メーカー 29社
製品 30点

メーカー 29社製品 30点

CVD装置
メーカー29社・30製品一覧【2024年】

CVD装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、CVD装置のメーカー29社一覧や企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。CVD装置関連企業の2024年10月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:大陽日酸株式会社、3位:株式会社サンバックとなっています。

CVD装置とは？
CVD装置のメーカー29社一覧
CVD装置の製品30点一覧

CVD装置の関連カテゴリ

半導体製造装置プラズマCVD装置コーティング装置

監修者: 前田理也

早稲田大学大学院でMBE法による窒化物半導体成長に関する研究に従事。2016年に大学院を修了後、非鉄金属系メーカーへ入社。金属製錬工場における設備保全・エンジニアリングの業務に従事。2022年に化学系メーカーへ転職。同様の業務に従事。

....

CVD装置とは

CVD (英: Chemical Vapor Deposition) 装置とは、薄膜の成長や表面処理に使用される装置です。

CVDは、化学反応を利用して気相中の化学物質を固体表面に沈着させるプロセスです。CVD装置は、基板や基材を加熱し、その表面に気相中の反応性ガスまたは蒸気を供給します。基板上の反応物質は化学反応を起こし、膜や被覆物を形成します。

このプロセスによって、さまざまな種類の薄膜や被覆物を作ることが可能です。CVDは高い制御性と再現性を持つため、高品質な薄膜を成長させることができます。膜の厚さや均一性、結晶性など、制御が必要な特性を制御することが可能です。ただし、使用するガスは有毒性が高いものが多く、取り扱いには注意が必要になります。

CVD装置の使用用途

CVD装置は半導体製品などに使用されることが多い装置です。以下はCVD装置の使用用途一例です。

1. 半導体製造

CVDは半導体産業において非常に重要な技術となります。例えば、CVDを使用してシリコン基板上にSiO2膜を成長させます。これは絶縁体として使用され、集積回路の絶縁層やゲート酸化物として重要です。

また、CVDを使用して、銅やアルミニウムなどの金属膜を成長させる場合があります。これにより、配線や電極などの導電性層を形成することが可能です。

2. 光学コーティング

CVDは、光学デバイスや光学部品の製造において重要な役割を果たします。まず、多層膜光学フィルターを成長させることが可能です。これにより、特定の波長範囲の光の透過性や反射性を制御し、スペクトルフィルターや反射防止コーティングとして使用されます。

また、CVDを使用して高反射性のミラーコーティングを成長させ、レーザー光や光学系の反射率を向上させることが可能です。レンズにおいては表面に保護コーティングを形成し、耐摩耗性や耐久性を向上させます。

3. 保護被覆

金属の表面に保護コーティングを形成し、耐蝕性や耐摩耗性を向上させることが可能です。金属部品や工具の表面処理に使用されます。また、セラミックスの切削工具やセンサーに使用し、材料の表面に保護コーティングを形成することが可能です。

CVD装置の原理

CVD装置は、化学反応を利用して気相中の化学物質を固体表面に沈着させるプロセスです。まず、反応ガスまたは蒸気が装置内に供給されます。これらのガスは、成膜や被覆に必要な元素や化学物質を含んでいることばほとんどです。一般的な反応ガスには、金属有機化合物や酸素・窒素などがあります。

反応ガスと基板の間で化学反応を促進するために、基材を加熱させることが多いです。加熱された基板上で、反応ガスは化学反応を起こします。これにより、反応ガス中の元素や化学物質が基板表面に沈着し、薄膜を成長可能です。

CVD装置では成膜プロセスの制御が重要です。成膜速度や加熱温度などのパラメータ調整によって、所望の薄膜特性を得ることができます。

CVD装置の種類

CVD装置には熱CVD装置、プラズマCVD装置、光CVD装置などの種類があります。

1. 熱CVD装置

熱CVD装置は、原料となるガスを容器内に輸送して、基板または容器内を高温にすることで原料のガスを基板上で化学反応させる装置です。基板のみを高温にする方法や容器内を高温にする方法があります。

