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成膜装置 メーカー32社

成膜装置のメーカー32社一覧企業ランキングを掲載中!成膜装置関連企業の2025年7月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:ジオマテック株式会社となっています。 成膜装置の概要、用途、原理もチェック!

32成膜装置メーカー

成膜装置 2025年7月のメーカーランキング


業界別

🧪 化学 💻 電子・電気機器

項目別

使用用途

#半導体製造

#光学部品製造

#太陽電池製造

#表面改質

#機能性材料研究

成膜方式

蒸着法

スパッタリング法

CVD法

ALD法

構成環境

真空型

低圧型

プラズマ利用有無

プラズマ無し

プラズマ援用型

高周波プラズマ型

基板搬送方式

固定基板型

回転基板型

到達圧力 Pa

0 - 0.01

0.01 - 1

1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50

50 - 100

100 - 150

150 - 200

設置面積 m²

5 - 10

10 - 20

所要電力 kVA

10 - 15

15 - 20

20 - 25

25 - 30

30 - 35

真空槽 mm

500 - 800

800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000

5,000 - 25,000

71 点の製品がみつかりました

71 点の製品

ナノテック株式会社

DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>

930人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

ダイヤモンドの性質に近い高硬度 (マイクロビッカース硬度2,000~4, 000) 、低摩擦係数 (μ=0.2以下) 、表面平滑性及び耐溶着性・離...

3種類の品番


ナノテック株式会社

ICF成膜装置

910人以上が見ています

最新の閲覧: 34分前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

DLCを含む高機能性を持つカーボン膜による超鏡面性,導電性,耐熱性,撥水性,アルミニウム合金用,光学用,絶縁性,環境調和型を付与したコー...

3種類の品番


ナノテック株式会社

マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>

780人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC) 膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の...

3種類の品番


ナノテック株式会社

PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>

860人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータ...

3種類の品番


株式会社メディア研究所

太陽電池用PVD成膜装置 GENERIS PVD

220人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

13.6時間 返答時間

■概要 数多くの真空スパッタリング装置が太陽電池製造産業で稼働しており、SINGULUSTECHNOLOGIES社は 水平基板輸送を備えたハイスループ...


アリオス株式会社

ダイヤモンド合成用MP-CVD装置 DCVD-301B/601B

490人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しま...


アリオス株式会社

ダイヤモンド合成用HF-CVD装置 HFCVDシリーズ

370人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 本装置は、ダイヤモンド合成を本格的に行うためのホットフィラメント型CVD装置です。基本システムに加え各種オプションを選択する...


アリオス株式会社

小型スパッタ装置 SS-DC RF301

430人以上が見ています

最新の閲覧: 11時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 小型スパッタ装置 SS-DC RF301 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色...


アリオス株式会社

スパッタ装置

310人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色は、基板に飛来する粒子が比較...


アリオス株式会社

粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置

390人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 本装置は、試料の表面に均一に成膜させるため、ドラム型の試料ホルダに試料を入れ、回転させながら成膜を行います。試料ホルダの...


テルモセラ・ジャパン株式会社

MiniLab series フレキシブル薄膜実験装置

320人以上が見ています

最新の閲覧: 9時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

29.2時間 返答時間

■MiniLab ʻPlug & Playʼ 感覚でコンポーネントを組合せるモジュラーデザイン。必要な成膜条件を満たす専用機のセミカスタムメイドが可能...


テルモセラ・ジャパン株式会社

nano Benchtop series コンパクト薄膜実験装置 nanoシリーズ

140人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

29.2時間 返答時間

特徴 ■高品質膜 研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を揃えます。nanoシリーズは魂魄と...


タツタ電線株式会社

低圧型コールドスプレー装置 CS-TSC100

180人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

コールドスプレーは、従来の溶射と比べて粒子温度が低く固相のまま成膜する技術です。これにより粉体の物理特性を維持し、かつ信頼性の...


株式会社エピクエスト

MBE装置 小型研究用 RC1100

400人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間

パーソナルユースに。低価格、省スペース、しかも高性能を実現した研究用MBE装置です。小型機ながら本格的な研究が可能です。STMなどの...


株式会社エピクエスト

MBE装置 研究用 RC2100

210人以上が見ています

最新の閲覧: 13時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間

ハイグレードな研究に。より高度な研究から、準生産用に最適なMBE装置です。標準Ⅲ-Ⅴ族用に加え、Ⅱ-Ⅵ族用、Si系、金属系など種々の材料に...


株式会社エピクエスト

MBE装置 研究用 RC3100

160人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間

ハイグレードな研究に。より高度な研究から、準生産用に最適なMBE装置です。標準Ⅲ-Ⅴ族用に加え、Ⅱ-Ⅵ族用、Si系、金属系など種々の材料に...


株式会社エピクエスト

MBE装置 研究用・準生産用 RC6100

180人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間

生産用に。高度な分子線シュミレーション技術を駆使し設計されたセル基板装置より、大面積ホルダ (Φ8"以上) に高均一 (±1%以下) な結晶...


