全てのカテゴリ
閲覧履歴
成膜装置のメーカー32社一覧や企業ランキングを掲載中!成膜装置関連企業の2025年7月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:ジオマテック株式会社となっています。 成膜装置の概要、用途、原理もチェック!
成膜装置とは、その名の通り膜を作成するための装置のことです。
薄膜の厚さや純度、有機物・無機物に応じて、さまざまな種類の成膜装置が開発されており、例えば半導体関連の材料のように高純度で均一な膜が必要な場合は、高真空の成膜装置が利用されます。
一方、フィルムのような大面積で大量生産が求められる製品に対しては、ロールトゥロール式やバッチ式などの方法が選択されます。また、溶液を乾燥させて成膜する際には、スピンコート式やインクジェット式といった装置が活用され、溶液を塗布した後、乾燥させて成膜を行うことが可能です。
成膜装置は、用途や条件に応じて適切なタイプを選択することが重要です。その選択によって、より効率的で高品質な製品の開発が可能となります。
2025年7月の注目ランキングベスト10
順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | ジャパンクリエイト株式会社 |
18.5%
|
2 | 新明和工業株式会社 |
11.8%
|
3 | ジオマテック株式会社 |
9.2%
|
4 | 住友精密工業株式会社 |
5.9%
|
5 | 長州産業株式会社 |
5.0%
|
6 | JSWアフティ株式会社 |
5.0%
|
7 | 株式会社オプトラン |
4.2%
|
8 | 株式会社シンクロン |
4.2%
|
9 | 大亜真空株式会社 |
3.4%
|
10 | 株式会社トヤマ |
3.4%
|
項目別
使用用途
#光学部品製造
#太陽電池製造
#ディスプレイ製造
#表面改質
#機能性材料研究
#材料評価
成膜方式
蒸着法
スパッタリング法
CVD法
ALD法
溶液法
構成環境
真空型
低圧型
プラズマ利用有無
プラズマ無し
プラズマ援用型
高周波プラズマ型
基板搬送方式
固定基板型
回転基板型
到達圧力 Pa
0 - 0.01
0.01 - 1
1 - 10
基板サイズ mm
25 - 50
50 - 100
100 - 150
150 - 200
設置面積 m²
1 - 5
5 - 10
10 - 20
所要電力 kVA
10 - 15
15 - 20
20 - 25
25 - 30
30 - 35
真空槽 mm
500 - 800
800 - 1,000
基板バイアス V
0 - 5,000
5,000 - 25,000
56 点の製品がみつかりました
56 点の製品
ナノテック株式会社
930人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
16.8時間 返答時間
ダイヤモンドの性質に近い高硬度 (マイクロビッカース硬度2,000~4, 000) 、低摩擦係数 (μ=0.2以下) 、表面平滑性及び耐溶着性・離...
3種類の品番
ナノテック株式会社
910人以上が見ています
最新の閲覧: 33分前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
16.8時間 返答時間
DLCを含む高機能性を持つカーボン膜による超鏡面性,導電性,耐熱性,撥水性,アルミニウム合金用,光学用,絶縁性,環境調和型を付与したコー...
3種類の品番
ナノテック株式会社
780人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
16.8時間 返答時間
低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC) 膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の...
3種類の品番
ナノテック株式会社
860人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
16.8時間 返答時間
イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータ...
3種類の品番
北野精機株式会社
320人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■蒸着室/特徴 ・超高真空蒸着 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大9本取付可能 ・基盤サイズ1~3インチと幅広く選択が可能 ・...
北野精機株式会社
360人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・有機材料と金...
北野精機株式会社
360人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・有機材料と金...
北野精機株式会社
410人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・3軸ロボット機...
北野精機株式会社
320人以上が見ています
最新の閲覧: 23時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・搬送機構にて...
北野精機株式会社
370人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■特徴 本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング超高真空薄膜作製装置です。均一な成膜が可能...
北野精機株式会社
330人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング装置です。弊社独自のロードロック室を設けた、超高...
北野精機株式会社
340人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■特徴 本装置は電子ビーム (EB) を用いた高融点金属蒸着装置です。本装置には高い材料使用効率と高い膜特性を実現するために自転・公転...
TP技研株式会社
160人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
33.7時間 返答時間
回転遠心力を利用した塗布装置です。平滑な塗布物の上面に均等に薄膜をつくることができます。
アリオス株式会社
370人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.4時間 返答時間
■概要 本装置は、ダイヤモンド合成を本格的に行うためのホットフィラメント型CVD装置です。基本システムに加え各種オプションを選択する...
アリオス株式会社
390人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.4時間 返答時間
■概要 本装置は、試料の表面に均一に成膜させるため、ドラム型の試料ホルダに試料を入れ、回転させながら成膜を行います。試料ホルダの...
