全てのカテゴリ
閲覧履歴
CVD装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、CVD装置のメーカー29社一覧や企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。CVD装置関連企業の2025年1月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:サムコ株式会社、3位:大陽日酸株式会社となっています。
CVD装置の関連キーワード
早稲田大学大学院でMBE法による窒化物半導体成長に関する研究に従事。2016年に大学院を修了後、非鉄金属系メーカーへ入社。金属製錬工場における設備保全・エンジニアリングの業務に従事。2022年に化学系メーカーへ転職。同様の業務に従事。
CVD (英: Chemical Vapor Deposition) 装置とは、薄膜の成長や表面処理に使用される装置です。
CVDは、化学反応を利用して気相中の化学物質を固体表面に沈着させるプロセスです。CVD装置は、基板や基材を加熱し、その表面に気相中の反応性ガスまたは蒸気を供給します。基板上の反応物質は化学反応を起こし、膜や被覆物を形成します。
このプロセスによって、さまざまな種類の薄膜や被覆物を作ることが可能です。CVDは高い制御性と再現性を持つため、高品質な薄膜を成長させることができます。膜の厚さや均一性、結晶性など、制御が必要な特性を制御することが可能です。ただし、使用するガスは有毒性が高いものが多く、取り扱いには注意が必要になります。
CVD装置は半導体製品などに使用されることが多い装置です。以下はCVD装置の使用用途一例です。
CVDは半導体産業において非常に重要な技術となります。例えば、CVDを使用してシリコン基板上にSiO2膜を成長させます。これは絶縁体として使用され、集積回路の絶縁層やゲート酸化物として重要です。
また、CVDを使用して、銅やアルミニウムなどの金属膜を成長させる場合があります。これにより、配線や電極などの導電性層を形成することが可能です。
CVDは、光学デバイスや光学部品の製造において重要な役割を果たします。まず、多層膜光学フィルターを成長させることが可能です。これにより、特定の波長範囲の光の透過性や反射性を制御し、スペクトルフィルターや反射防止コーティングとして使用されます。
また、CVDを使用して高反射性のミラーコーティングを成長させ、レーザー光や光学系の反射率を向上させることが可能です。レンズにおいては表面に保護コーティングを形成し、耐摩耗性や耐久性を向上させます。
金属の表面に保護コーティングを形成し、耐蝕性や耐摩耗性を向上させることが可能です。金属部品や工具の表面処理に使用されます。また、セラミックスの切削工具やセンサーに使用し、材料の表面に保護コーティングを形成することが可能です。
CVD装置は、化学反応を利用して気相中の化学物質を固体表面に沈着させるプロセスです。まず、反応ガスまたは蒸気が装置内に供給されます。これらのガスは、成膜や被覆に必要な元素や化学物質を含んでいることばほとんどです。一般的な反応ガスには、金属有機化合物や酸素・窒素などがあります。
反応ガスと基板の間で化学反応を促進するために、基材を加熱させることが多いです。加熱された基板上で、反応ガスは化学反応を起こします。これにより、反応ガス中の元素や化学物質が基板表面に沈着し、薄膜を成長可能です。
CVD装置では成膜プロセスの制御が重要です。成膜速度や加熱温度などのパラメータ調整によって、所望の薄膜特性を得ることができます。
CVD装置には熱CVD装置、プラズマCVD装置、光CVD装置などの種類があります。
熱CVD装置は、原料となるガスを容器内に輸送して、基板または容器内を高温にすることで原料のガスを基板上で化学反応させる装置です。基板のみを高温にする方法や容器内を高温にする方法があります。
プラズマCVD装置では、原料となるガスをプラズマ状態にして基板上に積層させる装置です。熱CVD装置よりも基板の温度を低温で膜を成形できるため、高精度の寸法が要求されるような半導体の製造に有利です。
光CVD装置は原料となるガスに対して、放電管やレーザーによって光を照射することで化学反応を起こす装置です。化学反応を促進させる作用や分子間の結合を切るような作用など、光の種類によって光の使われ方が異なります。他のCVD装置に比べて非常に低温で膜を生成することができることが特徴です。
参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/oubutsu1932/65/4/65_4_382/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/kakoronbunshu1975/26/6/26_6_798/_pdf
*一部商社などの取扱い企業なども含みます。
2025年1月の注目ランキングベスト10
注目ランキング導出方法順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | ジャパンクリエイト株式会社 |
16.9%
|
2 | サムコ株式会社 |
9.0%
|
3 | 大陽日酸株式会社 |
7.9%
|
4 | 株式会社ヒートテック |
6.7%
|
5 | 神港精機株式会社 |
6.7%
|
6 | LAM RESEARCH CORPORATION |
5.6%
|
7 | 株式会社天谷製作所 |
4.5%
|
8 | 株式会社マイクロフェーズ |
4.5%
|
9 | 誠南工業株式会社 |
4.5%
|
10 | 株式会社フェローテックマテリアルテクノロジーズ |
3.4%
|
注目ランキング導出方法について
注目ランキングは、2025年1月のCVD装置ページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。社員数の規模
設立年の新しい会社
歴史のある会社
ジャパンクリエイト株式会社
560人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
185.3時間 返答時間
当社が得意といたします、プラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及しております「PETボトル」へのDLCコーティングに特化した成膜装...
株式会社マイクロフェーズ
120人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
126.2時間 返答時間
CNT合成,カーボン成膜,ナノセラミック成膜,窒化,カルコゲナイド成膜等に ■目的 CNTを合成したり、粉体試料にカーボンを成膜したり、各種CVD成膜するための汎...
