制御・計測・センシング
駆動・機械要素・電子制御部品
産業別カテゴリ
電源・エネルギー・熱処理機器
安全・保護・環境対策
材料・素材・ケミカル
電気・電子部品
構造部品・締結要素
ソフトウェア・ネットワーク
サービス
その他
全てのカテゴリ
閲覧履歴
ステッパのメーカー17社一覧や企業ランキングを掲載中！ステッパ関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:株式会社ニコン、2位:壺坂電機株式会社、3位:株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズとなっています。 ステッパの概要、用途、原理もチェック！
ステッパとは、半導体や液晶の製造工程であるフォトリソグラフィ (photolithography) で用いられる投影露光装置のことです。
IC回路パターンの微細化に伴い、実寸大のフォトマスクパターンの作成が困難になってきており、実寸より大きなマスクパターンを縮小投影露光する際に、ステップアンドリピート方式で露光を行う露光装置を意味しています。ステップアンドリピート方式とは、半導体ウェーハや液晶の基板に露光する際に、露光エリアをいくつかの区分に分割し、一つの区分を露光すると次の区分に移動 (ステップ) し、露光を繰り返すことを指します (リピート) 。
ステップとリピートを行いながら、露光したいエリア全面の露光を行うタイプの露光装置がステッパです。
2025年8月の注目ランキングベスト6
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 株式会社ニコン |
38.5%
|
| 2 | 壺坂電機株式会社 |
15.4%
|
| 3 | 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ |
15.4%
|
| 4 | キヤノン電子株式会社 |
15.4%
|
| 5 | 株式会社ナノシステムソリューションズ |
7.7%
|
| 6 | ユニオン光学株式会社 |
7.7%
|
IPGフォトニクスジャパン株式会社
490人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
100.0% 返答率
99.8時間 返答時間
IPGのCガン、ピッカー、ハンドヘルドシステムステッパーは、クランプとレーザー溶接ツール (最大4kW) と組み合わせて、抵抗スポット溶接...
キヤノン電子株式会社
450人以上が見ています
100.0% 返答率
206.6時間 返答時間
特長 ■多様な特殊基板・小型基板に対応 実績のあるi線ステッパー「FPA-3030i5+」と共通のウエハー搬送システムを搭載し、IoT関連デバイ...
IPGフォトニクスジャパン株式会社
640人以上が見ています
最新の閲覧: 34分前
100.0% 返答率
99.8時間 返答時間
IPGのCガン、ピッカー、ハンドヘルドシステムステッパーは、クランプとレーザー溶接ツール (最大4kW) と組み合わせて、抵抗スポット溶接...
2種類の品番
株式会社三明
310人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
85.5時間 返答時間
■3種類のナノインプリント装置 ・小型モールド。ナノインプリントステッパー ・一括全面転写。大型モールドを使用し全面一括 ・平板ロー...
IPGフォトニクスジャパン株式会社
460人以上が見ています
最新の閲覧: 15時間前
100.0% 返答率
99.8時間 返答時間
IPGのCガン、ピッカー、ハンドヘルドシステムステッパーは、クランプとレーザー溶接ツール (最大4kW) と組み合わせて、抵抗スポット溶接...
IPGフォトニクスジャパン株式会社
640人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
100.0% 返答率
99.8時間 返答時間
IPGのCガン、ピッカー、ハンドヘルドシステムステッパーは、クランプとレーザー溶接ツール (最大4kW) と組み合わせて、抵抗スポット溶接...
2種類の品番
IPGフォトニクスジャパン株式会社
400人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
99.8時間 返答時間
IPGのCガン、ピッカー、ハンドヘルドシステムステッパーは、クランプとレーザー溶接ツール (最大4kW) と組み合わせて、抵抗スポット溶接...
株式会社三明
270人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
85.5時間 返答時間
上下両面に高位置精度パターニング
株式会社菱光社
350人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
返信の比較的早い企業
4.7 会社レビュー
100.0% 返答率
22.0時間 返答時間
■特長 ・他品種・小ロット生産や実験・研究に最適な手動露光装置。 (有効露光範囲φ6 inch) ・フットプリントを縮小することで省スペー...