株式会社昭和真空

真空蒸着装置 SEC-22C

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■金属蒸着のスタンダードモデル φ4インチ及びφ6インチウエハに対して電極膜及び酸化膜の成膜が可能です。蒸着物のウエハへの入射角が垂...


株式会社昭和真空

小型真空蒸着装置 SEC-06D

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■金属薄膜用蒸着装置のコンパクトモデル 抵抗加熱式蒸発源もしくは電子ビーム蒸発源による金属材料の成膜が可能です。研究開発・小ロッ...


株式会社昭和真空

小型真空蒸着装置 SEC-08C

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■金属薄膜用蒸着装置のコンパクトモデル 抵抗加熱式蒸発源もしくは電子ビーム蒸発源による金属材料の成膜が可能です。研究開発・小ロッ...


株式会社昭和真空

AuSn蒸着装置 SEC-S900C

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■Au/Snの2元同時蒸着が可能な蒸着装置 2元同時蒸着によりAu/Snの組成比管理及び膜厚管理が可能です。また、基板冷却機構及び間欠成膜機...


株式会社昭和真空

耐プラズマ膜用蒸着装置 SEC-S1300i

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■耐腐食性の高いY₂O₃厚膜を成膜し、シールド膜の形成が可能 耐プラズマ膜 (Y₂O₃膜) の厚膜成膜が可能です。イオンアシスト蒸着 (IAD:Io...


株式会社昭和真空

アーク放電型イオンプレーティング装置 SIA-400T

10人以上が見ています

■表面硬化膜形成用/少量生産機・実験機に最適 アーク放電型カソードを搭載したイオンプレーティング装置です。TiN、TiAlN硬化膜の成膜...


株式会社昭和真空

ロードロック式 スパッタリング装置 SPH-2500T-Ⅱ

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■二種類の膜を両面に成膜可能なスパッタリング装置 本装置は水晶振動子のベース電極成膜を目的として開発したロードロック式スパッタリ...


株式会社昭和真空

ロードロック式通過型スパッタリング装置 SPH-2410-Ⅱ

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■二種類の膜を両面に成膜可能なスパッタリング装置 本装置は水晶振動子のベース電極成膜を目的として開発したロードロック式通過型スパ...


株式会社昭和真空

ロードロック式カルーセル型スパッタリング装置 SPC-2507-Ⅱ

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■二種類の膜を片面ずつ成膜可能なスパッタリング装置 基板反転機構を利用し両面成膜機構を採用した小型カルーセル式スパッタリング装置...


株式会社昭和真空

カルーセル型高速スパッタ重合装置 SPP-155TC

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■小ロット・短いサイクルタイムで回せるスパッタリング装置 本装置は大型の製品にスパッタ・重合成膜が可能にもかかわらずハイサイクル...


株式会社昭和真空

射出成型機連動型高速スパッタ・重合システム SPP Series

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能 射出成型機と本装置を連動させて成形→金属膜 (Al) →保護膜 (SiOx) を簡単に全自動成膜...


ナノテック株式会社

コーティング装置 小型DLC成膜実験装置 330シリーズ ICF-330

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

弊社のDLC成膜技術をベースに、あらゆる研究開発を目的とする御客様からの要求にお応え出来るように開発された、DLC成膜実験機の最新モ...


株式会社日本シード研究所

複合成膜装置 枚葉式複合成膜装置

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜、抵抗加熱蒸着などの多用...


株式会社日本シード研究所

複合成膜装置 インライン式スパッタ成膜装置

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜に加え、イオ...


株式会社日本シード研究所

複合成膜装置 インライン式複合成膜装置

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜、抵抗加熱蒸着などの多用...


株式会社日本シード研究所

蒸着成膜装置 多元蒸着成膜装置

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・超伝導転移端センサ― (TES) に適合するチタン、金の積層膜を作製することができます。 ・蒸着方式となっており、電子銃、抵抗加...


株式会社日本シード研究所

蒸着成膜装置 抵抗加熱式蒸着装置

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・抵抗加熱式の蒸着装置となっており、金属膜、有機膜を作製することができます。 ・直感的に操作が行える手動装置の為、簡易的な...


株式会社日本シード研究所

蒸着成膜装置 超高真空蒸着装置

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・抵抗加熱式の蒸着装置となっており、高真空領域で単結晶膜を作製することができます。 ・基板上に平滑な金の (111) 面を形成す...


株式会社日本シード研究所

スパッタ成膜装置 ロードロック式スパッタ成膜装置

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜法を活かした高品質・高機...


株式会社日本シード研究所

スパッタ成膜装置 超高真空スパッタ成膜装置

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・斜入射レイアウトのカソードを備えたスパッタ成膜装置です。 ・最大3式のカソードを構成することができ、試料交換室、トランス...


株式会社日本シード研究所

スパッタ成膜装置 縦型スパッタ成膜装置

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・プレーナーカソードを備えた縦型スパッタ成膜装置です。 ・長尺物や立体物、処理数量の多い試料に対して均一性の高い成膜が行え...


