真空蒸着装置小型デスクトップ高真空蒸着装置 VE-2013 株式会社真空デバイス

この製品について

真空蒸着装置とは、真空雰囲気の中で材料を気化蒸発させ、サンプルに薄膜を成膜する装置です。ターボ分子ポンプを利用した高真空下で成膜することが一般的で、不純物の無い膜を作ることが可能です。

真空デバイスの蒸着装置は、シーケンスプログラム制御された操作で簡単に高真空領域の環境を作ることができ、研究開発に最適な小型で安価なラインナップが特徴です。大気圧から10ｘ10⁻⁴Pa領域までの到達時間はおよそ５分間。従来の古いシステムから切り替えることで研究開発のスピードを加速させます。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
真空蒸着装置小型デスクトップ高真空蒸着装置 VE-2013

取扱企業
株式会社真空デバイス

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真空蒸着装置小型デスクトップ高真空蒸着装置 VE-2013 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	ヒーター電極	蒸着対象金属	試料ステージ	蒸着源－試料間隔	チャンバーサイズ	電極間電圧/電流	排気系	真空度測定	到達真空度	安全対策	装置サイズ	電源
	VE-2013	要見積もり	1対(2対タイプはオプション)	金・アルミ・クロム・銀・カーボンその他	直径72mm	0mm~140mm	内径160mmｘ深さ235mm	AC15Ｖ、0~30Aタッチパネル表示	TMP67ℓ/sec＋RP50ℓ/min	タッチパネル表示フルレンジ真空計	5×10-4Pa以下	系統別サーキットプロテクタ、過剰負荷を自動でブロック	W428×D430×H550(mm)38Kg	単層AC100V,15Aアース線付3芯プラグ使用