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成膜装置 メーカー32社

成膜装置のメーカー32社一覧企業ランキングを掲載中!成膜装置関連企業の2025年7月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:ジオマテック株式会社となっています。 成膜装置の概要、用途、原理もチェック!

32成膜装置メーカー

成膜装置 2025年7月のメーカーランキング


業界別

🧪 化学 💻 電子・電気機器

項目別

使用用途

#半導体製造

#光学部品製造

#太陽電池製造

#電池材料開発

#表面改質

#機能性材料研究

#MEMS製造

成膜方式

蒸着法

スパッタリング法

CVD法

ALD法

溶液法

構成環境

真空型

低圧型

プラズマ利用有無

プラズマ無し

プラズマ援用型

高周波プラズマ型

基板搬送方式

回転基板型

ロール搬送型

到達圧力 Pa

0 - 0.01

0.01 - 1

1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50

50 - 100

100 - 150

150 - 200

300 - 400

400 - 500

500 - 650

設置面積 m²

1 - 5

5 - 10

10 - 20

所要電力 kVA

10 - 15

15 - 20

20 - 25

25 - 30

30 - 35

真空槽 mm

500 - 800

800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000

5,000 - 25,000

100 点の製品がみつかりました

100 点の製品

ナノテック株式会社

DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>

930人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

ダイヤモンドの性質に近い高硬度 (マイクロビッカース硬度2,000~4, 000) 、低摩擦係数 (μ=0.2以下) 、表面平滑性及び耐溶着性・離...

3種類の品番


ナノテック株式会社

ICF成膜装置

910人以上が見ています

最新の閲覧: 33分前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

DLCを含む高機能性を持つカーボン膜による超鏡面性,導電性,耐熱性,撥水性,アルミニウム合金用,光学用,絶縁性,環境調和型を付与したコー...

3種類の品番


ナノテック株式会社

マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>

780人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC) 膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の...

3種類の品番


ナノテック株式会社

PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>

860人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータ...

3種類の品番


ジャパンクリエイト株式会社

圧電膜形成スパッタリング装置

化学業界用 電子・電気機器業界用

440人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

129.3時間 返答時間

■特徴 ・単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜が可能 ・プラズマエミッションモニターを搭載により圧電特性低下に寄与...


株式会社メディア研究所

太陽電池用PECVD成膜装置 GENERIS PECVD

180人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

13.6時間 返答時間

■概要 SINGULUSTECHNOLOGIES社はGENERIS PECVDシステムにおいて最高の効率を備えた最先端の結晶シリコン太陽電池の大量生産 における特...


入江株式会社

真空乾燥装置・真空ベーキング装置 研究開発用成膜装置 キット

160人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の早い企業

4.7 会社レビュー

100.0% 返答率

11.5時間 返答時間

スパッタリング、蒸着装置、プラズマ処理装置 (表面改質、有機物除去等) を低コストでお探しの方に最適です。研究開発用として必要な分...


新明和工業株式会社

装飾膜市場向け真空成膜装置 バッチ式蒸着+プラズマ重合装置 VCD1000AD

150人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■特長 ・縦型2枚扉式により生産性が向上 ・樹脂基板へのダイレクト蒸着と平板対向式放電電極により、高速、高性能な保護膜を成膜 ・蒸着...


新明和工業株式会社

装飾膜市場向け真空成膜装置 バッチ式蒸着+プラズマ重合装置 VCD1300AD

170人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■特長 ・縦型2枚扉式により生産性が向上 ・樹脂基板へのダイレクト蒸着と平板対向式放電電極により、高速、高性能な保護膜を成膜 ・蒸着...


新明和工業株式会社

装飾膜市場向け真空成膜装置 バッチ式蒸着+プラズマ重合装置 VCD1450AD

150人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■特長 ・縦型2枚扉式により生産性が向上 ・樹脂基板へのダイレクト蒸着と平板対向式放電電極により、高速、高性能な保護膜を成膜 ・蒸着...


新明和工業株式会社

装飾膜市場向け真空成膜装置 バッチ式蒸着+プラズマ重合装置 VCD1800AD

170人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■特長 ・縦型2枚扉式により生産性が向上 ・樹脂基板へのダイレクト蒸着と平板対向式放電電極により、高速、高性能な保護膜を成膜 ・蒸着...


