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成膜装置 メーカー34社

成膜装置のメーカー34社一覧企業ランキングを掲載中!成膜装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:長州産業株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:ジャパンクリエイト株式会社となっています。 成膜装置の概要、用途、原理もチェック!

34成膜装置メーカー

成膜装置 2025年8月のメーカーランキング


業界別

🧪 化学 💻 電子・電気機器

項目別

使用用途

#半導体製造

#光学部品製造

#太陽電池製造

#ディスプレイ製造

#電池材料開発

#センサ開発

#薄膜トランジスタ開発

#表面改質

#機能性材料研究

#MEMS製造

#医療機器製造

#材料評価

成膜方式

蒸着法

スパッタリング法

CVD法

溶液法

構成環境

真空型

低圧型

プラズマ利用有無

プラズマ無し

プラズマ援用型

高周波プラズマ型

基板搬送方式

回転基板型

ロール搬送型

到達圧力 Pa

0 - 0.01

0.01 - 1

1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50

50 - 100

100 - 150

150 - 200

200 - 300

300 - 400

設置面積 m²

1 - 5

5 - 10

所要電力 kVA

10 - 15

15 - 20

真空槽 mm

500 - 800

基板バイアス V

0 - 5,000

5,000 - 25,000

42 点の製品がみつかりました

42 点の製品

ナノテック株式会社

ICF成膜装置

1200人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

DLCを含む高機能性を持つカーボン膜による超鏡面性,導電性,耐熱性,撥水性,アルミニウム合金用,光学用,絶縁性,環境調和型を付与したコー...


ナノテック株式会社

マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>

840人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC) 膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の...


ナノテック株式会社

PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>

970人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータ...


ジャパンクリエイト株式会社

圧電膜形成スパッタリング装置

化学業界用 電子・電気機器業界用

450人以上が見ています

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

114.9時間 返答時間

■特徴 ・単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜が可能 ・プラズマエミッションモニターを搭載により圧電特性低下に寄与...


ハイソル株式会社

卓上型シランCVD成膜装置 EcoCoat (エココート)

590人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

29.2時間 返答時間

プラズマ洗浄~ワーク脱水 (デハイドレーション) ~シランCVD~ガス排出までチャンバー内で自動一括処理できる、R&D向けの卓上型シランC...


ハイソル株式会社

卓上型真空ベーク・HMDS蒸着装置 310TA

630人以上が見ています

最新の閲覧: 18時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

29.2時間 返答時間

本装置はHMDS (ヘキサメチルジシラザン) の蒸着成膜 (ベーパープライミング) に特化しており、装置の各種パラメータはあらかじめHMDS専...


ハイソル株式会社

卓上型真空ベーク・HMDS蒸着装置 58TA

400人以上が見ています

最新の閲覧: 11時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

29.2時間 返答時間

本装置はHMDS (ヘキサメチルジシラザン) の蒸着成膜 (ベーパープライミング) に特化しており、装置の各種パラメータはあらかじめHMDS専...


北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機EL成膜・評価装置Ⅰ OED R&D SystemⅠ

430人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1~3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド...


北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機EL成膜・評価装置Ⅱ OED R&D SystemⅡ

410人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1~3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド...


北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 UHV対応型有機EL成膜・評価装置Ⅲ OED R&D SystemⅢ

350人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■蒸着室/特徴 ・超高真空蒸着 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大9本取付可能 ・基盤サイズ1~3インチと幅広く選択が可能 ・...


北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機薄膜簡易蒸着装置 OTFS R&D System

430人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1~3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド...


北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.2

410人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・有機材料と金...


北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.3

400人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・有機材料と金...


北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.Cluster

450人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・3軸ロボット機...


北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.1

350人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・搬送機構にて...


北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料高速成膜装置

270人以上が見ています

最新の閲覧: 16時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■特徴 有機EL、有機薄膜太陽電池、有機トランジスタなどの材料開発用実験システムから小規模生産用クラスターシステム、量産対応のイン...


北野精機株式会社

蒸着用成膜コントローラー TMC-13

270人以上が見ています

最新の閲覧: 10時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■概要 TMC-13は、標準6MHz水晶振動子に対応した膜厚モニターとなります。操作は、液晶タッチパネルから可能であり、シンプルでコンパク...


