制御・計測・センシング
駆動・機械要素・電子制御部品
産業別カテゴリ
電源・エネルギー・熱処理機器
安全・保護・環境対策
材料・素材・ケミカル
電気・電子部品
構造部品・締結要素
ソフトウェア・ネットワーク
サービス
その他
全てのカテゴリ
閲覧履歴
半導体外観検査装置のメーカー25社一覧や企業ランキングを掲載中！半導体外観検査装置関連企業の2025年7月注目ランキングは1位:株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ、2位:ヤマハ発動機株式会社、3位:東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー株式会社となっています。 半導体外観検査装置の概要、用途、原理もチェック！
半導体外観検査装置とは、半導体の製造過程のウェハーや半導体チップの不良を外観上で検査する装置です。
半導体の主な製造工程としては、印刷の原版に相当するフォトマスク製造工程、半導体の基盤となるウェハー製造工程、フォトマスクを使ってウェハー上に微細な回路構造を形成していく前工程、回路形成後に半導体チップを個別パッケージングする後工程があり、詳細に見れば数百の工程が存在します。
近年の半導体の微細加工技術は数ナノ (髪の毛の太さの約1万分の1) という領域に達すると同時にウェハーも大口径化し、数十億個のトランジスタを搭載した半導体チップが1枚のウェハーから数千個作られるようになっています。
このような生産性を誇る半導体製造工程で検査装置は極めて重要であり、早期の不良品選別、コスト削減、品質や信頼性の向上に繋がっています。半導体外観検査装置を選定する基準としては、ウェハーの径、使用する工程、検出する不良の種類を考慮する必要があります。
関連キーワード
2025年7月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ |
15.8%
|
| 2 | ヤマハ発動機株式会社 |
9.2%
|
| 3 | 東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー株式会社 |
6.5%
|
| 4 | 株式会社ジェイエイアイコーポレーション |
4.9%
|
| 5 | 株式会社パルメック |
4.9%
|
| 6 | タカノ株式会社 |
4.9%
|
| 7 | 株式会社ニコンソリューションズ |
4.9%
|
| 8 | ヴィスコ・テクノロジーズ株式会社 |
4.9%
|
| 9 | 株式会社SCREENホールディングス |
4.3%
|
| 10 | 吉川工業株式会社 |
4.3%
|
項目別
使用用途
#欠陥検出
#ウェハ検査
#部品検査
#表面検査
#搬送収納
#高精度検査
#チップ検査
#2D3D測定
対象工程
ウェハ検査装置
パッケージ外観検査装置
ダイシング後検査装置
ワイヤボンディング検査装置
検査方式
2Dビジョン検査型
3D検査型
対応サイズ・形状
小型チップ対応型
大判ウェハ対応型
立体部品・BGA対応型
対応ウェーハサイズ mm
50 - 150
150 - 200
200 - 300
マシンサイクルタイム pcs/sec
1 - 5
5 - 10
10 - 15
画像処理部構成 台
2 - 4
4 - 8
処理時間 個/分
0 - 100
100 - 500
500 - 1,000
1,000 - 5,000
日本電子株式会社
330人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
37.8時間 返答時間
JEM-ACE200Fは操作ワークフローのレシピを作成することによって、オペレーターは直接電子顕微鏡操作を行わなくてもデータを取得できるシ...
入江株式会社
470人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の早い企業
4.7 会社レビュー
100.0% 返答率
11.5時間 返答時間
ウェーハ表面のパーティクルを高感度に検出することが可能で、半導体製造の歩留まり維持に欠かせない装置です。 ■特長 ・高感度測定⇒短...
株式会社安永
540人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
100.0% 返答率
59.7時間 返答時間
■自動化・省人化への最適なソリューションを提案します 安永の機械装置事業はミシンアームベッドの加工機から始まり、穴あけ切削加工・...