新明和工業株式会社

装飾膜市場向け真空成膜装置 バッチ式蒸着+プラズマ重合装置 VRD650AD

170人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■特長 ・縦型2枚扉式により生産性が向上 ・樹脂基板へのダイレクト蒸着と平板対向式放電電極により、高速、高性能な保護膜を成膜 ・蒸着...


新明和工業株式会社

装飾膜市場向け真空成膜装置 バッチ式蒸着+プラズマ重合装置 VRD750AD

130人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■特長 ・縦型2枚扉式により生産性が向上 ・樹脂基板へのダイレクト蒸着と平板対向式放電電極により、高速、高性能な保護膜を成膜 ・蒸着...


新明和工業株式会社

装飾膜市場向け真空成膜装置 バッチ式スパッタ+プラズマ重合装置 VRSP750AD

170人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■特長 ・ロングライフスパッタ電極を採用 ・新開発のプラズマ重合方式により、高速重合と耐食性、親水性の連続成膜が可能 ・ハイパワー...


新明和工業株式会社

装飾膜市場向け真空成膜装置 5槽インラインスパッタ+プラズマ重合システム

110人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

160.0時間 返答時間

■特長 ・RFプラズマによる前処理、DCスパッタ、RFプラズマ重合の連続処理を1分タクトで実現 ・専用循環コンベアを装着し、全自動ライン...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-3100

320人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-3200

280人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-3300

270人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-2100

260人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-2200

250人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-2300

250人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-1100

260人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-1200

240人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


アリオス株式会社

ダイヤモンド合成用MP-CVD装置 DCVD-301B/601B

490人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しま...


アリオス株式会社

小型スパッタ装置 SS-DC RF301

430人以上が見ています

最新の閲覧: 11時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 小型スパッタ装置 SS-DC RF301 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色...


アリオス株式会社

プラズマCVD実験装置 PCVD-R100

360人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分...


アリオス株式会社

スパッタ装置

310人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色は、基板に飛来する粒子が比較...


アリオス株式会社

粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置

390人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 本装置は、試料の表面に均一に成膜させるため、ドラム型の試料ホルダに試料を入れ、回転させながら成膜を行います。試料ホルダの...


テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-GB】 グローブボックス薄膜実験装置 MiniLab-026-GB

140人以上が見ています

最新の閲覧: 16時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

29.2時間 返答時間

■概要 本装置は、MiniLab シリーズのチャンバー部をグローブボックス作業ベンチ内に、制御ラック部をベンチ下に収納した装置です。スパ...


テルモセラ・ジャパン株式会社

MiniLab series フレキシブル薄膜実験装置

320人以上が見ています

最新の閲覧: 9時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

29.2時間 返答時間

■MiniLab ʻPlug & Playʼ 感覚でコンポーネントを組合せるモジュラーデザイン。必要な成膜条件を満たす専用機のセミカスタムメイドが可能...


テルモセラ・ジャパン株式会社

nano Benchtop series コンパクト薄膜実験装置 nanoシリーズ

140人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

29.2時間 返答時間

特徴 ■高品質膜 研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を揃えます。nanoシリーズは魂魄と...


テルモセラ・ジャパン株式会社

蒸着・スパッタソース混在【複合型成膜装置】nanoPVD-ST15A

90人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

29.2時間 返答時間

■概要 nano benchtop シリーズのラインナップに新たに加わった「蒸着」「スパッタ」混在型、” 3-in-1” マルチ薄膜実験装置 小型チャンバ...


株式会社昭和真空

真空蒸着装置 Sapio Series SGC-S900

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター,バンドパスフィルターなど) 、各...


株式会社昭和真空

真空蒸着装置 Sapio Series SGC-S1300

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター,バンドパスフィルターなど) 、各...


株式会社昭和真空

真空蒸着装置 Sapio Series SGC-S1550

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター,バンドパスフィルターなど) 、各...


株式会社昭和真空

真空蒸着装置 Sapio Series SGC-S1700

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター,バンドパスフィルターなど) 、各...


