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蒸着装置のメーカー38社一覧や企業ランキングを掲載中！蒸着装置関連企業の2025年4月注目ランキングは1位:長州産業株式会社、2位:株式会社エイエルエステクノロジー、3位:ジャパンクリエイト株式会社となっています。 蒸着装置の概要、用途、原理もチェック！
蒸着装置は、減圧下で物質を気化させて対象物上に製膜する真空蒸着 (VD) を行う装置です。
蒸着装置を用いることで、対象物上に平滑な塗膜を形成することができ、その膜厚や組成の制御をすることも可能です。
2025年4月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 長州産業株式会社 |
11.9%
|
| 2 | 株式会社エイエルエステクノロジー |
9.5%
|
| 3 | ジャパンクリエイト株式会社 |
8.6%
|
| 4 | 新明和工業株式会社 |
6.7%
|
| 5 | テルモセラ・ジャパン株式会社 |
6.2%
|
| 6 | 佐藤真空株式会社 |
4.3%
|
| 7 | 大阪真空工業株式会社 |
3.8%
|
| 8 | 株式会社オプトラン |
3.3%
|
| 9 | 株式会社シンクロン |
3.3%
|
| 10 | 株式会社ケミトロニクス |
2.9%
|
入江株式会社
170人以上が見ています
最新の閲覧: 17時間前
返信の比較的早い企業
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
13.0時間 返答時間
■概要 研究開発用、及び小ロット生産用の抵抗加熱式小型蒸着装置。本シリーズの一部機種には電子ビーム (EB) の搭載も可能です。 ■特徴...
ハイソル株式会社
370人以上が見ています
最新の閲覧: 12時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
27.0時間 返答時間
本装置はHMDS (ヘキサメチルジシラザン) の蒸着成膜 (ベーパープライミング) に特化しており、装置の各種パラメータはあらかじめHMDS専...
長州産業株式会社
120人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信のとても早い企業
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0.5時間 返答時間
全自動蒸着装置OASISを提供しています。社内に試作ラインを備え、予めサンプル作成を行うことでより実効性の高いシステムを提供します。...
三弘エマテック株式会社
300人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
30.2時間 返答時間
■製品説明 架台内にターボ分子ポンプ・補助ポンプをコンパクトに収納した、抵抗加熱式で低コストタイプの小型真空蒸着装置です。クリー...
コスモトレーディング株式会社
240人以上が見ています
最新の閲覧: 11時間前
返信の比較的早い企業
4.0 会社レビュー
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24.3時間 返答時間
IB-29510VET 真空蒸着装置は、電子顕微鏡用試料作製が容易に行える真空蒸着装置です。高分解能観察に適したカーボン膜、各種金属蒸着膜...
株式会社真空デバイス
520人以上が見ています
最新の閲覧: 17時間前
100.0% 返答率
40.2時間 返答時間
真空蒸着装置とは、真空雰囲気の中で材料を気化蒸発させ、サンプルに薄膜を成膜する装置です。ターボ分子ポンプを利用した高真空下で成...
アルバック販売株式会社
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最新の閲覧: 21時間前
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385.4時間 返答時間
■概要 プラスチックフィルム、紙、金属箔等を連続的に巻取りながら、金属や酸化物等を蒸着する成膜装置です。小型の実験機から大量生産...
ジャパンクリエイト株式会社
300人以上が見ています
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5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
185.3時間 返答時間
■特徴 ・エピタキシャル促進機構により単結晶成膜に最適 ・酸化促進ガス導入機構 ・材料酸化防止機構 ・最高900℃の高温プロセスが可能 ...
神港精機株式会社
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最新の閲覧: 7時間前
個別半導体・化合物半導体の生産工程で豊富な実績を誇るベストセラータイプです。 豊富なオプションと高い信頼性が量産現場で実力発揮し...
4種類の品番
株式会社マイクロフェーズ
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最新の閲覧: 17時間前
100.0% 返答率
126.2時間 返答時間
当社発案の360度回転キュービック基板ホルダーを搭載し、試料設置面積を4倍向上させました。 真空を破らず、1回のプロセスで、4つの成膜...
ハイソル株式会社
240人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
27.0時間 返答時間
本装置はHMDS (ヘキサメチルジシラザン) の蒸着成膜 (ベーパープライミング) に特化しており、装置の各種パラメータはあらかじめHMDS専...
三弘エマテック株式会社
310人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
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■製品説明 架台内にターボ分子ポンプ・補助ポンプをコンパクトに収納した、抵抗加熱式で低コストタイプの小型真空蒸着装置です。クリー...
株式会社MPS
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100.0% 返答率
57.6時間 返答時間
■概要 抵抗加熱式の蒸着装置です。小規模の光学膜生産用としてお使いいただいています。
株式会社真空デバイス
540人以上が見ています
最新の閲覧: 44分前
100.0% 返答率
40.2時間 返答時間
真空蒸着装置とは、真空雰囲気の中で材料を気化蒸発させ、サンプルに薄膜を成膜する装置です。ターボ分子ポンプを利用した高真空下で成...
ジャパンクリエイト株式会社
420人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
185.3時間 返答時間
■概要 デバイス開発や材料開発に最適なマルチチャンバ仕様の装置です。 前処理から成膜、封止までの工程を大気に触れずに処理することが...
三弘エマテック株式会社
300人以上が見ています
最新の閲覧: 17時間前
返信の比較的早い企業
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100.0% 返答率
30.2時間 返答時間
■製品説明 高コストパフォーマンスのARコート専用のスタンダードマシンとなります。樹脂レンズへの成膜に最適です。RFイオンソース、光...