2種類の品番
三谷商事株式会社
830人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
14.7時間 返答時間
CosmoFinderは画像処理、画像計測のプロである三谷商事が作る自動外観検査装置です。 「6“ウェハ全面検査10分@5xレンズ」のスピードを確...
2種類の品番
ニデックアドバンステクノロジー株式会社
260人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の早い企業
100.0% 返答率
7.7時間 返答時間
Gold Bump Wafer Process 2D/3D Inspection System Cuピラーバンプ、金バンプ、低段差バンプやマイクロバンプの量産全数検査に最適な高...
リンクステック株式会社
30人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
■概要 ・ポリイミドで絶縁被膜された銅ワイヤで 交差配線が可能な為、一層あたりの高密度化が可能になり層数低減を実現。 ・クロストー...
ハイソル株式会社
400人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.5時間 返答時間
V2000ブライトライトシステムは、使いやすく効率的にウェハ表面のさまざまなタイプの欠陥を検査することができます。システムは自動また...
アローズエンジニアリング株式会社
130人以上が見ています
100.0% 返答率
136.7時間 返答時間
■概要 カセットtoカセット方式のウェハエッジ自動検査機です。1枚の検査時間10秒、タクト30秒の高スループットを実現。25枚収納カセット...
株式会社中央電機計器製作所
470人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
23.6時間 返答時間
生産ライン上でベクトル周波数アナライザを用いてウエハの周波数特性を検査します。複数の電圧出力設定が可能です。 ■特徴 ・PXIシステ...
ハイメカ株式会社
260人以上が見ています
最新の閲覧: 19時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
34.9時間 返答時間
■特徴 ・ダイシングされたウェハやチップ部品をピックアップし外観検査や電気特性検査後、良品を回収します。 ・画像処理による完全非接...
株式会社オプトサイエンス
320人以上が見ています
返信の比較的早い企業
4.0 会社レビュー
100.0% 返答率
32.3時間 返答時間
オプティクス、ウェハーなどの表面の傷や汚れを自動で検出します。測定はすべて自動で、ISO 10110-7 に準拠して行われ、オペレーターの...
株式会社安永
380人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
59.7時間 返答時間
■自動化・省人化への最適なソリューションを提案します 安永の機械装置事業はミシンアームベッドの加工機から始まり、穴あけ切削加工・...
日本電子株式会社
340人以上が見ています
最新の閲覧: 11時間前
100.0% 返答率
37.8時間 返答時間
■自動観察分析機能"Neo Action" 直感的な操作で、誰でも簡単にSEM観察やEDS分析を自動化することができます。 ■SEM自動調整パッケージ ...
株式会社エイチ・ティー・エル
40人以上が見ています
AM-OLED用高精度大型フォトマスク・ハーフトーンマスク対応の最新モデル ■特長 ・高速、高分解能、Die to Database、Die to Die検査 ・...
株式会社ヒューブレイン
600人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
・本装置は、表裏画像検査とトレイ詰め機能を併せ持つ複合機です。 ・表裏面検査用に高画素カメラを搭載し、微細な傷や表面不良を確実に...
入江株式会社
350人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
返信の早い企業
4.7 会社レビュー
100.0% 返答率
11.5時間 返答時間
ウェハー表面装置WM-10は90～65nmプロセスノードに最適、低価格で高性能 ■特長・用途 ・高出力Violet-LDの採用により、最高検出感度48n...
オカノ電機株式会社
280人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
100.0% 返答率
88.3時間 返答時間
チップ部品の表面 (4面/6面) をオカノ独自のソフトを用いて画像処理で判定。検査精度の安定性とワークへのダメージレスを考慮した装置設...
株式会社安永
460人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
59.7時間 返答時間
■自動化・省人化への最適なソリューションを提案します 安永の機械装置事業はミシンアームベッドの加工機から始まり、穴あけ切削加工・...
