メーカー 38社
製品 91点

蒸着装置
メーカー38社【2025年】

蒸着装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、蒸着装置のメーカー38社一覧や企業ランキングも掲載しております。蒸着装置関連企業の2025年2月注目ランキングは1位:テルモセラ・ジャパン株式会社、2位:長州産業株式会社、3位:新明和工業株式会社となっています。

蒸着装置とは？
蒸着装置のメーカー38社
蒸着装置91製品
蒸着装置の価格・相場

蒸着装置とは

蒸着装置

蒸着装置は、減圧下で物質を気化させて対象物上に製膜する真空蒸着 (VD) を行う装置です。

蒸着装置を用いることで、対象物上に平滑な塗膜を形成することができ、その膜厚や組成の制御をすることも可能です。

蒸着装置の使用用途

蒸着装置ではアルミニウムなどの金属材料や有機無機材料など様々な材料での成膜が可能です。

蒸着装置は下記のような用途で利用されます。

光学薄膜 (レンズの反射防止膜、特殊ミラーなど)
磁気テープ (オーディオテープやビデオテープなど)
半導体 (有機EL、LED、太陽光電池など)
電子部品 (抵抗やコンデンサ、半導体集積回路など)
食品包装材 (スナック菓子などの袋に用いられているアルミ蒸着フィルムなど)
分析用途 (試料調製)

蒸着装置の原理

図1-蒸着装置の原理イメージと液相成長法

図1. 蒸着装置の原理イメージと液相成長法

ロータリーポンプやターボ分子ポンプなどでチャンバー内を減圧状態にし、蒸着したい材料を気化させて、離れた位置にある対象物上に堆積させます。減圧状態にすることで、チャンバー内の不純物を取り除き、気化した物質の拡散性が向上し、密着性がよく平滑な膜を作製することができます。

物質の表面に製膜する方法としてメッキが有名ですが、メッキなどは液相から原料が供給されるのに対し、蒸着は気相から原料が供給されるという違いがあります。

蒸着装置の種類

蒸着装置に用いられる蒸着方法には、物質を気化させる方法によって、物理気相成長法 (または物理蒸着、英: Physical Vapor Deposition, PVD) と化学気相成長法 (または化学蒸着、英: Chemical Vapor Deposition, CVD) の2種類に分けられます。

1. 物理気相成長法 (PVD)

図2-物理気相成長法と主な種類

図2. 物理気相成長法と主な種類

物理気相成長法は、加熱などの物理的な方法で蒸着材料の気化や昇華などを起こし、製膜する方法です。加熱方法は電子ビーム、抵抗加熱、高周波誘導、レーザーなどがあります。

電子ビーム加熱
耐火物などのルツボに収納した蒸着材料に、電子ビームを照射することによって気化させます。電子ビームはエネルギーが高く高融点の材料にも適用できます。
抵抗加熱
タングステンなどの抵抗に電流を流して発熱させ、その上に蒸着材料を置くことで蒸着材料が加熱されて気化します。比較的温度が上がりづらいので、融点の低い材料に向いています。
高周波誘導加熱
コイルを巻いたるつぼに蒸着材料を入れ、コイルに高周波電流を流して強力な磁界を発生させ、その磁界による電流と電熱抵抗による発熱で急速に温度を上げて膜材料を気化させます。
レーザー加熱
蒸着材料にレーザーを照射することにより、高いエネルギーを供給し蒸着材料を気化させます。

また、プラズマや分子線などを利用した方法も物理気相成長法の1つです。

分子線エピタキシー (MBE)
超高真空下で真空蒸着を行うことで、気化した分子が進行方向をそろえて直進するため、膜厚や組成などのより精密な制御が可能な方法です。成長速度が遅く、高真空が必要なため装置の大型化に向かず、大量生産を苦手とします。
スパッタリング
真空中にアルゴンなどの不活性ガスを注入し、電極に電圧を加えグロー放電を起こすと、プラズマ化したアルゴンが陰極に向けて衝突し、陰極上の原子や分子などをはじき出されます。このとき、蒸着対象物を陽極上に設置しておくと、はじき出された原子が表面に堆積します。イオン化の方法として、直流電圧 (DC) 、高周波交流電圧 (RF-AC) 、マグネトロン、イオンビームなどがあります。