株式会社昭和真空

真空蒸着装置 SEC-22C

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■金属蒸着のスタンダードモデル φ4インチ及びφ6インチウエハに対して電極膜及び酸化膜の成膜が可能です。蒸着物のウエハへの入射角が垂...


株式会社昭和真空

AuSn蒸着装置 SEC-S900C

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■Au/Snの2元同時蒸着が可能な蒸着装置 2元同時蒸着によりAu/Snの組成比管理及び膜厚管理が可能です。また、基板冷却機構及び間欠成膜機...


株式会社昭和真空

耐プラズマ膜用蒸着装置 SEC-S1300i

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■耐腐食性の高いY₂O₃厚膜を成膜し、シールド膜の形成が可能 耐プラズマ膜 (Y₂O₃膜) の厚膜成膜が可能です。イオンアシスト蒸着 (IAD:Io...


株式会社昭和真空

アーク放電型イオンプレーティング装置 SIA-400T

10人以上が見ています

■表面硬化膜形成用/少量生産機・実験機に最適 アーク放電型カソードを搭載したイオンプレーティング装置です。TiN、TiAlN硬化膜の成膜...


株式会社昭和真空

ロードロック式 スパッタリング装置 SPH-2500T-Ⅱ

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■二種類の膜を両面に成膜可能なスパッタリング装置 本装置は水晶振動子のベース電極成膜を目的として開発したロードロック式スパッタリ...


株式会社昭和真空

ロードロック式通過型スパッタリング装置 SPH-2410-Ⅱ

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■二種類の膜を両面に成膜可能なスパッタリング装置 本装置は水晶振動子のベース電極成膜を目的として開発したロードロック式通過型スパ...


株式会社昭和真空

ロードロック式カルーセル型スパッタリング装置 SPC-2507-Ⅱ

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■二種類の膜を片面ずつ成膜可能なスパッタリング装置 基板反転機構を利用し両面成膜機構を採用した小型カルーセル式スパッタリング装置...


株式会社昭和真空

カルーセル型高速スパッタ重合装置 SPP-155TC

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■小ロット・短いサイクルタイムで回せるスパッタリング装置 本装置は大型の製品にスパッタ・重合成膜が可能にもかかわらずハイサイクル...


株式会社昭和真空

射出成型機連動型高速スパッタ・重合システム SPP Series

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能 射出成型機と本装置を連動させて成形→金属膜 (Al) →保護膜 (SiOx) を簡単に全自動成膜...


株式会社昭和真空

バッチ式真空蒸着装置 SDC-1300F

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■加飾膜などに適したスタンダードモデル 各種金属膜の成膜が可能です。基板台車を2台付属しており、成膜中に基板交換、蒸着材料交換が可...


株式会社昭和真空

インライン式スパッタリング装置 SPH-5000 Series

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■大型基板量産用スパッタリング装置 本装置は大型基板へ金属膜、保護膜、透明導電膜等を成膜するインライン式スパッタリング装置です。 ...


株式会社昭和真空

枚葉式スパッタリング装置 SPM Series

20人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

枚葉式の大型スパッタリング装置 ■用途・応用例 各種ウエハ電子部品へのメタル成膜 ■特長 ・φ8インチウエハ対応が可能です。 ・スパッ...


ナノテック株式会社

コーティング装置 小型DLC成膜実験装置 330シリーズ ICF-330

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

弊社のDLC成膜技術をベースに、あらゆる研究開発を目的とする御客様からの要求にお応え出来るように開発された、DLC成膜実験機の最新モ...


株式会社日本シード研究所

複合成膜装置 枚葉式複合成膜装置

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜、抵抗加熱蒸着などの多用...


株式会社日本シード研究所

複合成膜装置 インライン式スパッタ成膜装置

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜に加え、イオ...


株式会社日本シード研究所

複合成膜装置 インライン式複合成膜装置

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜、抵抗加熱蒸着などの多用...


株式会社日本シード研究所

スパッタ成膜装置 ロードロック式スパッタ成膜装置

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜法を活かした高品質・高機...


株式会社日本シード研究所

スパッタ成膜装置 超高真空スパッタ成膜装置

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・斜入射レイアウトのカソードを備えたスパッタ成膜装置です。 ・最大3式のカソードを構成することができ、試料交換室、トランス...


