基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 Epitaxial-EB蒸着装置 ジャパンクリエイト株式会社
この製品について
■特徴
・エピタキシャル促進機構により単結晶成膜に最適 ・酸化促進ガス導入機構 ・材料酸化防止機構 ・最高900℃の高温プロセスが可能 ・基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 ・ロードロック式による高真空プロセスに対応 ・最適な表面処理によるパーティクル低減-
シリーズ
基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 Epitaxial-EB蒸着装置
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取扱企業
ジャパンクリエイト株式会社
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基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 Epitaxial-EB蒸着装置 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 基板サイズ | 基板加熱温度 | 蒸着材料 | 真空排気 | 膜厚コントロール | 制御操作 | データロギング | 基板搬送 | オプション |
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Epitaxial-EB蒸着装置 |
要見積もり | 最大φ12インチ | 700℃ (基板表面) | 金属または酸化物 | CP+DP | 水晶式膜厚センサ |
制御：PLC 操作：タッチパネルまたはPC |
外部メモリまたはPC | 真空搬送ロボット | 基板加熱900℃ (基板表面)、基板冷却、基板バイアス、基板回転、抵抗加熱蒸発源 (最大6台) 、反応ガス供給ユニット など |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
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