ニデックアドバンステクノロジー株式会社
250人以上が見ています
最新の閲覧: 18時間前
返信の早い企業
100.0% 返答率
7.7時間 返答時間
■特徴 ・超高速・高精度検査 ・2D/3D同時測定システム ・バンプ径/ピッチ微細化対応
オカノ電機株式会社
400人以上が見ています
100.0% 返答率
88.3時間 返答時間
■装置概要 本装置は、パーツフィーダーから供給されたチップ部品の外観を6台 (4台) のカメラを使用して、6面 (4面) を精密安定検査を高...
株式会社安永
420人以上が見ています
最新の閲覧: 15時間前
100.0% 返答率
59.7時間 返答時間
■自動化・省人化への最適なソリューションを提案します 安永の機械装置事業はミシンアームベッドの加工機から始まり、穴あけ切削加工・...
2種類の品番
株式会社エイチ・ティー・エル
40人以上が見ています
FPD用フォトマスクの線幅、開口径、Total pitchや座標位置などの寸法を自動測定 ■特長 ・高位置決め精度、高平坦度を誇るエアスライダ...
ニデックアドバンステクノロジー株式会社
270人以上が見ています
返信の早い企業
100.0% 返答率
7.7時間 返答時間
■特徴 ・超高速・高精度検査 ・2D/3D同時測定システム ・バンプ径/ピッチ微細化対応
ニデックアドバンステクノロジー株式会社
260人以上が見ています
返信の早い企業
100.0% 返答率
7.7時間 返答時間
■特徴 ・超高速・高精度検査 ・2D/3D同時測定システム ・バンプ径/ピッチ微細化対応
株式会社エイチ・ティー・エル
30人以上が見ています
FPD用フォトマスクのCD (パターン寸法) を正確に測定。 ■特長 ・長期安定性と防振性に優れた高精度XYステージとリニアスケールによる正...
ニデックアドバンステクノロジー株式会社
290人以上が見ています
返信の早い企業
100.0% 返答率
7.7時間 返答時間
■特徴 ・3D/2D/SDの同時測定を高速・高精度に実現 ・金バンプ3D検査に最適 ・多様な搬送システム ■High Accuracy 2D/3D測定精度が大き...
株式会社エイチ・ティー・エル
60人以上が見ています
半導体用フォトマスク上にあるパターンの欠陥、異物検査を高速、高精度で行う欠陥検査装置 ■特長 ・高速、高分解能でDie to Database、...
株式会社エイチ・ティー・エル
50人以上が見ています
半導体用フォトマスク上にあるパターンの位置を高精度に測定する精密座標測定機。 ■特長 ・高剛性な顕微鏡システムを搭載し、ドリフト...
ハイメカ株式会社
290人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
34.9時間 返答時間
■特徴 ・ダイシングされたウェハやチップ部品をピックアップし外観検査や電気特性検査後、良品を回収します。 ・画像処理による完全非接...
ハイメカ株式会社
300人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
34.9時間 返答時間
■特徴 ・ダイシングされたウェハやチップ部品をピックアップし外観検査や電気特性検査後、良品を回収します。 ・画像処理による完全非接...