ジャパンクリエイト株式会社
390人以上が見ています
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
185.3時間 返答時間
当社が得意といたします、プラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及しております「PETボトル」へのDLCコーティングに特化した成膜装...
株式会社マイクロフェーズ
110人以上が見ています
100.0% 返答率
126.2時間 返答時間
粉体表面へのカーボンコート/各種熱処理などに ■目的 Siや黒鉛負極粉末試料の表面にカーボン膜をCVDコートするための回転型管状炉CVD装置です。 ■特徴 ・...
アリオス株式会社
140人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
1.7時間 返答時間
■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しました。生産機ニーズに...
株式会社マイクロフェーズ
90人以上が見ています
100.0% 返答率
126.2時間 返答時間
連続処理による生産量の大幅向上 ■目的 当社が考案した量産用連続CVD処理方式です。十分長い反応管に処理する試料を縦列に並べて置き、加熱炉を左から右への...
アリオス株式会社
110人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
1.7時間 返答時間
■概要 本装置は、ダイヤモンド合成を本格的に行うためのホットフィラメント型CVD装置です。基本システムに加え各種オプションを選択することにより、幅広いニ...
ジャパンクリエイト株式会社
390人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
185.3時間 返答時間
■特徴 ・2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ・優れた膜厚分布および再現性を実現 ・特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ・ラジカ...
株式会社マイクロフェーズ
100人以上が見ています
100.0% 返答率
126.2時間 返答時間
ガスのイオン化や前駆体の分解を促進 ■概要 ・横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあるいは前駆体のイオン...
株式会社渡辺商行
110人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
46.1時間 返答時間
結晶Si太陽電池セル量産用 NSG (SiO2) /PSG/BSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD (APCVD) 装置 AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池 (セ...
株式会社エピクエスト
10人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料において30年以上の歴史があ...
株式会社マイクロフェーズ
110人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
126.2時間 返答時間
レーザー描画によるパターン成膜が可能 ■概要 ・市販のファイバーレーザー加工機の試料室に、反応性ガス (炭化水素ガスやアンモニアガスなど) の導入・排出...
株式会社エピクエスト
SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料において30年以上の歴史があ...
入江株式会社
90人以上が見ています
返信の比較的早い企業
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
14.5時間 返答時間
■概要 グラフェンなど炭化水素系化合物での各種材料開発に適した、管状炉式の高温熱CVD装置です。 ■特徴 大学・研究機関でグラフェンなど炭化水素系化合物で...
株式会社エピクエスト
SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料において30年以上の歴史があ...
株式会社エピクエスト
SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料において30年以上の歴史があ...
株式会社エピクエスト
SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料において30年以上の歴史があ...
株式会社MPS
190人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
86.1時間 返答時間
■概要 窒化物を作るための実験装置です。原料は塩化物とアンモニアを使用します。成膜はハロゲンランプ加熱による熱CVDと誘導結合プラズマによるプラズマCVD...
株式会社MPS
180人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
100.0% 返答率
86.1時間 返答時間
■概要 実験用の熱フィラメントCVD装置です。貴社のご要望に応じて装置を設計します。
株式会社MPS
200人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
100.0% 返答率
86.1時間 返答時間
■概要 簡便にダイヤモンドの成膜ができるよう小型の熱フィラメントCVD装置を開発しました。チャンバーはアルミ合金製で作っており、強制空冷しております。従...
株式会社MPS
160人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
86.1時間 返答時間
■概要 モード変換型のマイクロ波CVD装置です。大学での実験装置としてご使用いただいております。
株式会社MPS
170人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
86.1時間 返答時間
■概要 直流の高電圧パルス放電を利用したダイヤモンドライクカーボン用プラズマCVD装置です。原料ガスはメタンまたはアセチレンを選択できます。
株式会社MPS
230人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
100.0% 返答率
86.1時間 返答時間
■概要 RF (13.56MHz) を使用したプラズマCVD装置です。絶縁物でもDLCの成膜が可能です。
株式会社エピクエスト
SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料において30年以上の歴史があ...
株式会社エピクエスト
SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計された内部石英フローチャ...
株式会社エピクエスト
SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計された内部石英フローチャ...
株式会社エピクエスト
10人以上が見ています
SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計された内部石英フローチャ...
株式会社エピクエスト
10人以上が見ています
SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計された内部石英フローチャ...
検索結果 57件 (1ページ/全2ページ)
カタログを企業ごとに探す
カタログを種類ごとに探す
プラズマCVD装置・研究開発/量産・太陽電池・立体物・金属容器・医療容器・ガラス基板MOCVD装置ALD装置
2023年7月13日
ふわっと塗布して塗着効率アップ!『超音波スプレーノズル』ピエゾの振動で塗布液を霧化!無加圧で飛散・跳ね返りも少ない!幅広い流量に対応ソニア社製『超...
2023年6月22日
CVD装置『nanoCVD-8G/8N』グラフェン/CNT合成装置 ◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWNT)合成実験が可能 ◉ 1バッチわずか30分...
2023年1月7日
CVD装置『Nanofurnace 熱CVD装置』【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnO...
2023年1月7日
欧州アカデミックパートナーとの共同開発。ウエハースケール・グラフェン合成装置。 Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清...
2023年9月15日
高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD(APCVD)装置(12インチウェハ対応)【特徴】 ・...
2022年2月8日