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成膜装置のメーカー32社一覧や企業ランキングを掲載中!成膜装置関連企業の2025年7月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:ジオマテック株式会社となっています。 成膜装置の概要、用途、原理もチェック!
成膜装置とは、その名の通り膜を作成するための装置のことです。
薄膜の厚さや純度、有機物・無機物に応じて、さまざまな種類の成膜装置が開発されており、例えば半導体関連の材料のように高純度で均一な膜が必要な場合は、高真空の成膜装置が利用されます。
一方、フィルムのような大面積で大量生産が求められる製品に対しては、ロールトゥロール式やバッチ式などの方法が選択されます。また、溶液を乾燥させて成膜する際には、スピンコート式やインクジェット式といった装置が活用され、溶液を塗布した後、乾燥させて成膜を行うことが可能です。
成膜装置は、用途や条件に応じて適切なタイプを選択することが重要です。その選択によって、より効率的で高品質な製品の開発が可能となります。
2025年7月の注目ランキングベスト10
順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | ジャパンクリエイト株式会社 |
18.5%
|
2 | 新明和工業株式会社 |
11.8%
|
3 | ジオマテック株式会社 |
9.2%
|
4 | 住友精密工業株式会社 |
5.9%
|
5 | 長州産業株式会社 |
5.0%
|
6 | JSWアフティ株式会社 |
5.0%
|
7 | 株式会社オプトラン |
4.2%
|
8 | 株式会社シンクロン |
4.2%
|
9 | 大亜真空株式会社 |
3.4%
|
10 | 株式会社トヤマ |
3.4%
|
項目別
使用用途
#半導体製造
#光学部品製造
#太陽電池製造
#表面改質
#機能性材料研究
成膜方式
蒸着法
スパッタリング法
CVD法
ALD法
構成環境
真空型
低圧型
プラズマ利用有無
プラズマ無し
プラズマ援用型
高周波プラズマ型
基板搬送方式
固定基板型
回転基板型
到達圧力 Pa
0 - 0.01
0.01 - 1
1 - 10
基板サイズ mm
25 - 50
50 - 100
100 - 150
150 - 200
設置面積 m²
5 - 10
10 - 20
所要電力 kVA
10 - 15
15 - 20
20 - 25
25 - 30
30 - 35
真空槽 mm
500 - 800
800 - 1,000
基板バイアス V
0 - 5,000
5,000 - 25,000
71 点の製品がみつかりました
71 点の製品
ナノテック株式会社
930人以上が見ています
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ダイヤモンドの性質に近い高硬度 (マイクロビッカース硬度2,000~4, 000) 、低摩擦係数 (μ=0.2以下) 、表面平滑性及び耐溶着性・離...
3種類の品番
ナノテック株式会社
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DLCを含む高機能性を持つカーボン膜による超鏡面性,導電性,耐熱性,撥水性,アルミニウム合金用,光学用,絶縁性,環境調和型を付与したコー...
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ナノテック株式会社
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低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC) 膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の...
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ナノテック株式会社
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イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータ...
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株式会社メディア研究所
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■概要 数多くの真空スパッタリング装置が太陽電池製造産業で稼働しており、SINGULUSTECHNOLOGIES社は 水平基板輸送を備えたハイスループ...
アリオス株式会社
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■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しま...
アリオス株式会社
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■概要 本装置は、ダイヤモンド合成を本格的に行うためのホットフィラメント型CVD装置です。基本システムに加え各種オプションを選択する...
アリオス株式会社
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■概要 小型スパッタ装置 SS-DC RF301 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色...
アリオス株式会社
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■概要 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色は、基板に飛来する粒子が比較...
アリオス株式会社
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■概要 本装置は、試料の表面に均一に成膜させるため、ドラム型の試料ホルダに試料を入れ、回転させながら成膜を行います。試料ホルダの...
テルモセラ・ジャパン株式会社
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■MiniLab ʻPlug & Playʼ 感覚でコンポーネントを組合せるモジュラーデザイン。必要な成膜条件を満たす専用機のセミカスタムメイドが可能...