株式会社日本シード研究所

スパッタ成膜装置 縦型スパッタ成膜装置

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・プレーナーカソードを備えた縦型スパッタ成膜装置です。 ・長尺物や立体物、処理数量の多い試料に対して均一性の高い成膜が行え...


株式会社日本シード研究所

スパッタ成膜装置 インライン式超高真空スパッタ成膜装置

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。 ・トランスファーロッドによ...


株式会社日本シード研究所

CVD装置 プラズマCVD装置

20人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

■概要 ・容量結合型プラズマ方式のCVD装置です。 ・加熱機構を備えており、任意の温度に基板を加熱して成膜することが可能です。 ・直感...


株式会社シンクロン

幅広い成膜ニーズに対応 汎用蒸着装置 MIC

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 光学薄膜から金属膜まで、成膜に関する幅広い要求に対応できる、汎用性の高い蒸着装置です。高水準の性能や量産性はそのままに、...


株式会社シンクロン

低散乱な超多層膜形成のための専用機 誘電体超多層膜用装置 EPD

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■用途 光学 ■概要 TiO2/SiO2282層33μmの多層膜において、ラフネスを抑え「低Hazeを実現」。 ■特徴 ・低散乱 (低Haze) な超多層膜を実...


株式会社シンクロン

安定性・量産性に優れたロングセラー機 連続式蒸着装置 CES

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 蒸着室を成膜のたびに大気にさらすことなく、成膜プロセス室を常に高真空に保つことが可能。そのため、屈折率が安定し、高品位な...


株式会社シンクロン

眼鏡レンズ反射防止膜用装置 VISION

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 眼鏡レンズの反射防止膜に特化した専用機 ■用途 光学 ■特徴 ・眼鏡レンズや、曲率のあるレンズ全面に均一な成膜が可能です ・無...


株式会社シンクロン

デジカメやスマホカメラ等の樹脂レンズ成膜に最適 樹脂用バッチ式蒸着装置 ARC

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■用途 光学 ■特徴 ・分割ドームを用いて、一度に大量のレンズを成膜することができます ・低温成膜に最適な基板加熱方式を採用するとと...


株式会社シンクロン

誘電体多層膜用ロードロック式スパッタ装置 RAS

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 独自開発のRAS方式により、優れた生産性・安定性を発揮。シンクロンが独自に開発したRAS (RadicalAssistedSputtering) 方式により...


株式会社シンクロン

電極用成膜装置として広く採用されている高機能機 金属膜用ロードロック式蒸着装置 PMC

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■用途 電子、電気の制御 ■概要 電子デバイスの電極用成膜装置として広く使用されています。 特にSAWフィルターのIDT (InterdigitalTran...


株式会社シンクロン

誘電体多層膜用ロードロック式スパッタ装置 SLS

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■用途 電子、電気の制御 ■概要 誘電体多層膜を主とした電子デバイス市場向けに高機能化。当社RAS方式を電子デバイス向けに発展させ、高...


株式会社シンクロン

イオン源による前処理によりコンタクト抵抗の低減が可能 金属用バッチ式蒸着装置 SIC

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 各種接続端子、電極等の金属薄膜を形成するバッチ式蒸着装置です。金属薄膜を安定的に量産することができます。 ■主な用途 ・電...


株式会社シンクロン

誘電体薄膜用スパッタ装置 CSS-2

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 安定的に誘電体薄膜を形成することが可能。長年培われた当社技術により安定的に誘電体薄膜を形成することができます。SiO2、SiN等...


株式会社シンクロン

様々な電極の成膜に用いられています 透明電極、金属電極用スパッタ装置 BSC

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■用途 電子、電気の制御 ■特徴 ・低抵抗な電極が成膜できます ・誘電体と金属の多層構造が可能です


株式会社シンクロン

半導体、電子部品、PIC市場向け クラスタ型枚葉スパッタリング装置 SCP-SX

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■特徴 ・高精度な結晶性薄膜の成膜が低温プロセスで可能 ・成膜条件や材料に応じた最適なカソード位置・角度での成膜が可能 ・CtoC機能...


株式会社シンクロン

半導体、電子市場向けクラスター型RAS方式成膜装置 SCP-BT

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 半導体・電子市場に適したCtoC対応クラスター型RAS方式成膜装置 ■特徴 ・ロードロック構造により高スループットで誘電体成膜を実...


