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CVD装置 メーカー28社

CVD装置のメーカー28社一覧企業ランキングを掲載中!CVD装置関連企業の2025年6月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:株式会社天谷製作所、3位:株式会社フェローテックマテリアルテクノロジーズとなっています。 CVD装置の概要、用途、原理もチェック!

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28CVD装置メーカー

CVD装置 2025年6月のメーカーランキング


64 点の製品中 2ページ目

64 点の製品中 2ページ目

株式会社渡辺商行

半導体製造装置 高生産性連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (AMAX800V)

300人以上が見ています

最新の閲覧: 21時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

32.7時間 返答時間

量産向け NSG (SiO2) /PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (8インチウェハまで対応) 「AMAX」シリーズは、層間絶...


株式会社マイクロフェーズ

CVD装置 レーザーアシストCVD装置 MPCVD-Laser

210人以上が見ています

100.0% 返答率

87.8時間 返答時間

レーザー描画によるパターン成膜が可能 ■概要 ・市販のファイバーレーザー加工機の試料室に、反応性ガス (炭化水素ガスやアンモニアガ...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 縦型リアクタ SVS3001

80人以上が見ています

最新の閲覧: 11時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間

SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...


テルモセラ・ジャパン株式会社

nanoCVD グラフェン/CNT 合成装置

110人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

29.2時間 返答時間

■特徴 ・わずか『30分』でグラフェン/CNTを生成 ・コールドウオール式高速・高精度プロセスコントロール ・今日右側加熱ステージ:RT→Ma...


株式会社MPS

RFプラズマCVD装置

360人以上が見ています

最新の閲覧: 9時間前

100.0% 返答率

57.6時間 返答時間

■概要 RF (13.56MHz) を使用したプラズマCVD装置です。絶縁物でもDLCの成膜が可能です。


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 縦型リアクタ SVS4001

70人以上が見ています

最新の閲覧: 18時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間

SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 縦型リアクタ SVS2003

80人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間

SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...


株式会社エイチ・ティー・エル

半導体フォトマスク用レーザCVD欠陥修正装置 Pictor2323

30人以上が見ています

最新の閲覧: 16時間前

半導体用フォトマスクの白黒欠陥を高精度で修正する装置です。 ■特長 ・高精度で多彩な白黒欠陥修正が可能。 ・独自開発の光学系を使用...


株式会社渡辺商行

半導体製造装置 高生産性連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (AMAX1200)

320人以上が見ています

最新の閲覧: 23時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

32.7時間 返答時間

量産向け NSG (SiO2) /PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (12インチウェハ対応) 「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 横型リアクタ SH2001

70人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間

SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計され...


アリオス株式会社

プラズマCVD実験装置 PCVD-R100

290人以上が見ています

最新の閲覧: 6時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 横型リアクタ SH3001

70人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間

SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計され...


テルモセラ・ジャパン株式会社

Nanofurnace 卓上型 熱CVD 装置 Model. BWS-NANO

100人以上が見ています

最新の閲覧: 13時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

29.2時間 返答時間

■用途 ・グラフェン合成 ・カーボンナノチューブ ・ZnO ナノワイヤー ・ナノダイヤモンド ・絶縁膜・保護膜 (Sic, TiN 他) ・その他熱 ...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 横型リアクタ SH4001

90人以上が見ています

最新の閲覧: 16時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間

SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計され...


株式会社渡辺商行

半導体製造装置 小規模生産・開発用常圧CVD (APCVD) 装置 (D501)

330人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

32.7時間 返答時間

試作・開発・小ロット生産向け NSG (SiO2) /BSG/PSG/BPSG膜成膜用 バッチ式 (複数枚同時処理) APCVD装置 D501は、少量生産/テストや不...


株式会社エイチ・ティー・エル

半導体フォトマスク用 レーザCVD欠陥修正装置 CRS400S/S+

30人以上が見ています

半導体、電子部品用フォトマスクの白黒欠陥を高精度で修正を行う装置です。 ■特長 ・V-Technology/HTL 共同開発の半導体Middle/Low、電...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 横型リアクタ SH2003

80人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間

SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計され...


テルモセラ・ジャパン株式会社

ウエハースケールグラフェン合成装置 nanoCVD-WGP

80人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

29.2時間 返答時間

■概要 欧州のアカデミックパートナー (Manchester, Warwick,etc..) の協力の下、実績ある卓上型 nanoCVD-8G (試 料サイズ 20mm) に加え...


株式会社エピクエスト

液体原料供給MOCVD装置 小型研究用 MPC1100V

80人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間


株式会社エピクエスト

液体原料供給MOCVD装置 研究用 MPC2100H

80人以上が見ています

最新の閲覧: 12時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間


株式会社エピクエスト

液体原料供給MOCVD装置 研究用・準生産用 MPC6100

80人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間


株式会社エピクエスト

高温CVD装置 SiC用CVD装置 HTC3001

70人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間


株式会社エピクエスト

高温CVD装置 オール・イン・ワンCVD装置

70人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間

本装置は、プロセスユニット部、ガス制御部、シリンダーキャビネット部、電気制御部を1.3m×1.3mのフットプリントに設置した、オール・イ...


株式会社渡辺商行

半導体製造装置 低温成膜 フレキシブル基板対応 ガラス基板成膜装置

230人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

32.7時間 返答時間

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 ■基本情報 成膜有効幅760mmのガスヘッド2基を搭載し...


株式会社エピクエスト

高温CVD装置 高温CVD装置 SH2001-HTA

50人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間


株式会社マイクロフェーズ

横型CNT グラフェン合成装置 MPCVD-Graphene

240人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

100.0% 返答率

87.8時間 返答時間

炭化水素ガス (CH4やC2H2) を用いたCVD法で触媒基板 (Ni、Cuなど) にグラフェン膜を成長するには、 基板の急冷が重要要素の一つと言われ...


株式会社マイクロフェーズ

卓上CNT合成装置 MPCNT-Basic

150人以上が見ています

最新の閲覧: 20時間前

100.0% 返答率

87.8時間 返答時間

エタノールはカーボンナノチューブの生成にとって非常に都合のいい原料の一つです。 SWCNTや結晶性の高いCNTが生成されやすい特徴があり...


株式会社マイクロフェーズ

卓上CNT グラフェン合成装置 MPCNT-Premium

190人以上が見ています

100.0% 返答率

87.8時間 返答時間

MPCNT-Basicバージョンを拡張し、フィラメント加熱機構やマルチガス導入機構など、 優れた機能を追加した小型CNT合成装置です。 エタノ...


株式会社マイクロフェーズ

卓上ナノ粒子気相生成装置 MPNP

150人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

87.8時間 返答時間

各種金属 (Au, Ag, Cu, Al, Ni, Co) の原料を不活性ガス中で蒸発させると、 金属蒸気が周囲の不活性ガス分子との衝突を繰り返すことによ...


株式会社マイクロフェーズ

酸化亜鉛ナノロッド生成装置 MPCVD-ZnO

150人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

100.0% 返答率

87.8時間 返答時間

酸素ガスを供給しながらZn原料を加熱して蒸発させると、Zn蒸気と酸素ガスと反応し、ZnOが生成されます。 六方晶のZnOは、そのC軸の成長...


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