2. プラズマCVD装置

プラズマCVD装置では、原料となるガスをプラズマ状態にして基板上に積層させる装置です。熱CVD装置よりも基板の温度を低温で膜を成形できるため、高精度の寸法が要求されるような半導体の製造に有利です。

3. 光CVD装置

光CVD装置は原料となるガスに対して、放電管やレーザーによって光を照射することで化学反応を起こす装置です。化学反応を促進させる作用や分子間の結合を切るような作用など、光の種類によって光の使われ方が異なります。他のCVD装置に比べて非常に低温で膜を生成することができることが特徴です。

参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/oubutsu1932/65/4/65_4_382/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/kakoronbunshu1975/26/6/26_6_798/_pdf

Metoreeでは各社カタログを無料で一括でダウンロードできるので、製品比較時に各社サイトで毎回情報を登録する手間を短縮することができます。

各社CVD装置のカタログを無料一括ダウンロードできます。

CVD装置メーカー 29社

*一部商社などの取扱い企業なども含みます。

DLCコーティングCVD装置注目製品
ジャパンクリエイト株式会社

・成膜源はRFプラズマCVD法とイオン化蒸着法から選択可能
・基板加熱源は水冷型と加熱型から選択可能
・ウエハ/ガラス/樹脂等、様々な基板材質に成膜可能
・マルチチャンバ仕様、各種オーダーメイドも承っています

- - ジャパンクリエイト株式会社
    CVD装置一覧
  - 会社サイト創業: 1963年従業員数: 40人資本金: 30,000,000円会社詳細
  - 住所: 埼玉県所沢市林1丁目203番地4
- オーダーメイドデモ可能アフターフォロー
  