テルモセラ・ジャパン株式会社
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特徴 ■高品質膜 研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を揃えます。nanoシリーズは魂魄と...
タツタ電線株式会社
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コールドスプレーは、従来の溶射と比べて粒子温度が低く固相のまま成膜する技術です。これにより粉体の物理特性を維持し、かつ信頼性の...
株式会社エピクエスト
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パーソナルユースに。低価格、省スペース、しかも高性能を実現した研究用MBE装置です。小型機ながら本格的な研究が可能です。STMなどの...
株式会社エピクエスト
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ハイグレードな研究に。より高度な研究から、準生産用に最適なMBE装置です。標準Ⅲ-Ⅴ族用に加え、Ⅱ-Ⅵ族用、Si系、金属系など種々の材料に...
株式会社エピクエスト
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ハイグレードな研究に。より高度な研究から、準生産用に最適なMBE装置です。標準Ⅲ-Ⅴ族用に加え、Ⅱ-Ⅵ族用、Si系、金属系など種々の材料に...
株式会社エピクエスト
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生産用に。高度な分子線シュミレーション技術を駆使し設計されたセル基板装置より、大面積ホルダ (Φ8"以上) に高均一 (±1%以下) な結晶...
株式会社昭和真空
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■金属蒸着のスタンダードモデル φ4インチ及びφ6インチウエハに対して電極膜及び酸化膜の成膜が可能です。蒸着物のウエハへの入射角が垂...
株式会社昭和真空
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■金属薄膜用蒸着装置のコンパクトモデル 抵抗加熱式蒸発源もしくは電子ビーム蒸発源による金属材料の成膜が可能です。研究開発・小ロッ...
株式会社昭和真空
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■金属薄膜用蒸着装置のコンパクトモデル 抵抗加熱式蒸発源もしくは電子ビーム蒸発源による金属材料の成膜が可能です。研究開発・小ロッ...
株式会社昭和真空
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■Au/Snの2元同時蒸着が可能な蒸着装置 2元同時蒸着によりAu/Snの組成比管理及び膜厚管理が可能です。また、基板冷却機構及び間欠成膜機...
株式会社昭和真空
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■耐腐食性の高いY₂O₃厚膜を成膜し、シールド膜の形成が可能 耐プラズマ膜 (Y₂O₃膜) の厚膜成膜が可能です。イオンアシスト蒸着 (IAD:Io...
株式会社昭和真空
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■表面硬化膜形成用/少量生産機・実験機に最適 アーク放電型カソードを搭載したイオンプレーティング装置です。TiN、TiAlN硬化膜の成膜...
株式会社昭和真空
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■二種類の膜を両面に成膜可能なスパッタリング装置 本装置は水晶振動子のベース電極成膜を目的として開発したロードロック式スパッタリ...
株式会社昭和真空
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■二種類の膜を両面に成膜可能なスパッタリング装置 本装置は水晶振動子のベース電極成膜を目的として開発したロードロック式通過型スパ...
株式会社昭和真空
20人以上が見ています
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■二種類の膜を片面ずつ成膜可能なスパッタリング装置 基板反転機構を利用し両面成膜機構を採用した小型カルーセル式スパッタリング装置...
株式会社昭和真空
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■小ロット・短いサイクルタイムで回せるスパッタリング装置 本装置は大型の製品にスパッタ・重合成膜が可能にもかかわらずハイサイクル...
株式会社昭和真空
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■樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能 射出成型機と本装置を連動させて成形→金属膜 (Al) →保護膜 (SiOx) を簡単に全自動成膜...
ナノテック株式会社
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弊社のDLC成膜技術をベースに、あらゆる研究開発を目的とする御客様からの要求にお応え出来るように開発された、DLC成膜実験機の最新モ...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜、抵抗加熱蒸着などの多用...