アルバック販売株式会社
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385.4時間 返答時間
■概要 バッチ式高真空蒸着装置eiシリーズは、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置です。操作パネルから集中的制御で排気操作・成...
神港精機株式会社
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用途が拡大しているリフトオフプロセスに対応した専用蒸着装置です。 高い蒸発粒子の垂直性と基板水冷機構の採用によりレジストの保護と...
2種類の品番
アトーテック株式会社
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62.8時間 返答時間
■特徴 ・電子顕微鏡向けタングステン薄膜のコーティング装置です。 ・超高分解能SEMにおいて超高倍率の観察に活躍します。 (20万倍以上)...
三弘エマテック株式会社
280人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
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100.0% 返答率
30.2時間 返答時間
■製品説明 蒸発源として電子ビーム式蒸発源を採用しており、高融点金属や酸化物を成膜する事ができます。蒸発速度の制御と膜厚の制御は...
株式会社マイクロフェーズ
170人以上が見ています
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100.0% 返答率
126.2時間 返答時間
水分や酸素を嫌う試料を大気に曝されずに、その表面に金属膜を真空蒸着して回収したい場合があります。 しかし、従来の真空蒸着装置では...
フジ・インバック株式会社
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58.0時間 返答時間
■概要 排気系に安価なDPを使用した省スペースタイプ
アルバック販売株式会社
180人以上が見ています
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385.4時間 返答時間
■水冷式油拡散ポンプ (1,100L/sec) ＋油回転真空ポンプ 架台内に油拡散ポンプ・油回転真空ポンプ・ピラニ真空計・バルブ配管・電気系・...
神港精機株式会社
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電子デバイス用特殊仕様。特別なプロセスやデバイスに特化し基板形状や処理温度を問わず柔軟に対応しています。
4種類の品番
アトーテック株式会社
90人以上が見ています
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100.0% 返答率
62.8時間 返答時間
本装置は、前進的な試料作りを目的とし清浄高真空中で電子ビームにより特にMg合金を初めとする全ての金属に適した蒸着装置として開発さ...
テルモセラ・ジャパン株式会社
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■概要 nanoPVD-T15A は、卓上・コンパクトサイズの高性能『有機膜・金属膜蒸着』装置です。温度応答性 / 安定性に優れた低温有機蒸着源 ...
アルバック販売株式会社
210人以上が見ています
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100.0% 返答率
385.4時間 返答時間
■概要 ターボ分子ポンプ+油回転真空ポンプを採用。抵抗加熱式の小型真空蒸着装置。架台内にメインポンプ・補助ポンプ・ピラニ真空計・電...
神港精機株式会社
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抵抗体の端面、水晶振動子の電極形成等小型電子部品の生産に最適です。 小型チャンバーで大量の処理が可能で基板の両面一括成膜が行えま...
3種類の品番
株式会社マイクロフェーズ
160人以上が見ています
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100.0% 返答率
126.2時間 返答時間
粒状や粉末タイプの試料表面に各種金属薄膜をコートするための真空蒸着装置です。 蒸発源を上方から下向きに蒸発させることを可能にする...
検索結果 91件 (1ページ/3ページ)
蒸着装置は、減圧下で物質を気化させて対象物上に製膜する真空蒸着 (VD) を行う装置です。
蒸着装置を用いることで、対象物上に平滑な塗膜を形成することができ、その膜厚や組成の制御をすることも可能です。
蒸着装置ではアルミニウムなどの金属材料や有機無機材料など様々な材料での成膜が可能です。
蒸着装置は下記のような用途で利用されます。
図1. 蒸着装置の原理イメージと液相成長法
ロータリーポンプやターボ分子ポンプなどでチャンバー内を減圧状態にし、蒸着したい材料を気化させて、離れた位置にある対象物上に堆積させます。減圧状態にすることで、チャンバー内の不純物を取り除き、気化した物質の拡散性が向上し、密着性がよく平滑な膜を作製することができます。
物質の表面に製膜する方法としてメッキが有名ですが、メッキなどは液相から原料が供給されるのに対し、蒸着は気相から原料が供給されるという違いがあります。
蒸着装置に用いられる蒸着方法には、物質を気化させる方法によって、物理気相成長法 (または物理蒸着、英: Physical Vapor Deposition, PVD) と化学気相成長法 (または化学蒸着、英: Chemical Vapor Deposition, CVD) の2種類に分けられます。
図2. 物理気相成長法と主な種類
物理気相成長法は、加熱などの物理的な方法で蒸着材料の気化や昇華などを起こし、製膜する方法です。加熱方法は電子ビーム、抵抗加熱、高周波誘導、レーザーなどがあります。
また、プラズマや分子線などを利用した方法も物理気相成長法の1つです。
図3. 化学気相成長法と主な種類
化学気相成長法は、化学反応などの化学的な方法で、蒸着材料を蒸着対象物上に堆積させ製膜する方法です。代表的なものとして、熱CVD、光CVD、プラズマCVD、有機金属CVD、原子層成長 (ALD) などがあります。
上記の他にもさまざまな方式の蒸着装置が開発、販売されています。用途に応じて適切な装置を選択をする必要があります。
参考文献
https://www.satovac.co.jp/application/deposition.html
https://www.samco.co.jp/company/primer/2011/03/post.php
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jjspe/82/11/82_956/_pdf
http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2000_08/2000_08-759.pdf
https://ulvac-kiko.com/support/img/deposition_catalog_Jp_2018_10.pdf
https://www.semilinks.com/sub208.htm
https://showcase.ulvac.co.jp/ja/how-to/product-knowledge02/oil-diffusion-pump.html
https://www.samco.co.jp/ir/library/
https://www.oike-kogyo.co.jp/research/column/cvd/
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jvsj2/59/7/59_16-LC-011/_pdf