ユニオン光学株式会社
420人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
12.9時間 返答時間
■概要 本製品は、省スペースで手軽に扱え、しかも高性能・低価格、大学・企業研究室用として最適なマスクアライナです.本製品の特徴は、...
壺坂電機株式会社
380人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
0.8時間 返答時間
■特長 ・平行度を保証した露光焼付装置 ・超高圧水銀ランプ2kWを搭載 ・専用PCソフトウェアとシャッターコントローラーから制御 ・マス...
株式会社協同インターナショナル
400人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
100.0% 返答率
35.9時間 返答時間
■PhableR 100は、300nmピッチ以下の高解像度を実現 ・PhableR 100 は、EULITHA社独自の露光技術であるPHABLE (Photonics Enablerの短縮...
株式会社サーマプレシジョン
70人以上が見ています
特長 ・8インチ以下は「一括露光方式」、12インチor□300mm基板は「ステップ＆リピート露光方式」の選択が可能 ・露光エリアが広い為、高...
株式会社サーマプレシジョン
130人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
■特長 ・L/S＝1.4/1.4um量産プロセスに対応 ・650×550mmのフルパネル量産に対応 ・ダイバイダイアライメン＆グローバルアライメント方式...
泉谷機械工業株式会社
540人以上が見ています
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
1.6時間 返答時間
クリーンルーム内におけるPCB (プリントサーキットボード) 製造の露光 (焼付) 装置。ナノテクノロジー時代の現在、クリーンルームにおい...
株式会社菱光社
310人以上が見ています
返信の比較的早い企業
4.7 会社レビュー
100.0% 返答率
22.0時間 返答時間
■特長 ・全機能がコンパクトに一体化 ・当社スタンダード機よりタクト20％アップを実現 ・用途により、2種類のアライメント方式を選択可...
株式会社協同インターナショナル
310人以上が見ています
最新の閲覧: 18時間前
100.0% 返答率
35.9時間 返答時間
Model 200マスクアライナーはテーブルトップ装置で、R&Dや大学向けに適したリーズナブルでシンプルなシステムです。 ■マスクアライナー...
壺坂電機株式会社
370人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
0.8時間 返答時間
■特長 ・フォトリソグラフィ工程における簡易露光焼付装置 ・卓上型・一体型のため省スペース ・カラー液晶と十字キーを装備 ・照射時間...
株式会社協同インターナショナル
260人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
35.9時間 返答時間
最大12”までの中型基板に適したベンチトップタイプのR&D用マスクアライナーです。 ■マスクアライナー マスクアライナーとは紫外線を用...
株式会社協同インターナショナル
350人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
35.9時間 返答時間
Model 800Eセミオート両面マスクアライナーは、光学両面アライメント機能を兼ね備えたハードパッケージに搭載されたシステムです。装置...
株式会社協同インターナショナル
360人以上が見ています
100.0% 返答率
35.9時間 返答時間
Model 6000はフルオートマチック、オールコンピューター制御、光学裏面密着露光の機能を兼ね備えたマスクアライナーシステムです。スル...
株式会社協同インターナショナル
410人以上が見ています
100.0% 返答率
35.9時間 返答時間
Model 6020は大きめのフォーマットに適したマスクアライメント露光システムです。フラットパネルディスプレイやその他の大型基板 (最大2...
株式会社協同インターナショナル
380人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
100.0% 返答率
35.9時間 返答時間
Model 2000はフラッド露光またはエッジビード露光が可能なフルオートマチックタイプの装置です。シャドウマスク技術が貴重なエッジビー...
株式会社協同インターナショナル
450人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
100.0% 返答率
35.9時間 返答時間
PhableR100はタルボ効果を用いることにより周期構造に対して ハーフピッチ150nmの微細で一括露光できる特殊な装置です。 電子ビーム描画...
日本電波工業株式会社
180人以上が見ています
最新の閲覧: 23時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
34.1時間 返答時間
■製品の特長 ・使用される光学製品 水晶波長板 ・弊社独自の高純度人工水晶を使用することで、波長193nmなどの真空紫外領域も高い透過率...