テルモセラ・ジャパン株式会社
320人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
29.2時間 返答時間
■MiniLab ʻPlug & Playʼ 感覚でコンポーネントを組合せるモジュラーデザイン。必要な成膜条件を満たす専用機のセミカスタムメイドが可能...
テルモセラ・ジャパン株式会社
140人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
29.2時間 返答時間
特徴 ■高品質膜 研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を揃えます。nanoシリーズは魂魄と...
テルモセラ・ジャパン株式会社
90人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
29.2時間 返答時間
■概要 nano benchtop シリーズのラインナップに新たに加わった「蒸着」「スパッタ」混在型、” 3-in-1” マルチ薄膜実験装置 小型チャンバ...
株式会社昭和真空
10人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■金属薄膜用蒸着装置のコンパクトモデル 抵抗加熱式蒸発源もしくは電子ビーム蒸発源による金属材料の成膜が可能です。研究開発・小ロッ...
株式会社昭和真空
10人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■金属薄膜用蒸着装置のコンパクトモデル 抵抗加熱式蒸発源もしくは電子ビーム蒸発源による金属材料の成膜が可能です。研究開発・小ロッ...
株式会社昭和真空
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■二種類の膜を片面ずつ成膜可能なスパッタリング装置 基板反転機構を利用し両面成膜機構を採用した小型カルーセル式スパッタリング装置...
株式会社昭和真空
10人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■小ロット・短いサイクルタイムで回せるスパッタリング装置 本装置は大型の製品にスパッタ・重合成膜が可能にもかかわらずハイサイクル...
株式会社昭和真空
10人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能 射出成型機と本装置を連動させて成形→金属膜 (Al) →保護膜 (SiOx) を簡単に全自動成膜...
株式会社昭和真空
10人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■加飾膜などに適したスタンダードモデル 各種金属膜の成膜が可能です。基板台車を2台付属しており、成膜中に基板交換、蒸着材料交換が可...
株式会社日本シード研究所
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜、抵抗加熱蒸着などの多用...
株式会社日本シード研究所
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■概要 ・超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜に加え、イオ...
株式会社日本シード研究所
10人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜、抵抗加熱蒸着などの多用...
株式会社日本シード研究所
10人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■概要 ・超伝導転移端センサ― (TES) に適合するチタン、金の積層膜を作製することができます。 ・蒸着方式となっており、電子銃、抵抗加...
株式会社日本シード研究所
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■概要 ・抵抗加熱式の蒸着装置となっており、金属膜、有機膜を作製することができます。 ・直感的に操作が行える手動装置の為、簡易的な...
株式会社日本シード研究所
10人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■概要 ・コールドウォール式の熱CVD装置です。最高800℃の加熱制御が行えます。 ・成膜基板およびその近傍を加熱する構造の為、原料を効...
株式会社シンクロン
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■概要 光学薄膜から金属膜まで、成膜に関する幅広い要求に対応できる、汎用性の高い蒸着装置です。高水準の性能や量産性はそのままに、...
株式会社シンクロン
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■用途 光学 ■特徴 ・分割ドームを用いて、一度に大量のレンズを成膜することができます ・低温成膜に最適な基板加熱方式を採用するとと...
株式会社シンクロン
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■概要 半導体・電子市場に適したCtoC対応クラスター型RAS方式成膜装置 ■特徴 ・ロードロック構造により高スループットで誘電体成膜を実...
株式会社シンクロン
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
■概要 RASシリーズ史上最高の生産性を実現することを目的に開発された装置です。 ドラムの大型化と装置のコンパクト化の両立を実現させ...
株式会社オプトラン
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
株式会社オプトラン
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
株式会社オプトラン
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
株式会社オプトラン
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
株式会社オプトラン
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
株式会社オプトラン
10人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
SPOC-1100は、5G光通信向けDWDM/CWDMフィルタに適応した光学薄膜形成装置です。高精度での膜厚制御により様々な超多層光学フィルタを生...
株式会社オプトラン
30人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
本装置は反射防止膜を大量生産するために設計製作された光学薄膜形成装置です。 ■特長 ・ドーム回転は磁気シール駆動による中心回転方...
株式会社オプトラン
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
本装置は防汚膜 (AS) 、反射防止膜 (AR) だけでなく、両者を組み合せた成膜 (AR+AS) に特化した大型光学薄膜形成装置です。 ■特長 ・ド...
株式会社オプトラン
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
Gener-2750は加飾膜、反射防止膜 (AR) 、防汚膜 (AS) を成膜する大型IAD装置です。 ■特長 ・ドーム径φ2,640 ・高いスループット・大量...