株式会社日本シード研究所
20人以上が見ています
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■概要 ・超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜に加え、イオ...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜、抵抗加熱蒸着などの多用...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・超伝導転移端センサ― (TES) に適合するチタン、金の積層膜を作製することができます。 ・蒸着方式となっており、電子銃、抵抗加...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・抵抗加熱式の蒸着装置となっており、金属膜、有機膜を作製することができます。 ・直感的に操作が行える手動装置の為、簡易的な...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・抵抗加熱式の蒸着装置となっており、高真空領域で単結晶膜を作製することができます。 ・基板上に平滑な金の (111) 面を形成す...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜法を活かした高品質・高機...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・斜入射レイアウトのカソードを備えたスパッタ成膜装置です。 ・最大3式のカソードを構成することができ、試料交換室、トランス...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・プレーナーカソードを備えた縦型スパッタ成膜装置です。 ・長尺物や立体物、処理数量の多い試料に対して均一性の高い成膜が行え...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。 ・トランスファーロッドによ...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・容量結合型プラズマ方式のCVD装置です。 ・加熱機構を備えており、任意の温度に基板を加熱して成膜することが可能です。 ・直感...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・コールドウォール式の熱CVD装置です。最高800℃の加熱制御が行えます。 ・成膜基板およびその近傍を加熱する構造の為、原料を効...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・ホットウォール式の熱CVD装置です。最高900℃の加熱制御が行えます。 ・石英ガラス等の管状炉になっています。 ・化合物半導体の...
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株式会社シンクロン
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■概要 半導体・電子市場に適したCtoC対応クラスター型RAS方式成膜装置 ■特徴 ・ロードロック構造により高スループットで誘電体成膜を実...
株式会社オプトラン
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OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
株式会社オプトラン
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OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
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OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
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OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
株式会社オプトラン
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本装置は反射防止膜を大量生産するために設計製作された光学薄膜形成装置です。 ■特長 ・ドーム回転は磁気シール駆動による中心回転方...
株式会社オプトラン
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本装置は防汚膜 (AS) 、反射防止膜 (AR) だけでなく、両者を組み合せた成膜 (AR+AS) に特化した大型光学薄膜形成装置です。 ■特長 ・ド...
株式会社オプトラン
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Gener-2750は加飾膜、反射防止膜 (AR) 、防汚膜 (AS) を成膜する大型IAD装置です。 ■特長 ・ドーム径φ2,640 ・高いスループット・大量...
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RPDシリーズは、高性能なLED 機能性膜 (ITO/AlN) を低コストにて量産することができる反応性プラズマ成膜装置です。 ■特長 ・反応性プ...
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NSC-15はメタル (金属) モード・スパッタリング法と高反応性プラズマ源を組み合せた量産用光学薄膜スパッタ装置です。高スループットを...
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NSC-2350は大型基板に対応した光学薄膜用メタルモード・スパッタ装置です。モバイル端末や車載パネルのAR+AS膜の生産に適しています。 ...
株式会社オプトラン
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OWLS-1800は半導体光学に向け、新たに開発した水平型メタルモード・スパッタ成膜装置です。最大12インチのウェハーに対応し、両面同時成...
株式会社オプトラン
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ALDER-800Pはプラスチック基板への光学多層成膜を可能としたプラズマALD装置です。 ■特長 ・レンズ全周や3D構造物へのコンフォーマル成...
株式会社オプトラン
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ALDER-1000は従来の成膜手法では成しえなかった光学特性を実現します。立体形状への成膜が可能で、カメラレンズへのAR膜はゴースト・フ...
株式会社栗田製作所
20人以上が見ています
■概要 サイズがコンパクトの為、試験片作製や基礎データ採取に最適な装置になっております。真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮...
株式会社栗田製作所
10人以上が見ています
■概要 真空装置の長さが約2m、径が1.2mと大きいため、大型ワークへのコーティングも可能です。重量物運搬用に自動搬送台車もオプション...
株式会社栗田製作所
10人以上が見ています
■概要 サイズがコンパクトの為、試験片作成や基礎データ採取に最適な装置になっております。真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮...