検索結果 43件 (1ページ/2ページ)
半導体外観検査装置とは、半導体の製造過程のウェハーや半導体チップの不良を外観上で検査する装置です。
半導体の主な製造工程としては、印刷の原版に相当するフォトマスク製造工程、半導体の基盤となるウェハー製造工程、フォトマスクを使ってウェハー上に微細な回路構造を形成していく前工程、回路形成後に半導体チップを個別パッケージングする後工程があり、詳細に見れば数百の工程が存在します。
近年の半導体の微細加工技術は数ナノ (髪の毛の太さの約1万分の1) という領域に達すると同時にウェハーも大口径化し、数十億個のトランジスタを搭載した半導体チップが1枚のウェハーから数千個作られるようになっています。
このような生産性を誇る半導体製造工程で検査装置は極めて重要であり、早期の不良品選別、コスト削減、品質や信頼性の向上に繋がっています。半導体外観検査装置を選定する基準としては、ウェハーの径、使用する工程、検出する不良の種類を考慮する必要があります。
半導体外観検査装置は、半導体製造工程の様々なフェーズで使用されます。
半導体外観検査装置を使用して検出する不良としては、フォトマスクやウェハーのゆがみや割れ、傷、異物の付着、前工程で形成される回路パターンのずれ、寸法の不良、後工程でのパッケージングの不良等、様々なケースが挙げられます。
このため、工程ごとに適切な半導体外観検査装置やソフトウェアを選定する必要があると共に、検査を高速化、省人化するために、AI等を駆使した自動化が進められています。
半導体外観検査装置は、計測する装置と計測したデータを処理するソフトウェア、適切な計測を行うための設備で構成されます。
計測する装置としては、高解像度カメラや電子顕微鏡、レーザー計測器が使用されます。計測したデータを処理するソフトウェアは、検査する工程に応じたアルゴリズムが開発されています。適切な計測を行うための設備として、振動を抑える設備やライトを当てる設備も必要です。半導体外観検査装置の中心となる画像撮像技術、画像処理技術、欠陥分類技術を以下に説明します。
ウェハーはシリコンを代表とする半導体の原料を、インゴットと呼ばれる円柱状の単結晶素材として成形し、1mm程度の厚さにスライスして表面を研磨したものであり、その直径は最近では12インチ (約30cm) となっています。
ウェハーの欠陥には、付着した異物だけでなく、ウェハー自体にある表面のキズやクラック、加工ムラ、結晶欠陥などがあり、主にレーザー光照射によりその欠陥を検出することがウェハー製造工程での外観検査です。
前工程はウェハー状態のまま進められ、そこで発生する欠陥には主に2種類の欠陥があり、ランダムとシステマチックと呼ばれます。ランダムな欠陥は、主として異物の混入によって起きる不具合ですが、ランダム故にその発生場所は予測不能です。そのためウェハー上にあるランダムな欠陥を画像処理により検出します。一方、システマチックな欠陥はフォトマスクや露光工程条件、例えばフォトマスク上に付着したパーティクルが原因で発生する欠陥であり、ウェハー上に並ぶ各半導体チップの同じ場所に発生する傾向にあります。
後工程ではウェハーを各チップに切断 (ダイシング) し、樹脂やセラミックのパッケージに収納し、チップ上の端子とパッケージ側の端子を接続 (ワイヤボンディング) し、封止します。後上程では電気的な検査が主となりますが、外観検査としてワイヤボンディング不良や品番の印字不良などの検査が行われます。
一般的に、製造工程での外観検査は汚れや傷等の確認を目的とする場合も多く、製品の機能や性能とは関係無いケースもありますが、半導体製造での汚れや傷などは単なる見かけ上の問題ではなく、ほぼ全てのケースで機能や性能に影響する問題です。
半導体は電子デバイスであり、他の電気・電子デバイスのように電気的な検査も行われますが、数十億個のトランジスタとそれらを接続する配線の全てを検査することは非常に困難であり、トランジスタのゲートや配線の細り等は外観検査でしか確認できません。
数ナノという微細レベルの半導体プロセスでは、1本の配線の太さや隣接する配線の間隔が数ナノになります。
ここにナノオーダーの不良が存在すると配線ショートや断線の原因となります。更にこの1/10の大きさの不良により配線幅が設計値の90%の太さになった場合でも、配線の抵抗値や容量が変化してしまいます。この配線に電流が流れた時、電子の移動により金属原子が移動するエレクトロマイグレーションという現象が起こることで急速に配線が細くなり、短期間で断線が発生する原因になります。
このように半導体製造では極めて微細な精度での外観検査が要求され、微細加工技術の進化に伴い、今後も要求精度はより高まっていきます。
参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/pscjspe/2013S/0/2013S_39/_pdf
https://www.hitachi-hightech.com/jp/products/device/semiconductor/inspection.html
https://www.hitachi-hightech.com/jp/products/device/semiconductor/process.html