株式会社オプトラン
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
RPDシリーズは、高性能なLED 機能性膜 (ITO/AlN) を低コストにて量産することができる反応性プラズマ成膜装置です。 ■特長 ・反応性プ...
株式会社オプトラン
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
NSC-15はメタル (金属) モード・スパッタリング法と高反応性プラズマ源を組み合せた量産用光学薄膜スパッタ装置です。高スループットを...
株式会社オプトラン
10人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
NSC-2350は大型基板に対応した光学薄膜用メタルモード・スパッタ装置です。モバイル端末や車載パネルのAR+AS膜の生産に適しています。 ...
株式会社オプトラン
20人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
OWLS-1800は半導体光学に向け、新たに開発した水平型メタルモード・スパッタ成膜装置です。最大12インチのウェハーに対応し、両面同時成...
株式会社オプトラン
20人以上が見ています
ALDER-1000は従来の成膜手法では成しえなかった光学特性を実現します。立体形状への成膜が可能で、カメラレンズへのAR膜はゴースト・フ...
成膜装置とは、その名の通り膜を作成するための装置のことです。
薄膜の厚さや純度、有機物・無機物に応じて、さまざまな種類の成膜装置が開発されており、例えば半導体関連の材料のように高純度で均一な膜が必要な場合は、高真空の成膜装置が利用されます。
一方、フィルムのような大面積で大量生産が求められる製品に対しては、ロールトゥロール式やバッチ式などの方法が選択されます。また、溶液を乾燥させて成膜する際には、スピンコート式やインクジェット式といった装置が活用され、溶液を塗布した後、乾燥させて成膜を行うことが可能です。
成膜装置は、用途や条件に応じて適切なタイプを選択することが重要です。その選択によって、より効率的で高品質な製品の開発が可能となります。
高純度金属酸化物用の成膜装置は、半導体部品など高純度で薄く均一な金属酸化物の成膜に適しており、高真空の成膜装置が用いられます。また、車のヘッドランプやカメラレンズなど、光の反射を抑制する薄い金属反射膜を表面に成膜する際にも同様の装置が利用可能です。
一方、樹脂フィルムや薄い金属箔など大量生産が求められる製品には、ロールトゥロール式やバッチ式などの成膜装置が適しています。これらの製品はマイクロメートルオーダーの厚みを持ちます。
また、有機EL材料などのプリンテッドエレクトロニクスと呼ばれる有機半導体薄膜は、インクジェット式の成膜装置で作られます。
成膜装置には、高真空成膜装置とロールトゥロール法などの大量生産用成膜装置があります。
高真空の成膜装置は、物理的気相成長法 (PVD) と化学的気相成長法 (CVD) の2種類があります。PVD法には蒸着法とスパッタリング法があり、方法は多種多様です。蒸着法では、膜の材料を加熱して揮発させ、装置上部に取り付けた基板に付着させて膜を成長させます。
スパッタリング法では、電圧によって加速した粒子を膜の材料にぶつけて飛ばし、飛んだ粒子が装置上部に取り付けた基板に付着して膜を成長させます。いずれの方法も、高真空条件で大気中に含まれる酸素などが膜に入らないようにすることで、高純度な膜を得ることが可能です。
ロールトゥロール法とは、ロール状に巻いた基板を回転させながらその上に膜を塗っていく方法です。大量生産や大面積の膜の製造に向いています。
均一な膜を作るためには、サンプル溶液の粘度を一定の範囲に収める必要があります。この粘度は回転数やサンプルの物性によって異なるため、成膜条件の検討の際はサンプルの粘度も考慮することが大切です。
成膜装置と併用される機械として、真空ポンプ、基板ヒーター、エッチング装置、検査装置の4種類が挙げられます。
1. 真空ポンプ
成膜装置では、高純度な膜を作成するために高真空状態が必要です。真空ポンプは、成膜装置内の空気を抜き取って高真空状態を作り出す役割を果たしています。不純物が膜に混入することを防ぎ、品質の高い膜が作成できます。
2. 基板ヒーター
基板ヒーターは、成膜過程で使用される基板の温度を調整する機械です。成膜に適した温度に基板を加熱することで、膜の密着性や均一性が向上し、より高品質な膜が得られます。
3. エッチング装置
成膜後の基板には、所定の形状やパターンを形成するためにエッチングが必要です。エッチング装置は、薬液やプラズマを用いて膜の一部を選択的に除去する機能を持っています。微細な回路パターンなどが形成されることになります。
4. 検査装置
成膜が完了した後には、品質検査が重要です。検査装置は、膜の厚さ、均一性、密着性などの品質を確認するために使用されます。不良品の早期発見や製造プロセスの改善が可能となり、全体の生産効率が向上します。