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1,338 点の製品中 7ページ目

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ナノベストジャパン株式会社

洗浄 除菌 消臭同時にできる 光触媒洗浄剤

90人以上が見ています

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返信のとても早い企業

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アパタイト被膜二酸化チタン、炭酸塩、クエン酸、天然油脂の混合物から出来ており、活性酸素を放出します。二酸化炭素、水、酸素に分解することにより、汚れ...

8種類の品番

洗浄 除菌 消臭同時にできる 光触媒洗浄剤
洗浄 除菌 消臭同時にできる 光触媒洗浄剤

株式会社マイクロフェーズ

CVD装置 汎用CVD装置 MPCVD-50

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CNT合成,カーボン成膜,ナノセラミック成膜,窒化,カルコゲナイド成膜等に ■目的 CNTを合成したり、粉体試料にカーボンを成膜したり、各種CVD成膜するための汎...

株式会社ダックス

Intel Atom®プロセッサーE3900シリーズ搭載 3.5inchエンベデッドCPUボード

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Intel Atom®プロセッサーE3900シリーズ搭載で、小型ながら高いパフォーマンスを持つ組込み用シングルボードコンピュータです。 比較的ローコストでゲートウ...

3種類の品番

Intel Atom®プロセッサーE3900シリーズ搭載 3.5inchエンベデッドCPUボード
Intel Atom®プロセッサーE3900シリーズ搭載 3.5inchエンベデッドCPUボード
Intel Atom®プロセッサーE3900シリーズ搭載 3.5inchエンベデッドCPUボード

イーアールエス株式会社

ウェハ用機器 リングフレーム再使用の省人化に 全自動リングクリーナー RC-250

530人以上が見ています

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評判の良い企業

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■概要 良品チップを取除いたリングフレームからダイシングテープを剝し、リングフレームの表面を拭き、洗浄後、向きを揃え回収エリアに段積みする全自動装置...

3種類の品番

ウェハ用機器 リングフレーム再使用の省人化に 全自動リングクリーナー RC-250
ウェハ用機器 リングフレーム再使用の省人化に 全自動リングクリーナー RC-250
ウェハ用機器 リングフレーム再使用の省人化に 全自動リングクリーナー RC-250

株式会社豊港

GaN-on-Sapphire BGR Micro LED EpiWafer

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当社はGaN(窒化ガリウム)基板、GaNテンプレート、Power用エピウェーハ、RGB Micro LED Epiウェーハ、Hybrid Integrated RGB Micro LEDチップなど、最先端の...

6種類の品番

GaN-on-Sapphire BGR Micro LED EpiWafer
GaN-on-Sapphire BGR Micro LED EpiWafer
GaN-on-Sapphire BGR Micro LED EpiWafer
GaN-on-Sapphire BGR Micro LED EpiWafer
GaN-on-Sapphire BGR Micro LED EpiWafer
GaN-on-Sapphire BGR Micro LED EpiWafer

ハイソル株式会社

ボールボンディング用キャピラリー

410人以上が見ています

最新の閲覧: 23時間前

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新しい実装技術が進んだことでワイヤーボンディング工程におけるボール/ステッチボンドの最適化が求められています。その中でも弊社がご提供するキャピラリー...

3種類の品番

ボールボンディング用キャピラリー
ボールボンディング用キャピラリー
ボールボンディング用キャピラリー

高千穂交易株式会社

MultiFlex®シリーズ MultiFlex®CPU (組み込み用小型CPUモジュール) i.MX-RTベース CPUボード

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■製品概要 2G/3G/4G/マルチフレックスシリーズコンピュータはARMコアテクノロジをベースとしたコンシューマ、インダストリアル、車載まで幅広いアプリケーシ...

3種類の品番

MultiFlex®シリーズ MultiFlex®CPU (組み込み用小型CPUモジュール) i.MX-RTベース CPUボード
MultiFlex®シリーズ MultiFlex®CPU (組み込み用小型CPUモジュール) i.MX-RTベース CPUボード
MultiFlex®シリーズ MultiFlex®CPU (組み込み用小型CPUモジュール) i.MX-RTベース CPUボード

株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャー加熱機構付 CPE-200AHM

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SiO2やSiのエッチングや有機物のアッシングを、加熱することで高速・高効率に。 ■製品概要 ・プラズマエッチャーCPEシリーズに、ステージ加熱付きが新登場 ...

3種類の品番

真空 プラズマエッチャー加熱機構付 CPE-200AHM
真空 プラズマエッチャー加熱機構付 CPE-200AHM
真空 プラズマエッチャー加熱機構付 CPE-200AHM

北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 UHV対応型有機EL成膜・評価装置Ⅲ OED R&D SystemⅢ

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■蒸着室/特徴 ・超高真空蒸着 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大9本取付可能 ・基盤サイズ1~3インチと幅広く選択が可能 ・コンタミを防ぐ2重シー...

2種類の品番

有機EL試作用デバイス製造装置 UHV対応型有機EL成膜・評価装置Ⅲ OED R&D SystemⅢ
有機EL試作用デバイス製造装置 UHV対応型有機EL成膜・評価装置Ⅲ OED R&D SystemⅢ

ヤマナカアドバンスマテリアル株式会社

半導体材料 高純度金属及びその化合物

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蒸着材料・MBE材料・ターゲット材料・化合物半導体材料・光学用材料等、あらゆる用途に合わせた高純度金属をご提供いたします。

株式会社渡辺商行

半導体製造装置 小規模生産・開発用常圧CVD (APCVD) 装置 (D501)

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26.3時間 返答時間

試作・開発・小ロット生産向け NSG (SiO2) /BSG/PSG/BPSG膜成膜用 バッチ式 (複数枚同時処理) APCVD装置 D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン...

2種類の品番

半導体製造装置 小規模生産・開発用常圧CVD (APCVD) 装置 (D501)
半導体製造装置 小規模生産・開発用常圧CVD (APCVD) 装置 (D501)

アスザック株式会社

セラミックス トレイ式標準ハンド UniZac-ObonTM

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■トレイ式標準ハンド 真空下で使用するトレー (ウエハ落とし込み) 式セラミックスハンドです。セラミックスの特性を活かした「耐熱性」や「同型金属製ハンド...

ナガセケムテックス株式会社

フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 2層リフトオフプロセス用下層材料 BLXシリーズ

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92.9時間 返答時間

めまぐるしく進展する昨今の超微細半導体やフラットパネル製造の世界において、その製造プロセスも多様化が進み、適用可能材料の迅速な開発力が必要とされて...

2種類の品番

フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 2層リフトオフプロセス用下層材料 BLXシリーズ
フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 2層リフトオフプロセス用下層材料 BLXシリーズ

株式会社マイクロフェーズ

CVD装置 Si負極材へのCコート用回転CVD装置 MPCVD-Powder

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粉体表面へのカーボンコート/各種熱処理などに ■目的 Siや黒鉛負極粉末試料の表面にカーボン膜をCVDコートするための回転型管状炉CVD装置です。 ■特徴 ・...

株式会社北海光電子

Atomic Layer Deposition (原子層堆積)

320人以上が見ています

■製品概要 真空チャンバー内容基板上に、次のサイクルを繰り返し行うことにより、原子層を一層ずつ積み上げます。 ・ヒートコントロールにより有機金属分子...

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