2. 化学気相成長法 (CVD)

図3-化学気相成長法とその種類

図3. 化学気相成長法と主な種類

化学気相成長法は、化学反応などの化学的な方法で、蒸着材料を蒸着対象物上に堆積させ製膜する方法です。代表的なものとして、熱CVD、光CVD、プラズマCVD、有機金属CVD、原子層成長 (ALD) などがあります。

熱CVD
抵抗加熱炉を使って高温を作り出し、そこに原料ガスを流して化学反応を起こし、薄膜形成を行う方法です。比較的均一な膜厚を作ることができます。
光CVD
紫外線ランプやレーザー光を用いて、低温プロセスで化学反応を起こし、薄膜形成を行う方法です。イオン発生が無いため基板へのダメージが少ないです。
プラズマCVD
原料をプラズマ化することで反応性を高め、蒸着対象上で反応を起こし製膜する方法です。低温で薄膜形成するため、高品質の成膜が可能です。但し、装置が高価で、メンテナンス等に難があります。
有機金属CVD
蒸着したい金属の前駆体となる有機金属を原料に用いることで、蒸着対象上で反応により金属に変化し、金属薄膜が形成できる方法です。膜厚を精密制御しながら高速で製膜することができるため、LEDなどの大量生産に使われています。
原子層成長 (ALD)
複数種類の原料を1種類ずつ蒸着、入れ替えを行うことで、原料が決まった位置で自己制御的に反応し、制御された構造、膜厚の薄膜を形成できる方法です。

上記の他にもさまざまな方式の蒸着装置が開発、販売されています。用途に応じて適切な装置を選択をする必要があります。

参考文献
https://www.satovac.co.jp/application/deposition.html
https://www.samco.co.jp/company/primer/2011/03/post.php
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jjspe/82/11/82_956/_pdf
http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2000_08/2000_08-759.pdf
https://ulvac-kiko.com/support/img/deposition_catalog_Jp_2018_10.pdf
https://www.semilinks.com/sub208.htm
https://showcase.ulvac.co.jp/ja/how-to/product-knowledge02/oil-diffusion-pump.html
https://www.samco.co.jp/ir/library/
https://www.oike-kogyo.co.jp/research/column/cvd/
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jvsj2/59/7/59_16-LC-011/_pdf

蒸着装置のカタログ15件を掲載中

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズフレキシブル薄膜実験装置』のカタログ

蒸着装置メーカー 38社

*一部商社などの取扱い企業なども含みます。

◉マルチ蒸着装置【MiniLab（ミニラボ）フレキシブル薄膜実験装置】金属・有機・EB蒸着・スパッタ注目製品
テルモセラ・ジャパン株式会社

◉ スパッタ、蒸着（抵抗加熱・有機・EB）、アニール、ドライエッチ等自在に構成が可能
◉ モジュラー式、コンポーネント構成バリエーションが豊富
◉ コンパクト、省スペース設計
◉ 到達真空度：5x10-5 Pascal
◉ 直感的インターフェイス、操作が分散せず全てをタッチパネルで一元管理できます。

ロードロック式蒸着装置注目製品
ジャパンクリエイト株式会社

・ご希望の蒸着装置をオーダーメイドで設計/製作！
・最高900℃の高温プロセスが可能
・基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現
・最適な表面処理によりパーティクル発生を低減、チャンバのメンテナンスも容易

【事前に無償でデモ成膜を実施可能】蒸着装置_全自動蒸着装置OASIS 注目製品
長州産業株式会社

・TSC、IHESを搭載
　①優れた蒸着速度の制御特性
　②安定性が高く精度の高い共蒸着
　③幅広い温度域で材料の成膜
・成膜可能材料
　Li/Na/Mg/Al/Ca/Ga/Se/Ag/Ba/LiF/NaF/Alq3/NPD/HAT-CN/TAPC/NBPhen/TADF/BCP/C60/Ir/MoO3/Yb

