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メタルモードスパッタ装置 NSC-2350取扱企業
株式会社オプトランカテゴリ
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スパッタリング装置の製品119点中、注目ランキング上位6点
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次の条件に該当する商品を1件表示しています
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 真空チャンバ LL室 | 真空チャンバ UL室 | 真空チャンバ 搬送室 | 真空チャンバ PR室 | 基板ホルダ | 基板回転機構 | 反応源 | スパッタ源 | 排気システム | 到達圧力 LL室 | 到達圧力 PR室 | 排気時間 LL室 | 排気時間 PR室 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
NSC-2350 |
要見積もり |
SUS304、W700 × H1,860mm × D1,760mm |
W700 × H1,860 × D1,760mm |
W660 × H1,860 × D1,760mm |
SUS304、φ2,350 × H1,950mm |
15 枚~ 22 枚選択可能 |
φ2,245mm ドラム式、 10rpm ~ 50rpm (可変) |
ICP (誘導結合プラズマ) |
デュアルカソード、ロータリ式 (平板式Option) |
あらびきポンプ、ターボ分子ポンプ、マイスナーチラー |
10Pa |
2.0 × 10^-4 Pa以下 |
8 分 (大気から10Pa まで) |
40 分 (大気から9.0 × 10^-4Pa まで) |
スパッタリング装置の中で同じ条件の製品
基板搬送方式: 回転基板型
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