北野精機株式会社

薄膜作製装置 PVD装置 ハイブリッド蒸着装置

410人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■特徴 本装置はPVD手法からなるマグネトロンスパッタ源4個とEB蒸着源2個とMBE用K-CELL装備したハイブリッド型蒸着装置です。高融点材料...


株式会社メディア研究所

MRAM/TMR成膜装置 TIMARIS

200人以上が見ています

最新の閲覧: 14分前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

13.6時間 返答時間

■特徴 ・Ø150/200/300mmウェハ対応ブリッジツールコンセプト ・1デポジションモジュールに10カソード ・直線動作中にデポを行うリニアダ...


入江株式会社

真空乾燥装置・真空ベーキング装置 研究開発用成膜装置 キット

170人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の早い企業

4.7 会社レビュー

100.0% 返答率

11.1時間 返答時間

スパッタリング、蒸着装置、プラズマ処理装置 (表面改質、有機物除去等) を低コストでお探しの方に最適です。研究開発用として必要な分...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-3100

360人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-3200

310人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-3300

290人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-2100

290人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-2200

270人以上が見ています

最新の閲覧: 10時間前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-2300

280人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-1100

290人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


株式会社C&Vテクニクス

成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-1200

260人以上が見ています

最新の閲覧: 45分前

100.0% 返答率

75.6時間 返答時間

■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...


アリオス株式会社

ダイヤモンド合成用MP-CVD装置 DCVD-301B/601B

550人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.2時間 返答時間

■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しま...


アリオス株式会社

ダイヤモンド合成用HF-CVD装置 HFCVDシリーズ

410人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.2時間 返答時間

■概要 本装置は、ダイヤモンド合成を本格的に行うためのホットフィラメント型CVD装置です。基本システムに加え各種オプションを選択する...


アリオス株式会社

プラズマCVD実験装置 PCVD-R100

400人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.2時間 返答時間

■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分...


アリオス株式会社

スパッタ装置

340人以上が見ています

最新の閲覧: 16時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.2時間 返答時間

■概要 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色は、基板に飛来する粒子が比較...


テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-GB】 グローブボックス薄膜実験装置 MiniLab-026-GB

150人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

22.3時間 返答時間

■概要 本装置は、MiniLab シリーズのチャンバー部をグローブボックス作業ベンチ内に、制御ラック部をベンチ下に収納した装置です。スパ...


テルモセラ・ジャパン株式会社

MiniLab series フレキシブル薄膜実験装置

370人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

22.3時間 返答時間

■MiniLab ʻPlug & Playʼ 感覚でコンポーネントを組合せるモジュラーデザイン。必要な成膜条件を満たす専用機のセミカスタムメイドが可能...


テルモセラ・ジャパン株式会社

nano Benchtop series コンパクト薄膜実験装置 nanoシリーズ

150人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

22.3時間 返答時間

特徴 ■高品質膜 研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を揃えます。nanoシリーズは魂魄と...


株式会社エピクエスト

MBE装置 小型研究用 RC1100

440人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

パーソナルユースに。低価格、省スペース、しかも高性能を実現した研究用MBE装置です。小型機ながら本格的な研究が可能です。STMなどの...


株式会社エピクエスト

MBE装置 研究用 RC2100

240人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

ハイグレードな研究に。より高度な研究から、準生産用に最適なMBE装置です。標準Ⅲ-Ⅴ族用に加え、Ⅱ-Ⅵ族用、Si系、金属系など種々の材料に...


株式会社エピクエスト

MBE装置 研究用 RC3100

180人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

ハイグレードな研究に。より高度な研究から、準生産用に最適なMBE装置です。標準Ⅲ-Ⅴ族用に加え、Ⅱ-Ⅵ族用、Si系、金属系など種々の材料に...


株式会社エピクエスト

MBE装置 研究用・準生産用 RC6100

200人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

生産用に。高度な分子線シュミレーション技術を駆使し設計されたセル基板装置より、大面積ホルダ (Φ8"以上) に高均一 (±1%以下) な結晶...


株式会社エピクエスト

液体原料供給MOCVD装置 小型研究用 MPC1100V

120人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間


株式会社エピクエスト

液体原料供給MOCVD装置 研究用 MPC2100H

120人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間


株式会社エピクエスト

液体原料供給MOCVD装置 研究用・準生産用 MPC6100

120人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間


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