株式会社シンクロン

材料探索向けスパッタ装置の最高峰 研究開発向け小型多元スパッタ装置 P-RAS

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■用途 電子、電気の制御 ■概要 独自開発したプログラマブルデジタル制御器のもと、多元スパッタ源を複合的に制御できるDPDRS (Digitall...


株式会社シンクロン

RASシリーズ最高の生産性を誇る最新機種 大型基板用スパッタ装置 RAS-2200

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 RASシリーズ史上最高の生産性を実現することを目的に開発された装置です。 ドラムの大型化と装置のコンパクト化の両立を実現させ...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 OTFC-900CBI/DBI

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 OTFC-1100CBI/DBI

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 OTFC-1300CBI/DBI

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OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 OTFC-1550CBI/DBI

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OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 OTFC-1800CBI/DBI

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OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...


株式会社オプトラン

超多層薄膜形成装置 SPOC-1100

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SPOC-1100は、5G光通信向けDWDM/CWDMフィルタに適応した光学薄膜形成装置です。高精度での膜厚制御により様々な超多層光学フィルタを生...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 Gener-1300

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本装置は反射防止膜を大量生産するために設計製作された光学薄膜形成装置です。 ■特長 ・ドーム回転は磁気シール駆動による中心回転方...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 Gener-2350

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本装置は防汚膜 (AS) 、反射防止膜 (AR) だけでなく、両者を組み合せた成膜 (AR+AS) に特化した大型光学薄膜形成装置です。 ■特長 ・ド...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 Gener-2750

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Gener-2750は加飾膜、反射防止膜 (AR) 、防汚膜 (AS) を成膜する大型IAD装置です。 ■特長 ・ドーム径φ2,640 ・高いスループット・大量...


株式会社オプトラン

リアクティブプラズマ蒸着装置 RPD-1000 (ITO/AlN)

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RPDシリーズは、高性能なLED 機能性膜 (ITO/AlN) を低コストにて量産することができる反応性プラズマ成膜装置です。 ■特長 ・反応性プ...


株式会社オプトラン

メタルモードスパッタ装置 NSC-15

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NSC-15はメタル (金属) モード・スパッタリング法と高反応性プラズマ源を組み合せた量産用光学薄膜スパッタ装置です。高スループットを...


株式会社オプトラン

メタルモードスパッタ装置 NSC-2350

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NSC-2350は大型基板に対応した光学薄膜用メタルモード・スパッタ装置です。モバイル端末や車載パネルのAR+AS膜の生産に適しています。 ...


株式会社オプトラン

メタルモードスパッタ装置 OWLS-1800

20人以上が見ています

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OWLS-1800は半導体光学に向け、新たに開発した水平型メタルモード・スパッタ成膜装置です。最大12インチのウェハーに対応し、両面同時成...


株式会社オプトラン

原子層堆積装置 ALDER-800P

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ALDER-800Pはプラスチック基板への光学多層成膜を可能としたプラズマALD装置です。 ■特長 ・レンズ全周や3D構造物へのコンフォーマル成...


株式会社オプトラン

原子層堆積装置 ALDER-1000

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ALDER-1000は従来の成膜手法では成しえなかった光学特性を実現します。立体形状への成膜が可能で、カメラレンズへのAR膜はゴースト・フ...


株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D中型機仕様 PBII―C600

20人以上が見ています

■概要 サイズがコンパクトの為、試験片作製や基礎データ採取に最適な装置になっております。真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮...


株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 中型機仕様 PBII―C2000

10人以上が見ています

■概要 真空装置の長さが約2m、径が1.2mと大きいため、大型ワークへのコーティングも可能です。重量物運搬用に自動搬送台車もオプション...


株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450

10人以上が見ています

■概要 サイズがコンパクトの為、試験片作成や基礎データ採取に最適な装置になっております。真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮...


株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 標準機仕様 PBII―R1000

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■概要 取り扱いが容易なサイズの為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。


株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 標準大型機仕様 PBII―R1500

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■概要 R1000の約4倍の容積を持つ大型機です。R1000と同様の使い易さで大型・長尺ワークへの成膜も可能です。


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