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株式会社魁半導体

  • 京都府
  • 2002年
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株式会社魁半導体の対応状況

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平均返答時間

120.0時間


会社概要

株式会社魁半導体は、プラズマによる材質の表面処理や洗浄などを用いた各種半導体製造装置を開発・製造・販売するメーカーです。 2002年に京都工芸繊維大学発ベンチャーとして学内で創業し、2007年に株式会社魁半導体を設立しました。反応性が高いプラズマの性質を使用し、表面改質や有機物の除去、エッチングなどができる装置を開発・製造しています。主に、真空状態が不要な大気圧プラズマ、真空プラズマ、粉末材料への粉体プラズマを軸とした装置を開発し、企業からの受託処理や受託研究も可能です。



株式会社魁半導体の取り扱い製品

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43 点の製品がみつかりました

43 点の製品

株式会社魁半導体

大気圧 (リモート) ガスフリーペン型大気圧プラズマ装置 NRSR-P10

460人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

■製品概要 ・ペンタイプで扱いが容易 ・ガス供給が不要、AC100Vの電源接続のみで使用可能 ・簡単操作 ・小型コントロールボックス ・コ...

株式会社魁半導体

チェッカー/搬送装置 ディップコーター YN2-TKB

290人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

■製品の特徴 ・液中に基材を浸漬し、引き上げることで薄膜を形成するコーティング手法。 ・基材引き上げ時の速度によって膜厚の制御が可...

株式会社魁半導体

真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G

280人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

様々なガス導入が可能な真空プラズマ装置。ガス流量調整・パワー調整・真空度モニター緻密な処理条件の設定が可能です。 ワンタッチの簡...

株式会社魁半導体

粉体処理 回転式卓上真空プラズマ装置 YHS-DφS

270人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

粉体やチップコンデンサの処理に最適。 真空プラズマに回転機構を追加し、全面を一括で処理できるように致しました。 ■製品概要 ・表面...

株式会社魁半導体

チェッカー/搬送装置 卓上粉体供給装置 Z03-10

260人以上が見ています

最新の閲覧: 1分前

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

■製品の特徴 ・PC上からの簡単操作。 ・ステッピングモーター駆動による高精度粉体供給。 ・通信機能付きの電子天秤 (オプション) と...

株式会社魁半導体

大気圧 (ダイレクト) 卓上大気圧アッシャー装置 SS-50

260人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

■製品概要 ・ハンディタイプで扱いが容易 ・コントロールボックスは卓上タイプの省スペース ・使用するガスによって 親水化 ・空気でプ...

株式会社魁半導体

チェッカー/搬送装置 ロールtoロール式フィルム搬送装置 ROLL-15

260人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

■製品の特徴 ・巻出し~巻取りまで、ライン一式を製造処理部に。 ・ご所望のプロセスを簡単に設置可能。 ・お客様の任意の寸法にも対応...

株式会社魁半導体

真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD

260人以上が見ています

最新の閲覧: 59分前

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。 ■製品概要 ・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属...

株式会社魁半導体

チェッカー/搬送装置 微量粉体供給装置 KDB-14A

250人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

■製品の特徴 ・供給量はタッチパネル制御で、使いやすいインターフェース ・大気圧液面プラズマ装置と組合わせて連続処理 ■用途 さまざ...

株式会社魁半導体

真空 卓上真空プラズマ装置 YHS-R

250人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

コンパクトで安価な仕様です。表面処理 薄膜形成前の処理 陽極接合前の処理 塗装前の処理 その他 バイオ・医療分野にも。 ■製品の特徴 ...

株式会社魁半導体

高周波電源 真空プラズマ装置 US-80A

250人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

一度に最大500mLボトルが80本迄プラズマ処理が可能。 電極の交換により、様々な容量・形状のボトルに対応。 ■用途 ・ボトル内面および...

株式会社魁半導体

真空 小型真空プラズマ装置 NMR-Gts

250人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

板状、繊維状、フィルム状の対象物の表面改質・クリーニングに。 接着、印刷、コーティングの前処理に。細胞培養容器の前処理に (着床...

株式会社魁半導体

大気圧 (ダイレクト) 卓上ダイレクト型大気圧プラズマ装置 TK-50

250人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

■製品概要 ・低価格 ・小型 – 他の機器との組み合わせが容易 – 処理部と操作部の一体化で取り回しが良い ・シンプルな構造 – メンテナ...

株式会社魁半導体

大気圧 (リモート) 誘電体バリア放電装置スリットタイプ SKIp-SLIt

240人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

大気圧 (リモート) 誘電体バリア放電装置スリットタイプ SKIp-SLIt (京都大学 酒井先生の技術) 多点バリア放電方式を採用した唯一...

株式会社魁半導体

大気圧 (ダイレクト) 大気圧液面粉体プラズマ処理装置 ASS-400

230人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

界面活性剤を使用せず粉体の表面処理によって液体と混合。 前処理:フィラーの前処理、焼成粉体の前処理。 その他:ハイブリッドマテリ...

株式会社魁半導体

チェッカー/搬送装置 Mr.ロガー ML-4ch

220人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

■製品の特徴 ・パソコンと接続するだけの簡単操作。 ・4チャンネルの電圧を計測・記録可能。 ・分解能:10mV。 ・小型でコストパフォー...