株式会社三明
260人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
85.5時間 返答時間
量産工程用 全自動露光装置 ■特徴 ・高い汎用性 (〇型 □型 試料対応) ・信頼性の高い球面軸受 平行機構 ・シンプル構造で低価格を実現
株式会社菱光社
230人以上が見ています
返信の比較的早い企業
4.7 会社レビュー
100.0% 返答率
22.0時間 返答時間
■概要 お客様のご要望にお応え出来る露光機を各社取り揃えております
ステッパとは、半導体や液晶の製造工程であるフォトリソグラフィ (photolithography) で用いられる投影露光装置のことです。
IC回路パターンの微細化に伴い、実寸大のフォトマスクパターンの作成が困難になってきており、実寸より大きなマスクパターンを縮小投影露光する際に、ステップアンドリピート方式で露光を行う露光装置を意味しています。ステップアンドリピート方式とは、半導体ウェーハや液晶の基板に露光する際に、露光エリアをいくつかの区分に分割し、一つの区分を露光すると次の区分に移動 (ステップ) し、露光を繰り返すことを指します (リピート) 。
ステップとリピートを行いながら、露光したいエリア全面の露光を行うタイプの露光装置がステッパです。
ステッパの使用用途は、半導体や液晶の製造の中で特にフォトリソグラフィ工程でのマスクを用いた露光処理を行うために用いられます。
ステッパの方式には、一回で転写できる領域が小さいことからウェーハをステップさせながら逐次露光をするステップアンドリピート方式と、スキャナーと呼ばれるレチクルとウェーハを投影倍率に応じた速度で同期させてスキャンすることで露光を行うタイプがあり、後者はステッパとは区別され、スキャナーとして扱われる場合があります。
ステッパは、大口径のウェーハや液晶に対して縮小投影露光を高速で行うために、高い解像度を得る波長の短い光源と、レチクル上のICマスクのパターンを投影露光したのち、ステージを移動させウェーハに複数のパターンの露光を繰り返す動作を実施します。ステッパの内部の構造は、露光光源、投影レンズ、ウェーハステージ、ウェーハローダでなどです。
露光光源はICの大規模集積化の要求に伴い、波長が短いものが利用されるようになりました。微細化が望まれ、一般的に露光に用いる光の波長が短いほど高解像度が得られるためです。90年代は365nmのi線が中心でしたが、その後Krf (波長248nm) 、Arf (波長193nm) と短波長化が進んでいます。
ウェーハステージは、ICなどの半導体をより速くより多く生産性高く作るために、ウェーハを高速に動かすステージです。高速に動かすのはもちろんのこと、微細な加工のため、高い位置決め精度が求められます。ウェーハローダは、ウェーハステージからウェーハを取り外したり、ウェーハを置いたりなどウェーハの搬送を担います。
IC製造に異物の付着などは大敵で、その繊細なウェーハの出し入れを高速に行うことが必要です。ステッパは、上記のような構成でウェーハをステップさせながら逐次露光を行います。
昨今のステッパやスキャナー装置はその精密さの要求の高さから、大規模な機構が施されており、1台あたりの単価も上昇しています。よって配線プロセスノードの微細化に伴い、いきなり光源や装置の機構を大きく変えるのは好ましくなく、何世代も装置の改良により使いこなそうとする傾向にあります。
それらを実現する技術の一つが「液浸」です。液浸とは、光源の露光解像度を高めるべく、純水などの溶液をウェーハ上のレジストと投影レンズの間に挿入し、光の波長を空気中に比較して短くすることで、露光解像度を上げる手法を指します。最先端のフォトリソグラフィ工程で用いられている技術の一つです。
EUVリソグラフィ (Extreme ultraviolet lithography) は、波長13.5nmで露光可能な、数nmの最先端プロセスノード向けの次世代露光技術の中心的存在であり、極端紫外線リソグラフィと呼ばれています。最先端プロセスでしのぎを削る世界の大手半導体メーカーはこの技術を活用していますが、現在このEUVリソグラフィ装置を実用化できているメーカーは、2022年現在において世界で1社のみの寡占状態になっています。
参考文献
https://www.ushio.co.jp/jp/technology/glossary/glossary_sa/stepper.html
https://www.tochigi-nikon-precision.co.jp/stepper/structure/index.htm
http://sts.kahaku.go.jp/diversity/document/system/pdf/022.pdf
