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幅広い成膜ニーズに対応 汎用蒸着装置 MIC-MIC-900
幅広い成膜ニーズに対応 汎用蒸着装置 MIC-株式会社シンクロン

幅広い成膜ニーズに対応 汎用蒸着装置 MIC
株式会社シンクロン



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この製品について

■概要

光学薄膜から金属膜まで、成膜に関する幅広い要求に対応できる、汎用性の高い蒸着装置です。高水準の性能や量産性はそのままに、新機種ではコストパフォーマンスのさらなる向上を実現しています。球状ドーム、分割ドーム、反転パレット仕様等、様々な基板用途に対応する豊富なオプションをご用意しており、お客様の生産目的に合わせてお選びいただけます。

■特徴

・大口径高出力イオン源を採用し、アシスト成膜が可能 ・正確な制御を実現する光学薄膜厚計、多点モニタ交換機構を採用 ・ターボ分子ポンプにより、オイルフリーでクリーンな環境下で成膜可能 ・排気、プロセス中に発生するパーティクル対策が施されています ・稼働管理システムを搭載、リアルタイムでの状況把握やロスの解析等にご利用頂けます ・in-situモニタを採用、歩留まり向上や調整期間の短縮が可能

■主な用途

・光学 ・色の制御 ・光学薄膜の形成 ・金属膜の形成 ・その他、幅広い用途に対応

  • シリーズ

    幅広い成膜ニーズに対応 汎用蒸着装置 MIC

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幅広い成膜ニーズに対応 汎用蒸着装置 MIC 品番1件

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商品画像 品番 価格 (税抜) 基板ドーム 膜厚計 蒸発源 アシスト 排気システム オプション
幅広い成膜ニーズに対応 汎用蒸着装置 MIC-品番-MIC-900

MIC-900

要見積もり

Φ800mm

光学式膜厚計・水晶式膜厚計 (6点ロータリーセンサ)

EB×2

RFイオン源

あらびきユニット・ターボ分子ポンプ・マイスナートラップ

反転機構/遊星回転機構/自公転機構/分光特性調整支援システム OASYS

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成膜環境: 真空蒸着型

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使用用途

#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜

蒸着方式

抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型

成膜環境

真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型

蒸着材料供給方式

単発源型 多元源型

特徴機能

自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1,000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社シンクロンは、1960年に設立された、真空薄膜形成装置等の開発・設計・製造を行う企業です。 1951年に有限会社真空器械研究所として創業して以来、真空を用いた薄膜形成技術による製品の開発・製造を進めています。主...

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  • 本社所在地: 神奈川県

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