E-200KidoVer蒸着装置　「研究内容の変化に柔軟に対応できる設計で高いパフォーマンスを実現」注目製品
株式会社エイエルエステクノロジー

・有機10源、無機4源を1チャンバー内に実現
・10段のロードロック室装備
・有機3源、無機2源の同時蒸着
・グローブボックスと接続

E-70Ba/LL　蒸着装置注目製品
株式会社エイエルエステクノロジー

・小型チャンバーの中に有機8源、無機2源を搭載
・研究開発に最適、多くの研究者にご使用頂いています
・グローブボックスに接続可能
・省スペース

バッチ式プラズマ重合付き蒸着装置注目製品
新明和工業株式会社

・装置仕様のカスタマイズも可能
・基板へのダイレクト蒸着と平板対向式放電電極により、高速、高性能な保護膜を成膜。
・蒸着電流制御の高性能化によりアルミスプラッシュを低減。

- - テルモセラ・ジャパン株式会社
    テルモセラ・ジャパン薄膜実験装置製品一覧
  - 会社サイト創業: 2010年会社詳細
  - 住所: 東京都中央区日本橋3丁目2番14号新槇町ビル別館第一 2階
- カスタムメイド対応短納期イージーメンテナンス
  
  豊富なモジュール・コンポーネント構成バリエーションから、金属/有機蒸着、EB、スパッタ、アニール、CVD、RF/DCエッチ等、様々な真空薄膜装置の構成ご要望に対応可能なフレキシブル薄膜実験装置です。
- - ジャパンクリエイト株式会社
    蒸着装置一覧
  - 会社サイト創業: 1963年従業員数: 40人資本金: 30,000,000円会社詳細
  - 住所: 埼玉県所沢市林1丁目203番地4
- オーダーメイドデモ可能アフターフォロー
  
  研究開発装置から量産装置まで、ニーズに合わせた蒸着装置を製作しています
  その他真空成膜装置についても対応していますので、お気軽にお問い合わせください
  様々な母材への成膜処理/デモも承っております
- - 長州産業株式会社メーカー
    蒸着装置一覧
  - 会社サイト創業: 1980年従業員数: 670人資本金: 410,000,000円会社詳細
  - 住所: 山口県山陽小野田市新山野井3740
- メカトロ機器全自動蒸着装置独自技術のKセル
  
  長州産業は、先進のエネルギー機器や有機ELデバイス製造装置など、幅広い分野で高度な技術を持つ製造メーカーです。
  再生可能エネルギーを中心としたエネルギー機器分野では業界トップクラスのシェアを持ち、水素エネルギーなど先進技術にも取り組んでいます。
- - 株式会社エイエルエステクノロジー
    真空蒸着装置　紹介
  - 会社サイト創業: 2000年資本金: 20,000,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県相模原市中央区上溝2179-2
- 自由設計と拡張性万全な安全対策豊富なオプション
  
  特注設計を得意とする真空装置のエンジニアがお客様の御要求にきめ細かく対応いたします。
  真空蒸着装置、昇華精製装置、グローブボックスを中心に豊富なラインナップをご用意しています。
- - 新明和工業株式会社メーカー
    バッチ式蒸着+プラズマ重合装置
  - 会社サイト上場(東証プライム) 創業: 1949年従業員数: 3,264人資本金: 15,981,967,991円会社詳細
  - 住所: 兵庫県宝塚市新明和町1-1
- 多数の国内販売実績特注対応可能デモ機あり
  
