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CVD装置 メーカー28社

CVD装置のメーカー28社一覧企業ランキングを掲載中!CVD装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:サムコ株式会社、3位:大陽日酸株式会社となっています。 CVD装置の概要、用途、原理もチェック!

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28CVD装置メーカー

CVD装置 2025年8月のメーカーランキング


業界別

🍎 食品 💊 製薬・医薬品 🧪 化学 💻 電子・電気機器 ⚙️ プラスチック・ゴム製造

項目別

使用用途

#半導体製造

#太陽電池製造

#MEMS製造

#ナノ材料生成

#ダイヤモンド生成

#絶縁膜形成

#保護膜形成

#透明導電膜形成

#カーボンナノチューブ

#高硬度薄膜

#センサー

#電子デバイス

成膜方式

熱CVD

APCVD

PECVD

MOCVD

HWCVD

反応器構造

縦型バッチ

横型バッチ

シングルウェハ

シャワーヘッド型

回転円盤型

加熱方式

ホットウォール

コールドウォール

ランプ加熱

誘導加熱

マイクロ波加熱

抵抗加熱

原料供給方式

直接ガス供給

液体気化供給

固体昇華供給

バブリング供給

成膜温度 ℃

100 - 300

300 - 500

500 - 1,200

76 点の製品中 3ページ目

76 点の製品中 3ページ目

株式会社マイクロフェーズ

横型CNT グラフェン合成装置 MPCVD-Graphene

320人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

100.0% 返答率

61.4時間 返答時間

炭化水素ガス (CH4やC2H2) を用いたCVD法で触媒基板 (Ni、Cuなど) にグラフェン膜を成長するには、 基板の急冷が重要要素の一つと言われ...


株式会社マイクロフェーズ

卓上CNT合成装置 MPCNT-Basic

200人以上が見ています

最新の閲覧: 17時間前

100.0% 返答率

61.4時間 返答時間

エタノールはカーボンナノチューブの生成にとって非常に都合のいい原料の一つです。 SWCNTや結晶性の高いCNTが生成されやすい特徴があり...


株式会社マイクロフェーズ

卓上CNT グラフェン合成装置 MPCNT-Premium

270人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

100.0% 返答率

61.4時間 返答時間

MPCNT-Basicバージョンを拡張し、フィラメント加熱機構やマルチガス導入機構など、 優れた機能を追加した小型CNT合成装置です。 エタノ...


株式会社マイクロフェーズ

卓上ナノ粒子気相生成装置 MPNP

200人以上が見ています

最新の閲覧: 22時間前

100.0% 返答率

61.4時間 返答時間

各種金属 (Au, Ag, Cu, Al, Ni, Co) の原料を不活性ガス中で蒸発させると、 金属蒸気が周囲の不活性ガス分子との衝突を繰り返すことによ...


株式会社マイクロフェーズ

酸化亜鉛ナノロッド生成装置 MPCVD-ZnO

200人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

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酸素ガスを供給しながらZn原料を加熱して蒸発させると、Zn蒸気と酸素ガスと反応し、ZnOが生成されます。 六方晶のZnOは、そのC軸の成長...


株式会社サンバック

サーマルCVD装置 CT-5500

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最新の閲覧: 22時間前

返信のとても早い企業

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0.2時間 返答時間

サーマルCVD装置CT-5500はポリSi (第1炉) 、SiO、PSG、BSG (第2炉) 、Si3N4 (第3炉) をコーティングできます。各炉は、それぞれ独立した...


株式会社サンバック

サーマルCVD装置 CT-6000

10人以上が見ています

最新の閲覧: 22時間前

返信のとても早い企業

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炭化ケイ素 (SiC) に代表される超高温材料は、その生成温度と濃度によって様々な結晶構造をとります。サーマルCVD装置CT-6000はこれらの...


株式会社サンバック

プラズマCVD装置 CP-1700

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プラズマCVD装置CP-1700は縦型石英管の外周に置かれたコイルによって発生したプラズマ中を、ヒーターを内蔵した基板ホルダーを上下する...


株式会社サンバック

プラズマCVD装置 CP-1900

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プラズマCVD装置CP-1900はステンレスチャンバー内に置かれた基板に発生したプラズマにより、成膜します。上部電極は、ガスシャワーが装...


株式会社サンバック

MOSVD装置 CM-8000

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MOCVD装置CM-8000は上部はガスシャワーになっており、RFプラズマを印加する事ができます。また下部は800℃に加熱しながら回転できる基板...


株式会社サンバック

レーザーCVD装置 CL-12000

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レーザーCVD装置CL-12000は高出力エキシマレーザーを使って、ヒーターの埋め込まれた100mm角の基板ホルダー上に成膜するレーザーCVD装置...


株式会社サンバック

マイクロ波CVD装置 SDM-2

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マイクロ波CVD装置SDM-2はマイクロ波CVDによるダイヤモンド薄膜の試験製造装置。シリコンウエハ上に直径10mm程度、厚み10μ以上のダイヤ...


新着

日本電子工業株式会社

NEO Cコーティング (プラズマCVD) 装置

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低温プラズマの熱処理への応用により開発されたプラズマCVD法は、PVD法・CVD法両技術の特長を兼ね備え、すでに半導体産業では重要な成膜...


新着

株式会社ExtenD

成膜装置 12インチ対応 大型熱フィラメントCVD装置 Grasshoppe HFCVD-300

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ダイヤモンド合成の幅広い需要に対応可能な大型熱フィラメントCVD装置 ■特徴 ・2段階自動レシピ運転 (シード→膜成長) ・フィラメント...


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