株式会社魁半導体

大気圧 (リモート) 誘電体バリア放電装置面状タイプ SKIp-CBL300

220人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

大気圧 (リモート) 誘電体バリア放電装置面状タイプ SKIp-CBL300 (京都大学 酒井先生の技術) 300mm四方への均一処理を実現します...

株式会社魁半導体

大気圧 (ダイレクト) ダイレクト型大気圧プラズマ装置 D300-TB

220人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

■製品概要 ・導入ガス不要、空気での表面改質が可能 ・幅広のスリット照射が可能 (〜1,000mm) ・処理効果が高い ・FPDガラス基板の有...

株式会社魁半導体

大気圧 (リモート) ペン型大気圧プラズマ装置 P500-SM

210人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

■製品概要 ・表面改質:大気圧環境下において、電荷のダメージがないプラズマを安定に生成 ・ワイヤーボンディング:強度の向上に最適で...

株式会社魁半導体

大気圧 (リモート) 誘電体バリア放電装置面状タイプ SKIp-RTR300

210人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

大気圧 (リモート) 誘電体バリア放電装置面状タイプ SKIp-RTR300 (京都大学酒井先生の技術) 世界初、面型放電300mmロールtoロール...

株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャー CPEシリーズ

210人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

SiO2やSiのエッチングなど。半導体集積回路などの微細回路を作製。 ■製品概要 ・コンパクト ・簡単な操作性 ・タッチパネル操作 (オー...

株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャーセミオートシリーズ CPE-Sシリーズ

210人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

PTFE (テフロン) の親水化。各種素材の撥水処理。ガラス膜の形成。など ■製品概要 ・プラズマ装置CPEシリーズにお手頃価格のセミオ...

株式会社魁半導体

大気圧 (ダイレクト) ブラシ型大気圧プラズマ表面改質装置 get a command of (GaCo-200)

210人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

ステンレスワイヤー製のブラシで湾曲した表面でも柔軟にプラズマ処理が可能です。 ■製品の特徴 ・電極が処理面に追従することでこれま...

株式会社魁半導体

チェッカー/搬送装置 エレクトロスプレー ESC-100

210人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

■製品の特徴 ・均一性の高い薄膜 (数μmのオーダーが可能) ・高温・真空下ではなく、室温・大気圧下で塗布 ・マスク板を汚さないので...

株式会社魁半導体

大気圧 (ダイレクト) 液中プラズマ装置 DKN-128

200人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

■製品概要 ・液中プラズマによる粉体の分散性向上 ・連続処理による生産効率の向上を実現します。 ・衝撃派で凝集を解砕しながらプラズ...

株式会社魁半導体

大気圧 (リモート) 低温ペン型大気圧プラズマ装置 BARRIER-20

200人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

より低温かつ、低流量での大気圧プラズマ処理が可能。 表面改質:大気圧環境下において、電荷のダメージがないプラズマを安定に生成。 ...

株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャー CPE-Bシリーズ

200人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

テフロン表面の親水化や不織布の撥水化など。 ■用途 ・PTFE (テフロン) の親水化 (要NH3) ・各種素材の撥水処理 (要CF4) ・...

2種類の品番

株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャー加熱機構付 CPE-200AHM

200人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

SiO2やSiのエッチングや有機物のアッシングを、加熱することで高速・高効率に。 ■製品概要 ・プラズマエッチャーCPEシリーズに、ステー...

株式会社魁半導体

真空 撥水コーター CFC-550

200人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

固体ソースを用いた撥水処理。表面に樹脂の薄膜を形成。環境への負荷を低減。その他の樹脂にも応用可能。 ■製品の特徴 固体ソースを用...

株式会社魁半導体

大気圧 (リモート) チューブ内壁大気圧プラズマ装置 S5000-T

200人以上が見ています

100.0% 返答率

120.0時間 平均返答時間

■製品概要 ・大気圧環境下でチューブ内壁を洗浄・表面改質 ・連続処理が可能 ・対象に合わせたトーチの切替え ・フッ素樹脂チューブも親...

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会社基本情報

郵便番号 〒600-8897
本社住所 京都府京都市下京区西七条御前田町50番地 SAKIGAKEビル
創業年 2002年
資本金 10,000,000円
法人番号 6130001029400
リンク 株式会社魁半導体 ホームページ

事業所情報

株式会社魁半導体の営業所、事業所が全国で2箇所登録されています。

営業所

京都府で株式会社魁半導体の営業所が1箇所登録されています。

京都本社 営業所

〒600-8897 京都府京都市下京区西七条御前田町50番地SAKIGAKEビル

事業所

京都府で株式会社魁半導体の事業所が1箇所登録されています。

西院事業所 事業所

〒615-0052 京都府京都市右京区西院清水町164番地1

事業所情報について

事業所はMetoreeに登録されているもののみが表示されています。

株式会社魁半導体の製品カテゴリ

株式会社魁半導体の製品が11件登録されています。

注目ランキング導出方法

注目ランキング導出方法について

注目ランキングは、2024年10月の株式会社魁半導体のMetoreeページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の各ページでの全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。また、製品はMetoreeに登録されているもののみが表示されています。

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