抗加熱機構:2点切替式 ・イオンプレーティング機構によるカバレッジ性向上 (オプション)

  • シリーズ

    バッチ式真空蒸着装置 SDC-1300F

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バッチ式真空蒸着装置 SDC-1300F 品番1件

次の条件に該当する商品を1件表示しています

商品画像 品番 価格 (税抜) 排気ポンプ 設置寸法 重量 電源容量
バッチ式真空蒸着装置 SDC-1300F-品番-SDC-1300F

SDC-1300F

要見積もり

DP+RP+MBP+マイスナートラップ

W3,500mm×D5,200mm×H2,700mm

7,300kg

AC200V (3φ/1φ) /90kVA (300A)

フィルターに該当する他製品

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成膜環境: 真空蒸着型

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蒸着装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜

蒸着方式

抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型

成膜環境

真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型

蒸着材料供給方式

単発源型 多元源型

特徴機能

自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1,000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社昭和真空は、1958年に設立された、真空関連装置メーカーです。 2000年にはJASDAQ上場(現在は東証スタンダード市場)を果たします。 真空技術を中心とした、装置製造を軸としており、全て受注生産であることが...

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  • 本社所在地: 神奈川県
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