株式会社日本シード研究所

スパッタ成膜装置 インライン式超高真空スパッタ成膜装置

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。 ・トランスファーロッドによ...


株式会社日本シード研究所

CVD装置 プラズマCVD装置

20人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

■概要 ・容量結合型プラズマ方式のCVD装置です。 ・加熱機構を備えており、任意の温度に基板を加熱して成膜することが可能です。 ・直感...


株式会社日本シード研究所

CVD装置 金属熱CVD装置

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・コールドウォール式の熱CVD装置です。最高800℃の加熱制御が行えます。 ・成膜基板およびその近傍を加熱する構造の為、原料を効...


株式会社日本シード研究所

CVD装置 熱CVD装置

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 ・ホットウォール式の熱CVD装置です。最高900℃の加熱制御が行えます。 ・石英ガラス等の管状炉になっています。 ・化合物半導体の...


株式会社シンクロン

半導体、電子部品、PIC市場向け クラスタ型枚葉スパッタリング装置 SCP-SX

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■特徴 ・高精度な結晶性薄膜の成膜が低温プロセスで可能 ・成膜条件や材料に応じた最適なカソード位置・角度での成膜が可能 ・CtoC機能...


株式会社シンクロン

半導体、電子市場向けクラスター型RAS方式成膜装置 SCP-BT

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

■概要 半導体・電子市場に適したCtoC対応クラスター型RAS方式成膜装置 ■特徴 ・ロードロック構造により高スループットで誘電体成膜を実...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 OTFC-900CBI/DBI

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 OTFC-1100CBI/DBI

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 OTFC-1300CBI/DBI

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 OTFC-1550CBI/DBI

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 OTFC-1800CBI/DBI

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 Gener-1300

30人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

本装置は反射防止膜を大量生産するために設計製作された光学薄膜形成装置です。 ■特長 ・ドーム回転は磁気シール駆動による中心回転方...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 Gener-2350

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

本装置は防汚膜 (AS) 、反射防止膜 (AR) だけでなく、両者を組み合せた成膜 (AR+AS) に特化した大型光学薄膜形成装置です。 ■特長 ・ド...


株式会社オプトラン

イオンアシスト蒸着装置 Gener-2750

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

Gener-2750は加飾膜、反射防止膜 (AR) 、防汚膜 (AS) を成膜する大型IAD装置です。 ■特長 ・ドーム径φ2,640 ・高いスループット・大量...


株式会社オプトラン

リアクティブプラズマ蒸着装置 RPD-1000 (ITO/AlN)

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

RPDシリーズは、高性能なLED 機能性膜 (ITO/AlN) を低コストにて量産することができる反応性プラズマ成膜装置です。 ■特長 ・反応性プ...


株式会社オプトラン

メタルモードスパッタ装置 NSC-15

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

NSC-15はメタル (金属) モード・スパッタリング法と高反応性プラズマ源を組み合せた量産用光学薄膜スパッタ装置です。高スループットを...


株式会社オプトラン

メタルモードスパッタ装置 NSC-2350

10人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

NSC-2350は大型基板に対応した光学薄膜用メタルモード・スパッタ装置です。モバイル端末や車載パネルのAR+AS膜の生産に適しています。 ...


株式会社オプトラン

メタルモードスパッタ装置 OWLS-1800

20人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

OWLS-1800は半導体光学に向け、新たに開発した水平型メタルモード・スパッタ成膜装置です。最大12インチのウェハーに対応し、両面同時成...


株式会社オプトラン

原子層堆積装置 ALDER-800P

20人以上が見ています

ALDER-800Pはプラスチック基板への光学多層成膜を可能としたプラズマALD装置です。 ■特長 ・レンズ全周や3D構造物へのコンフォーマル成...


株式会社オプトラン

原子層堆積装置 ALDER-1000

20人以上が見ています

ALDER-1000は従来の成膜手法では成しえなかった光学特性を実現します。立体形状への成膜が可能で、カメラレンズへのAR膜はゴースト・フ...


株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D中型機仕様 PBII―C600

20人以上が見ています

■概要 サイズがコンパクトの為、試験片作製や基礎データ採取に最適な装置になっております。真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮...


株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 中型機仕様 PBII―C2000

10人以上が見ています

■概要 真空装置の長さが約2m、径が1.2mと大きいため、大型ワークへのコーティングも可能です。重量物運搬用に自動搬送台車もオプション...


株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450

10人以上が見ています

■概要 サイズがコンパクトの為、試験片作成や基礎データ採取に最適な装置になっております。真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮...


株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 標準機仕様 PBII―R1000

20人以上が見ています

■概要 取り扱いが容易なサイズの為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。


株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 標準大型機仕様 PBII―R1500

10人以上が見ています

■概要 R1000の約4倍の容積を持つ大型機です。R1000と同様の使い易さで大型・長尺ワークへの成膜も可能です。


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