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43 点の製品
株式会社魁半導体
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120.0時間 平均返答時間
■製品概要 ・ペンタイプで扱いが容易 ・ガス供給が不要、AC100Vの電源接続のみで使用可能 ・簡単操作 ・小型コントロールボックス ・コ...
株式会社魁半導体
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120.0時間 平均返答時間
■製品の特徴 ・液中に基材を浸漬し、引き上げることで薄膜を形成するコーティング手法。 ・基材引き上げ時の速度によって膜厚の制御が可...
株式会社魁半導体
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120.0時間 平均返答時間
様々なガス導入が可能な真空プラズマ装置。ガス流量調整・パワー調整・真空度モニター緻密な処理条件の設定が可能です。 ワンタッチの簡...
株式会社魁半導体
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120.0時間 平均返答時間
粉体やチップコンデンサの処理に最適。 真空プラズマに回転機構を追加し、全面を一括で処理できるように致しました。 ■製品概要 ・表面...
株式会社魁半導体
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120.0時間 平均返答時間
■製品の特徴 ・PC上からの簡単操作。 ・ステッピングモーター駆動による高精度粉体供給。 ・通信機能付きの電子天秤 (オプション) と...
株式会社魁半導体
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■製品概要 ・ハンディタイプで扱いが容易 ・コントロールボックスは卓上タイプの省スペース ・使用するガスによって 親水化 ・空気でプ...
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■製品の特徴 ・巻出し~巻取りまで、ライン一式を製造処理部に。 ・ご所望のプロセスを簡単に設置可能。 ・お客様の任意の寸法にも対応...
株式会社魁半導体
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最新の閲覧: 59分前
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120.0時間 平均返答時間
業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。 ■製品概要 ・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属...
株式会社魁半導体
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120.0時間 平均返答時間
■製品の特徴 ・供給量はタッチパネル制御で、使いやすいインターフェース ・大気圧液面プラズマ装置と組合わせて連続処理 ■用途 さまざ...
株式会社魁半導体
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120.0時間 平均返答時間
コンパクトで安価な仕様です。表面処理 薄膜形成前の処理 陽極接合前の処理 塗装前の処理 その他 バイオ・医療分野にも。 ■製品の特徴 ...
株式会社魁半導体
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120.0時間 平均返答時間
一度に最大500mLボトルが80本迄プラズマ処理が可能。 電極の交換により、様々な容量・形状のボトルに対応。 ■用途 ・ボトル内面および...
株式会社魁半導体
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120.0時間 平均返答時間
板状、繊維状、フィルム状の対象物の表面改質・クリーニングに。 接着、印刷、コーティングの前処理に。細胞培養容器の前処理に (着床...
株式会社魁半導体
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120.0時間 平均返答時間
■製品概要 ・低価格 ・小型 – 他の機器との組み合わせが容易 – 処理部と操作部の一体化で取り回しが良い ・シンプルな構造 – メンテナ...
株式会社魁半導体
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120.0時間 平均返答時間
大気圧 (リモート) 誘電体バリア放電装置スリットタイプ SKIp-SLIt (京都大学 酒井先生の技術) 多点バリア放電方式を採用した唯一...
株式会社魁半導体
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120.0時間 平均返答時間
界面活性剤を使用せず粉体の表面処理によって液体と混合。 前処理:フィラーの前処理、焼成粉体の前処理。 その他:ハイブリッドマテリ...
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120.0時間 平均返答時間
■製品の特徴 ・パソコンと接続するだけの簡単操作。 ・4チャンネルの電圧を計測・記録可能。 ・分解能:10mV。 ・小型でコストパフォー...
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大気圧 (リモート) 誘電体バリア放電装置面状タイプ SKIp-CBL300 (京都大学 酒井先生の技術) 300mm四方への均一処理を実現します...
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120.0時間 平均返答時間
■製品概要 ・導入ガス不要、空気での表面改質が可能 ・幅広のスリット照射が可能 (〜1,000mm) ・処理効果が高い ・FPDガラス基板の有...
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■製品概要 ・表面改質:大気圧環境下において、電荷のダメージがないプラズマを安定に生成 ・ワイヤーボンディング:強度の向上に最適で...
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大気圧 (リモート) 誘電体バリア放電装置面状タイプ SKIp-RTR300 (京都大学酒井先生の技術) 世界初、面型放電300mmロールtoロール...
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SiO2やSiのエッチングなど。半導体集積回路などの微細回路を作製。 ■製品概要 ・コンパクト ・簡単な操作性 ・タッチパネル操作 (オー...
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120.0時間 平均返答時間
PTFE (テフロン) の親水化。各種素材の撥水処理。ガラス膜の形成。など ■製品概要 ・プラズマ装置CPEシリーズにお手頃価格のセミオ...
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ステンレスワイヤー製のブラシで湾曲した表面でも柔軟にプラズマ処理が可能です。 ■製品の特徴 ・電極が処理面に追従することでこれま...
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■製品の特徴 ・均一性の高い薄膜 (数μmのオーダーが可能) ・高温・真空下ではなく、室温・大気圧下で塗布 ・マスク板を汚さないので...
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120.0時間 平均返答時間
■製品概要 ・液中プラズマによる粉体の分散性向上 ・連続処理による生産効率の向上を実現します。 ・衝撃派で凝集を解砕しながらプラズ...
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120.0時間 平均返答時間
より低温かつ、低流量での大気圧プラズマ処理が可能。 表面改質:大気圧環境下において、電荷のダメージがないプラズマを安定に生成。 ...
株式会社魁半導体
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テフロン表面の親水化や不織布の撥水化など。 ■用途 ・PTFE (テフロン) の親水化 (要NH3) ・各種素材の撥水処理 (要CF4) ・...
2種類の品番
株式会社魁半導体
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120.0時間 平均返答時間
SiO2やSiのエッチングや有機物のアッシングを、加熱することで高速・高効率に。 ■製品概要 ・プラズマエッチャーCPEシリーズに、ステー...
株式会社魁半導体
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120.0時間 平均返答時間
固体ソースを用いた撥水処理。表面に樹脂の薄膜を形成。環境への負荷を低減。その他の樹脂にも応用可能。 ■製品の特徴 固体ソースを用...
株式会社魁半導体
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■製品概要 ・大気圧環境下でチューブ内壁を洗浄・表面改質 ・連続処理が可能 ・対象に合わせたトーチの切替え ・フッ素樹脂チューブも親...
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◆取扱装置・真空プラズマ装置・大気圧プラズマ装置・粉体処理も可能ーーーーー魁半導体はこれらすべての技術に対応でき、豊富なラインナップを持つ唯一のメー...
2023年7月3日
郵便番号 | 〒600-8897 |
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本社住所 | 京都府京都市下京区西七条御前田町50番地 SAKIGAKEビル |
創業年 | 2002年 |
資本金 | 10,000,000円 |
法人番号 | 6130001029400 |
リンク | 株式会社魁半導体 ホームページ |
株式会社魁半導体の営業所、事業所が全国で2箇所登録されています。
京都府で株式会社魁半導体の営業所が1箇所登録されています。
京都府で株式会社魁半導体の事業所が1箇所登録されています。
事業所情報について
事業所はMetoreeに登録されているもののみが表示されています。株式会社魁半導体の製品が11件登録されています。
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