  研究開発装置から量産装置まで、ニーズに合わせたCVD装置を製作しています
  その他真空成膜装置についても対応していますので、お気軽にお問い合わせください
  様々な母材への成膜処理/デモも承っております
- - 神港精機株式会社メーカー
    プラズマCVD装置
  - 会社サイト創業: 1949年従業員数: 194人資本金: 375,000,000円会社詳細
  - 住所: 兵庫県神戸市西区高塚台3丁目1番35号
- - 株式会社ヒートテックメーカー
    熱CVD装置
  - 会社サイト創業: 2010年会社詳細
  - 住所: 神奈川県横浜市青葉区寺家町353-1
- - 大陽日酸株式会社メーカー
    MOCVD装置
  - 会社サイト上場(東証プライム) 創業: 1910年従業員数: 1,467人会社詳細
  - 住所: 東京都品川区小山1-3-26
- - 佐藤真空株式会社メーカー
    小型CVD装置＜SFCV＞シリーズ
  - 会社サイト創業: 1932年従業員数: 10人資本金: 50,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都品川区大井5丁目1番27号
- - サムコ株式会社メーカー
    CVD装置一覧
  - 会社サイト上場(東証プライム) 創業: 1979年従業員数: 173人資本金: 1,663,687,000円会社詳細
  - 住所: 京都府京都市伏見区竹田藁屋町36番地
- - アリオス株式会社メーカー
    装置一覧
  - 会社サイト創業: 1972年資本金: 15,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都昭島市武蔵野3-2-20
- - 誠南工業株式会社
    CVD装置
  - 会社サイト創業: 1948年従業員数: 25人資本金: 24,000,000円会社詳細
  - 住所: 大阪府大阪市住之江区北加賀屋4丁目3番24号
- - 株式会社魁半導体
    直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD
  - 会社サイト創業: 2002年資本金: 10,000,000円会社詳細
  - 住所: 京都府京都市下京区西七条御前田町50番地 SAKIGAKEビル
- - 株式会社第一機電
    ロードロック式CVD装置
  - 会社サイト創業: 1991年従業員数: 50人会社詳細
  - 住所: 東京都調布市下石原1-54-1
- - 株式会社片桐エンジニアリング
    ナノカーボン堆積装置
  - 会社サイト創業: 1991年資本金: 10,000,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県横浜市鶴見区尻手3-5-34
- - 株式会社日本生産技術研究所
    Plasma CVD System一覧
  - 会社サイト創業: 1969年従業員数: 16人資本金: 80,000,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県厚木市船子172番地 2
- - 株式会社天谷製作所
    常圧CVD装置一覧
  - 会社サイト創業: 1975年従業員数: 73人会社詳細
  - 住所: 埼玉県越谷市西方3149-1
- - 株式会社マイクロフェーズ
    汎用CVD装置
  - 会社サイト創業: 1999年資本金: 10,000,000円会社詳細
  - 住所: 茨城県つくば市鬼ケ窪1147-9
- - 株式会社フェローテックマテリアルテクノロジーズ
    CVD装置
  - 会社サイト創業: 1989年従業員数: 350人資本金: 485,500,000円会社詳細
  - 住所: 東京都中央区日本橋2-3-4日本橋プラザビル
- - 株式会社サンバック
    CVD装置一覧
  - 会社サイト創業: 1995年会社詳細
  - 住所: 東京都江東区扇橋1-21-3
- - 株式会社エピクエスト
    CVD装置一覧
  - 会社サイト創業: 2000年資本金: 30,000,000円会社詳細
  - 住所: 京都府京都市南区上鳥羽中河原51
- - 有限会社ハイテクノサービス
    縦型減圧CVD装置 HG21
  - 会社サイト創業: 2004年会社詳細
  - 住所: 東京都東大和市清水6丁目1257-12
- - 大村技研株式会社
    縦型拡散/CVD装置
  - 会社サイト創業: 1963年従業員数: 135人資本金: 20,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都品川区大崎4-13-8
- - 大亜真空株式会社
    CVD装置
  - 会社サイト創業: 1939年従業員数: 69人会社詳細
  - 住所: 千葉県八千代市大和田新田495
- - 北野精機株式会社
    CVD装置
  - 会社サイト創業: 1958年資本金: 15,440,000円会社詳細
  - 住所: 東京都大田区中央7-17-3
- - テルモセラ・ジャパン株式会社
    CVD装置一覧
  - 会社サイト創業: 2010年会社詳細
  - 住所: 東京都中央区日本橋3丁目2番14号新槇町ビル別館第一 2階
- - エリコンジャパン株式会社バルザース事業本部
    CVD コーティング装置
  - 会社サイト会社詳細
  - 住所: 神奈川県平塚市四之宮7-2-2
- - WONIK IPS Co., Ltd.
    NOA CVD
  - 会社サイト会社詳細
  - 本社: 韓国
- - LAM RESEARCH CORPORATION
    CVD一覧
  - 会社サイト創業: 1980年会社詳細
  - 本社: アメリカ
- - Applied Materials, Inc.
    CVD一覧
  - 会社サイト会社詳細
  - 本社: アメリカ
- - 株式会社渡辺商行商社・代理店
    常圧CVD装置一覧
  - 会社サイト創業: 1930年従業員数: 63人資本金: 80,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都東京都中央区日本橋室町4-2-16 楠和日本橋ビル
- - 株式会社エイチ・ティー・エル商社・代理店
    レーザCVD欠陥修正装置
  - 会社サイト創業: 1994年従業員数: 94人会社詳細
  - 住所: 東京都立川市曙町2-16-6テクノビル3F
- - 入江株式会社商社・代理店
    小型CVD装置｜SFCV シリーズ
  - 会社サイト創業: 1919年従業員数: 82人資本金: 45,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都中央区日本橋本町4-5-14

CVD装置 2024年10月のメーカーランキング

*一部商社などの取扱い企業なども含みます

2024年10月の注目ランキングベスト10

注目ランキング導出方法

順位	会社名	クリックシェア
1	ジャパンクリエイト株式会社	11.7%
2	大陽日酸株式会社	7.8%
3	株式会社サンバック	4.7%
4	アリオス株式会社	4.7%
5	Applied Materials, Inc.	4.7%
6	神港精機株式会社	4.7%
7	株式会社日本生産技術研究所	3.9%
8	株式会社フェローテックマテリアルテクノロジーズ	3.9%
9	株式会社渡辺商行	3.9%
10	株式会社マイクロフェーズ	3.9%