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超多層薄膜形成装置 SPOC-1100-SPOC-1100
超多層薄膜形成装置 SPOC-1100-株式会社オプトラン

超多層薄膜形成装置 SPOC-1100
株式会社オプトラン



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この製品について

SPOC-1100は、5G光通信向けDWDM/CWDMフィルタに適応した光学薄膜形成装置です。高精度での膜厚制御により様々な超多層光学フィルタを生産します。

■特長

・最適化された高分解能光学膜厚モニタと制御システムにより高精度成膜制御を実現 ・磁気シール高速基板回転機構より高い膜厚均一性を実現 ・大容量Φ600材料ハース電子銃と14点水晶膜厚計で超多層膜に対応 ・最適化されたRFイオンソースにより優れた膜厚・膜質均一性

  • シリーズ

    超多層薄膜形成装置 SPOC-1100

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超多層薄膜形成装置 SPOC-1100 品番1件

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商品画像 品番 価格 (税抜)
超多層薄膜形成装置 SPOC-1100-品番-SPOC-1100

SPOC-1100

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基板搬送方式: 回転基板型

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使用用途

#半導体製造 #光学部品製造 #太陽電池製造 #ディスプレイ製造 #電池材料開発 #センサ開発 #薄膜トランジスタ開発 #表面改質 #機能性材料研究 #MEMS製造 #医療機器製造 #材料評価

成膜方式

蒸着法 スパッタリング法 CVD法 ALD法 溶液法

構成環境

真空型 低圧型

プラズマ利用有無

プラズマ無し プラズマ援用型 高周波プラズマ型

基板搬送方式

固定基板型 回転基板型 ロール搬送型

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650

設置面積 m²

1 - 5 5 - 10 10 - 20

所要電力 kVA

10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35

真空槽 mm

500 - 800 800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000 5,000 - 25,000

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社オプトランは1999年に設立された、真空成膜装置などの製造・輸出入をしている会社です。 複雑な集積回路である大規模集積回路の製造プロセスで、配線膜・絶縁膜を形成する機械である成膜装置、イオン化をするための装置で...

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  • 本社所在地: 東京都

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