  蒸着またはスパッタ+プラズマ重合装置やダイヤモンドコーティング装置、イオンエッチング装置など、トップシェアの製品からオンリーワンの技術まで様々な真空技術をご提案致します。
- - 神港精機株式会社メーカー
    横型蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1949年従業員数: 194人資本金: 375,000,000円会社詳細
  - 住所: 兵庫県神戸市西区高塚台3丁目1番35号
- - 株式会社真空デバイスメーカー
    蒸着装置一覧
  - 会社サイト創業: 1985年従業員数: 12人資本金: 10,000,000円会社詳細
  - 住所: 茨城県水戸市飯島町1285-5
- - 株式会社タクマ精工メーカー
    蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1980年従業員数: 33人資本金: 10,000,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県海老名市社家747番地
- - 株式会社ケミトロニクスメーカー
    電子ビーム蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1981年会社詳細
  - 住所: 東京都東大和市立野2丁目14番地9
- - 大阪真空工業株式会社メーカー
    真空蒸着
  - 会社サイト創業: 1953年従業員数: 100人資本金: 10,000,000円会社詳細
  - 住所: 大阪府大阪市平野区加美北4丁目6番50号
- - 佐藤真空株式会社メーカー
    真空蒸着装置＜HSV＞シリーズ
  - 会社サイト創業: 1932年従業員数: 10人資本金: 50,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都品川区大井5丁目1番27号
- - メイワフォーシス株式会社メーカー
    熱蒸着機
  - 会社サイト創業: 1968年従業員数: 34人資本金: 50,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都新宿区新宿1-14-2KI御苑前ビル
- - 株式会社三啓メーカー商社・代理店
    蒸着装置蒸着制御器 TXC/3　TXC/3
  - 会社サイト創業: 1948年従業員数: 58人会社詳細
  - 住所: 東京都江東区新砂1丁目6番35号Ｎビル東陽町
- - 誠南工業株式会社
    蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1948年従業員数: 25人資本金: 24,000,000円会社詳細
  - 住所: 大阪府大阪市住之江区北加賀屋4丁目3番24号
- - 株式会社菅製作所
    蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1946年従業員数: 32人資本金: 34,000,000円会社詳細
  - 住所: 北海道北斗市追分3-2-2
- - 株式会社第一メカテック
    自動真空蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1970年会社詳細
  - 住所: 埼玉県川口市領家5-8-6
- - 株式会社片桐エンジニアリング
    高真空蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1991年資本金: 10,000,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県横浜市鶴見区尻手3-5-34
- - 株式会社富士アールアンドディー
    真空蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1972年会社詳細
  - 住所: 静岡県富士宮市山宮3507-7
- - 株式会社倉田技研
    蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1981年資本金: 10,000,000円会社詳細
  - 住所: 滋賀県湖南市下田3782番地25
- - 株式会社マイクロフェーズ
    高機能真空蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1999年資本金: 10,000,000円会社詳細
  - 住所: 茨城県つくば市鬼ケ窪1147-9
- - 株式会社パスカル
    蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1986年会社詳細
  - 住所: 大阪府大阪市阿倍野区昭和町1丁目16番4号
- - 株式会社テクノポート
    蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1993年従業員数: 9人会社詳細
  - 住所: 東京都墨田区京島2-8-12
- - 株式会社テクノファイン
    多層金属蒸着装置 MC-1201
  - 会社サイト創業: 1995年資本金: 30,000,000円会社詳細
  - 住所: 宮城県仙台市太白区秋保町長袋字門前21
- - 株式会社シンクロン
    汎用蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1951年従業員数: 561人資本金: 72,500,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県横浜市西区みなとみらい4-3-5
- - 株式会社サンバック
    蒸着装置一覧
  - 会社サイト創業: 1995年会社詳細
  - 住所: 東京都江東区扇橋1-21-3
- - 株式会社オプトラン
    蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1999年従業員数: 534人会社詳細
  - 住所: 東京都豊島区西池袋一丁目11番1号
- - 株式会社エピクエスト
    小型蒸着装置
  - 会社サイト創業: 2000年資本金: 30,000,000円会社詳細
  - 住所: 京都府京都市南区上鳥羽中河原51
- - 山八物産株式会社
    真空蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1988年従業員数: 20人資本金: 10,000,000円会社詳細
  - 住所: 山梨県甲州市勝沼町山1441
- - 北野精機株式会社
    有機薄膜簡易蒸着装置
  - 会社サイト創業: 1958年資本金: 15,440,000円会社詳細
  - 住所: 東京都大田区中央7-17-3
- - サンユー電子株式会社
    蒸着装置一覧
  - 会社サイト創業: 1976年従業員数: 24人会社詳細
  - 住所: 東京都新宿区百人町1-22-6

蒸着装置 2025年2月のメーカーランキング

*一部商社などの取扱い企業なども含みます

2025年2月の注目ランキングベスト10

順位	会社名	クリックシェア
1	テルモセラ・ジャパン株式会社	14.6%
2	長州産業株式会社	12.4%
3	新明和工業株式会社	10.7%
4	株式会社エイエルエステクノロジー	10.1%
5	ジャパンクリエイト株式会社	7.9%
6	アルバック機工株式会社	4.5%
7	大阪真空工業株式会社	3.9%
8	神港精機株式会社	3.4%
9	株式会社真空デバイス	2.8%
10	株式会社三啓	2.2%