株式会社栗田製作所
20人以上が見ています
■概要 取り扱いが容易なサイズの為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
株式会社栗田製作所
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■概要 R1000の約4倍の容積を持つ大型機です。R1000と同様の使い易さで大型・長尺ワークへの成膜も可能です。
成膜装置とは、その名の通り膜を作成するための装置のことです。
薄膜の厚さや純度、有機物・無機物に応じて、さまざまな種類の成膜装置が開発されており、例えば半導体関連の材料のように高純度で均一な膜が必要な場合は、高真空の成膜装置が利用されます。
一方、フィルムのような大面積で大量生産が求められる製品に対しては、ロールトゥロール式やバッチ式などの方法が選択されます。また、溶液を乾燥させて成膜する際には、スピンコート式やインクジェット式といった装置が活用され、溶液を塗布した後、乾燥させて成膜を行うことが可能です。
成膜装置は、用途や条件に応じて適切なタイプを選択することが重要です。その選択によって、より効率的で高品質な製品の開発が可能となります。
高純度金属酸化物用の成膜装置は、半導体部品など高純度で薄く均一な金属酸化物の成膜に適しており、高真空の成膜装置が用いられます。また、車のヘッドランプやカメラレンズなど、光の反射を抑制する薄い金属反射膜を表面に成膜する際にも同様の装置が利用可能です。
一方、樹脂フィルムや薄い金属箔など大量生産が求められる製品には、ロールトゥロール式やバッチ式などの成膜装置が適しています。これらの製品はマイクロメートルオーダーの厚みを持ちます。
また、有機EL材料などのプリンテッドエレクトロニクスと呼ばれる有機半導体薄膜は、インクジェット式の成膜装置で作られます。
成膜装置には、高真空成膜装置とロールトゥロール法などの大量生産用成膜装置があります。
高真空の成膜装置は、物理的気相成長法 (PVD) と化学的気相成長法 (CVD) の2種類があります。PVD法には蒸着法とスパッタリング法があり、方法は多種多様です。蒸着法では、膜の材料を加熱して揮発させ、装置上部に取り付けた基板に付着させて膜を成長させます。
スパッタリング法では、電圧によって加速した粒子を膜の材料にぶつけて飛ばし、飛んだ粒子が装置上部に取り付けた基板に付着して膜を成長させます。いずれの方法も、高真空条件で大気中に含まれる酸素などが膜に入らないようにすることで、高純度な膜を得ることが可能です。
ロールトゥロール法とは、ロール状に巻いた基板を回転させながらその上に膜を塗っていく方法です。大量生産や大面積の膜の製造に向いています。
均一な膜を作るためには、サンプル溶液の粘度を一定の範囲に収める必要があります。この粘度は回転数やサンプルの物性によって異なるため、成膜条件の検討の際はサンプルの粘度も考慮することが大切です。
成膜装置と併用される機械として、真空ポンプ、基板ヒーター、エッチング装置、検査装置の4種類が挙げられます。
1. 真空ポンプ
成膜装置では、高純度な膜を作成するために高真空状態が必要です。真空ポンプは、成膜装置内の空気を抜き取って高真空状態を作り出す役割を果たしています。不純物が膜に混入することを防ぎ、品質の高い膜が作成できます。
2. 基板ヒーター
基板ヒーターは、成膜過程で使用される基板の温度を調整する機械です。成膜に適した温度に基板を加熱することで、膜の密着性や均一性が向上し、より高品質な膜が得られます。
3. エッチング装置
成膜後の基板には、所定の形状やパターンを形成するためにエッチングが必要です。エッチング装置は、薬液やプラズマを用いて膜の一部を選択的に除去する機能を持っています。微細な回路パターンなどが形成されることになります。
4. 検査装置
成膜が完了した後には、品質検査が重要です。検査装置は、膜の厚さ、均一性、密着性などの品質を確認するために使用されます。不良品の早期発見や製造プロセスの改善が可能となり、全体の生産効率が向上します。