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CVD装置 メーカー28社

CVD装置のメーカー28社一覧企業ランキングを掲載中!CVD装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:サムコ株式会社、3位:大陽日酸株式会社となっています。 CVD装置の概要、用途、原理もチェック!

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28CVD装置メーカー

CVD装置 2025年8月のメーカーランキング


業界別

🍎 食品 💊 製薬・医薬品 🧪 化学 💻 電子・電気機器 ⚙️ プラスチック・ゴム製造

項目別

使用用途

#半導体製造

#太陽電池製造

#MEMS製造

#ナノ材料生成

#ダイヤモンド生成

#絶縁膜形成

#保護膜形成

#透明導電膜形成

#カーボンナノチューブ

#高硬度薄膜

#センサー

#電子デバイス

成膜方式

熱CVD

APCVD

PECVD

MOCVD

HWCVD

反応器構造

縦型バッチ

横型バッチ

シングルウェハ

シャワーヘッド型

回転円盤型

加熱方式

ホットウォール

コールドウォール

ランプ加熱

誘導加熱

マイクロ波加熱

抵抗加熱

原料供給方式

直接ガス供給

液体気化供給

固体昇華供給

バブリング供給

成膜温度 ℃

100 - 300

300 - 500

500 - 1,200

76 点の製品中 2ページ目

76 点の製品中 2ページ目

株式会社エイチ・ティー・エル

FPDフォトマスク用レーザCVD欠陥修正装置 Sculptor

50人以上が見ています

■特長 ・高精度で白黒欠陥やハーフトーン欠陥等の多彩な修正が可能 ・独自開発の光学系を使用。アパーチャビームによる高速大面積の欠陥...


株式会社マイクロフェーズ

CVD装置 RFプラズマアシストCVD装置 MPCVD-Plasma

270人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

61.4時間 返答時間

ガスのイオン化や前駆体の分解を促進 ■概要 ・横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあ...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 縦型リアクタ SVS2001

110人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...


株式会社MPS

高圧パルスプラズマCVD装置

380人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

48.0時間 返答時間

■概要 直流の高電圧パルス放電を利用したダイヤモンドライクカーボン用プラズマCVD装置です。原料ガスはメタンまたはアセチレンを選択で...


株式会社渡辺商行

半導体製造装置 高生産性連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (AMAX800V)

390人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の比較的早い企業

4.0 会社レビュー

100.0% 返答率

29.1時間 返答時間

量産向け NSG (SiO2) /PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (8インチウェハまで対応) 「AMAX」シリーズは、層間絶...


株式会社マイクロフェーズ

CVD装置 レーザーアシストCVD装置 MPCVD-Laser

280人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

61.4時間 返答時間

レーザー描画によるパターン成膜が可能 ■概要 ・市販のファイバーレーザー加工機の試料室に、反応性ガス (炭化水素ガスやアンモニアガ...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 縦型リアクタ SVS3001

120人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...


テルモセラ・ジャパン株式会社

nanoCVD グラフェン/CNT 合成装置

140人以上が見ています

最新の閲覧: 17時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

22.3時間 返答時間

■特徴 ・わずか『30分』でグラフェン/CNTを生成 ・コールドウオール式高速・高精度プロセスコントロール ・今日右側加熱ステージ:RT→Ma...


株式会社MPS

RFプラズマCVD装置

400人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

100.0% 返答率

48.0時間 返答時間

■概要 RF (13.56MHz) を使用したプラズマCVD装置です。絶縁物でもDLCの成膜が可能です。


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 縦型リアクタ SVS4001

110人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 縦型リアクタ SVS2003

130人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...


株式会社エイチ・ティー・エル

半導体フォトマスク用レーザCVD欠陥修正装置 Pictor2323

60人以上が見ています

半導体用フォトマスクの白黒欠陥を高精度で修正する装置です。 ■特長 ・高精度で多彩な白黒欠陥修正が可能。 ・独自開発の光学系を使用...


株式会社渡辺商行

半導体製造装置 高生産性連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (AMAX1200)

460人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

返信の比較的早い企業

4.0 会社レビュー

100.0% 返答率

29.1時間 返答時間

量産向け NSG (SiO2) /PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (12インチウェハ対応) 「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 横型リアクタ SH2001

90人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計され...


アリオス株式会社

プラズマCVD実験装置 PCVD-R100

390人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.2時間 返答時間

■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 横型リアクタ SH3001

110人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計され...


テルモセラ・ジャパン株式会社

Nanofurnace 卓上型 熱CVD 装置 Model. BWS-NANO

120人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

22.3時間 返答時間

■用途 ・グラフェン合成 ・カーボンナノチューブ ・ZnO ナノワイヤー ・ナノダイヤモンド ・絶縁膜・保護膜 (Sic, TiN 他) ・その他熱 ...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 横型リアクタ SH4001

160人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計され...


株式会社渡辺商行

半導体製造装置 小規模生産・開発用常圧CVD (APCVD) 装置 (D501)

410人以上が見ています

最新の閲覧: 6時間前

返信の比較的早い企業

4.0 会社レビュー

100.0% 返答率

29.1時間 返答時間

試作・開発・小ロット生産向け NSG (SiO2) /BSG/PSG/BPSG膜成膜用 バッチ式 (複数枚同時処理) APCVD装置 D501は、少量生産/テストや不...


株式会社エイチ・ティー・エル

半導体フォトマスク用 レーザCVD欠陥修正装置 CRS400S/S+

60人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

半導体、電子部品用フォトマスクの白黒欠陥を高精度で修正を行う装置です。 ■特長 ・V-Technology/HTL 共同開発の半導体Middle/Low、電...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 横型リアクタ SH2003

130人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計され...


テルモセラ・ジャパン株式会社

ウエハースケールグラフェン合成装置 nanoCVD-WGP

110人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

22.3時間 返答時間

■概要 欧州のアカデミックパートナー (Manchester, Warwick,etc..) の協力の下、実績ある卓上型 nanoCVD-8G (試 料サイズ 20mm) に加え...


株式会社エピクエスト

液体原料供給MOCVD装置 小型研究用 MPC1100V

120人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間


株式会社エピクエスト

液体原料供給MOCVD装置 研究用 MPC2100H

120人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間


株式会社エピクエスト

液体原料供給MOCVD装置 研究用・準生産用 MPC6100

120人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間


株式会社エピクエスト

高温CVD装置 SiC用CVD装置 HTC3001

100人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間


株式会社エピクエスト

高温CVD装置 オール・イン・ワンCVD装置

110人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

本装置は、プロセスユニット部、ガス制御部、シリンダーキャビネット部、電気制御部を1.3m×1.3mのフットプリントに設置した、オール・イ...


株式会社渡辺商行

半導体製造装置 低温成膜 フレキシブル基板対応 ガラス基板成膜装置

300人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の比較的早い企業

4.0 会社レビュー

100.0% 返答率

29.1時間 返答時間

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 ■基本情報 成膜有効幅760mmのガスヘッド2基を搭載し...


株式会社エピクエスト

高温CVD装置 高温CVD装置 SH2001-HTA

80人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間


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